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有田 誠(ありた まこと) データ更新日:2019.04.11

助教 /  工学研究院 材料工学部門 材料機能工学講座


主な研究テーマ
酸化物薄膜の光学・電気特性

走査型プローブ顕微鏡(SPM)による半導体デバイスの評価
キーワード:酸化物, 半導体, 薄膜, 光学特性, 電気特性, 走査型プローブ顕微鏡
2000.04.
従事しているプロジェクト研究
文部科学省先端研究施設共用促進事業 九州大学 「先端分子技術を核とする九州先端ものづくりセンターの構築」
2010.03~2016.03, 代表者:浅野 種正, システム情報科学研究院情報エレクトロニクス部門.
九州大学教育研究プログラム・研究拠点形成プロジェクト
2008.04~2011.03, 代表者:堀田善治, 九州大学工学研究院.
九州大学ユーザーサイエンス機構 感性材料プロジェクト
2004.04~2009.03, 代表者:安河内 朗, 芸術工学研究院.
研究業績
主要原著論文
1. Fabi Zhang, Haiou Li, Makoto ARITA, Qixin Guo, Ultraviolet detectors based on (GaIn)2O3 films, Optical Materials Express, 10.1364/OME.7.003769, 7, 10, 3769-3779, 2017.10.
2. Rin Haraguchi, Yuuki Yoshimatsu, Takashi Nagaoka, Makoto ARITA, EDALATI KAVEH, Zenji Horita, Electrical resistivity mapping of titanium and zirconium discs processed by high-pressure torsion for homogeneity and phase transformation evaluation, Journal of Materials Science, 10.1007/s10853-017-0916-x, 52, 6778-6788, 2017.02.
3. Fabi Zhang, Makoto ARITA, Xu Wang, Zhengwai Chen, Katsuhiko Saito, Tooru Tanaka, Mitsuhiro Nishio, Qixin Guo, Teruaki Motooka, Toward controlling the carrier density of Si doped Ga2O3 films by pulsed laser deposition, Applied Physics Letters, 10.1063/1.4962463, 109, 102105-1-102105-5, 2016.09.
4. Makoto ARITA, Kazuhisa Torigoe, Takashi Yamauchi, Takashi Nagaoka, Toru Aiso, Yasuhisa Yamashita, Teruaki Motooka, Surface band-bending and Fermi-level pinning in doped Si observed by Kelvin force microscopy, Applied Physics Letters, 10.1063/1.4870419, 104, 132103-1-132103-4, 2014.04, The workfunction change in doped Si was examined using Kelvin force microscopy in a wide range
of doping concentrations from p-type 1019 to n-type 1020 cm3 corresponding to the bulk
Fermi-level positions from near the valence-band top to conduction-band minimum. Experimental
data can be reproduced by model calculations using an appropriate surface-state density composed of
the donor- and acceptor-like gap states. These results indicate that no appreciable surface-band
bending occurs for doping concentrations less than 1014 cm3 while the bending becomes
prominent and the surface Fermi-level is eventually pinned in the midgap region as the concentration
increases to 1020 cm3..
5. Makoto Arita, Yu Tabata, Hiroki Sakamoto and Qixin Guo, Photo-electrochemical Properties of Titanium Dioxide Thin Films Prepared by Reactive RF Sputtering Method, Materials Science Forum , 750, 248, 2013.01.
6. M. Arita, H. Sakamoto, Y. Tabata, Y. Ikoma, M. Masuda, Photo-electrochemical properties of photocatalytic titanium dioxide films prepared by RF magnetron sputtering, Proceedings of International colloquium on “Recent progress in nanofabrications of MEMS and NEMS: Science and innovation technologies”
, 32-35, 2011.03.
7. M. Arita, M. Yamaguchi, and M. Masuda, Electrical and Optical Properties of Germanium-Doped Zinc Oxide Thin Films, Materials Transactions, Vol.45, No.11, (2004) 3180-3183, 2004.11.
8. M. Arita H. Konishi M. Masuda and Y. Hayashi, Effects of protium introduction on electrical and optical properties of tin-germanium oxide thin films, Mater. Trans., 10.2320/matertrans.43.2670, 43, 11, 2670-2672, Vol.43 No.11 pp.26702672-, 2002.11.
9. M. Arita H. Konishi K. Matsuda M. Masuda and Y. Hayashi, Effects of hydrogen introduction on electrical and optical properties of Cd-doped Ge oxide and Zn oxide thin films, Mater. Trans., 10.2320/matertrans.43.1142, 43, 5, 1142-1145, Vol.43 No.5 pp.1142-1145, 2002.05.
10. M. Arita H. Obata T. Hayashi K. Okuno W.M. Shu Y Hayashi, Ion driven permeation of deuterium through iron coated with silicon oxide film, Fusion Technology, 28, 3, 1132-1137, Vol.28 No. pp.1132-1137, 1995.10.
11. M. Arita and Y. Hayashi, Photoelectrochemical properties of anodic oxide film on niobium, Materials Transactions JIM, 35, 4, 233-237, Vol.35 No.4 pp.233-237, 1994.04.
主要総説, 論評, 解説, 書評, 報告書等
1. 有田 誠, 九州大学クリーン実験ステーション, 九州シンクロトロン光研究センター2017年報, 2019.03.
2. 有田 誠, 九州大学クリーン実験ステーション, 九州シンクロトロン光研究センター2016年報, 2018.03.
3. 有田 誠, 九州大学クリーン実験ステーション, 九州シンクロトロン光研究センター2015年報, 2017.03.
主要学会発表等
1. 有田 誠, KPFMにより観察される不純物ドープSiの表面電位とバンド曲がりによるフェルミレベルピンニングの影響, 日本学術振興会ナノプローブテクノロジー第167委員会 第87回研究会, 2017.11.
2. 有田 誠, ケルビンフォース顕微鏡(KFM)による半導体および酸化物の表面電位観察, 応用物理学会関西支部セミナー「表面・界面の顕微分析セミナー」, 2017.03.
3. Makoto ARITA, Surface potential measurement and carrier density estimation for semiconductors by using Kelvin force microscopy, 2017 International Symposium on Advanced Materials and Optoelectronics, 2017.03.
4. Makoto ARITA, Photoinduced surface potential change of TiO2 thin films observed by Kelvin force microscopy, 2015 International Symposium on Advanced Materials and Optoelectronics, 2015.01.
5. 有田 誠, 山内貴志, 文部科学省先端研究基盤共用事業の紹介と利用例
「走査型プローブ顕微鏡(SPM)による材料評価例」
, 26th Tungsten Molybdenum Seminar of JTMIA, 2014.11.
6. 有田 誠, 山内貴志, 本岡輝昭, 齊藤勝彦, 郭其新, ケルビンフォース顕微鏡を用いた材料評価~新機能デバイス創出を目指して~
, 九州シンクロトロン光研究センター合同シンポジウム, 2014.08.
7. Makoto ARITA, Surface band-bending and Fermi-level pinning in doped Si observed by Kelvin force Microscopy
, 2013 International Workshop on Novel Materials , 2013.09.
8. Makoto ARITA, Surface Potential Measurement of Semiconductors using Kelvin Force Microscopy, 2013 International Symposium on Advanced Materials and Synchrotron Light, 2013.05.
9. Makoto Arita, Surface potential measurement on silicon with various doping concentrations using Kelvin force microscopy
, 佐賀大学シンクロトロン光応用研究センター 講演会, 2012.09.
10. M. Arita, Y.Tabata, H. Sakamoto, Q. Guo, Photo-electrochemical Properties of Titanium Dioxide Thin Films Prepared by Reactive RF Sputtering Method, The 8th International Forum on Advanced Materials Science and Technology (IFAMST-2012), 2012.08.
11. Makoto ARITA, Photo-catalytic features and photo-electrochemical properties of titanium dioxide thin films prepared by RF magnetron sputtering, BIT’s 1st Annual World Congress of Nano-S&T, 2011.10.
12. Makoto ARITA, Photo-catalytic and photo-electrochemical properties of titanium dioxide thin films prepared by RF magnetron sputtering method, 2011 Workshop on Advances in Functional Materials, 2011.10.
13. M. Arita, H. Sakamoto, Y. Tabata, Y. Ikoma, and M. Masuda, Photo-electrochemical properties of photocatalytic titanium dioxide films prepared by RF magnetron sputtering, International colloquium on “Recent progress in nanofabrications of MEMS and NEMS: Science and innovation technologies”, 2011.03.
14. 坂本博紀 田端 悠 有田 誠 増田正孝, スパッタリング法により作製した酸化チタン薄膜の光電気化学特性と光触媒活性~活性への影響因子の解明に向けて~, 日本金属学会2010年秋期(第147回)大会, 2010.09.
特許出願・取得
特許出願件数  2件
特許登録件数  0件
学会活動
所属学会名
応用物理学会
プラズマ・核融合学会
軽金属学会
日本金属学会
学会大会・会議・シンポジウム等における役割
2018.08.22~2018.08.25, The 5th International Conference on Nanomechanics and Nanocomposites(ICNN5), 優秀講演審査員.
2018.08.22~2018.08.25, The 5th International Conference on Nanomechanics and Nanocomposites(ICNN5), 座長(Chairmanship).
2018.08.22~2018.08.25, The 5th International Conference on Nanomechanics and Nanocomposites (ICNN5), Local Organizing Committee.
2017.08.09~2017.08.09, 物質・材料研究機構/九州シンクロトロン光研究センター合同シンポジウム 第11回九州シンクロトロン光研究センター研究成果報告会 文部科学省先端研究基盤共用促進事業共用プラットフォーム形成支援プログラム, 九州大学クリーン実験ステーションとしての後援.
2017.06.10~2017.06.10, 日本金属学会九州支部日本鉄鋼協会九州支部軽金属学会九州支部共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2016.08.03~2016.08.03, 第10回九州シンクロ トロン 光研究センター研究成果報告会, 九州大学クリーン実験ステーションとしての後援.
2015.09.02~2015.09.04, 日本工学教育協会第63回年次大会, 実行委員.
2014.06.07~2014.06.07, 日本金属学会九州支部日本鉄鋼協会九州支部軽金属学会九州支部共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2012.08.01~2012.08.04, The 8th International Forum on Advanced Material Science and Technology (IFAMST-8) , Local Organizing Committee.
2012.08.01~2012.08.04, The 8th International Forum on Advanced Materials Science and Technology (IFAMST-2012), 座長(Chairmanship).
2012.06.09~2012.06.09, 日本金属学会日本鉄鋼協会共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2011.11.07~2011.11.09, 日本金属学会2011年秋期(第149回)大会, ポスターセッション審査委員.
2011.06.11~2011.06.11, 日本金属学会日本鉄鋼協会共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2010.11.19~2010.11.22, The International Symposium on Giant Straining Process for Advanced Materials 2010 , organizing comittee.
2010.06.05~2010.06.05, 日本金属学会日本鉄鋼協会共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2009.06.06~2009.06.06, 日本金属学会日本鉄鋼協会共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2008.06.07~2008.06.07, 日本金属学会日本鉄鋼協会共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2007.05.18~2007.05.18, 日本金属学会日本鉄鋼協会共催合同学術講演大会, ポスター審査員.
2003.12.05~2003.12.05, 西日本腐蝕防蝕研究会第146回例会, 座長(Chairmanship).
2003.10.01~2003.10.03, 日本金属学会, 座長(Chairmanship).
学術論文等の審査
年度 外国語雑誌査読論文数 日本語雑誌査読論文数 国際会議録査読論文数 国内会議録査読論文数 合計
2013年度      
2012年度    
2011年度      
2009年度      
2008年度      
2006年度      
2003年度      
その他の研究活動
海外渡航状況, 海外での教育研究歴
Linkoping University, Dept of Physics, Thin Film Division, Sweden, 1997.08~1997.09.
研究資金
科学研究費補助金の採択状況(文部科学省、日本学術振興会)
2018年度~2020年度, 基盤研究(C), 代表, 変調光照射ケルビンフォース顕微鏡による半導体光励起キャリアの動的挙動マッピング.
2014年度~2016年度, 挑戦的萌芽研究, 代表, ケルビンフォース顕微鏡によるナノスケール半導体キャリア濃度分布の定量.
2014年度~2018年度, 基盤研究(S), 分担, 高圧アラトロピーを利用した新組織制御法の確立.
2011年度~2013年度, 挑戦的萌芽研究, 代表, バンドオフセットモジュレーション型高性能透明導電性薄膜の作製.
2009年度~2011年度, 基盤研究(A), 分担, 超親水から超撥水まで濡れ性を制御した高温面上の相変化現象の学理と技術.
2008年度~2009年度, 基盤研究(C), 分担, 高機能超親水性酸化チタン薄膜の作製とその応用に関する研究.
2010年度~2010年度, 基盤研究(C), 代表, 高機能超親水性酸化チタン薄膜の作製とその応用に関する研究.
2004年度~2006年度, 若手研究(B), 代表, プロチウム導入法による透明導電性酸化物薄膜の作製.
2001年度~2002年度, 基盤研究(C), 分担, スパッタ法で作製したチタン酸化物薄膜によるステンレス鋼の高機能化の研究.
1999年度~2000年度, 基盤研究(C), 分担, 水素導入による人工格子膜の磁気特性修飾の研究.
競争的資金(受託研究を含む)の採択状況
2017年度~2018年度, LIXIL住生活財団 調査研究助成, 代表, 多層膜の光干渉を利用した入射角依存-波長選択採光型省エネ窓ガラスコーティングの開発.
2018年度~2018年度, 軽金属奨学会研究補助金, 代表, 巨大歪み加工による純チタンの同素変態制御と高強度化.
2017年度~2017年度, 軽金属奨学会研究補助金, 代表, 巨大歪み加工による純チタンの同素変態制御と高強度化.
2014年度~2015年度, LIXIL住生活財団 調査研究助成, 代表, 住宅用ソーラーパネル表面への 防眩性と防汚性を備えた反射防止型光触媒コーティング技術の開発.
2014年度~2015年度, 独立行政法人新エネルギー・産業技術総合開発機構 平成26年度エネルギー・環境新技術先導プログラム, 分担, 未利用廃熱回収を可能とする温度差を必要としない革新的発電材料の研究開発.
2011年度~2012年度, 財団法人トステム建材産業振興財団第20回(平成23年度)助成, 代表, 省エネルギー住宅のための窓ガラス用波長選択型熱線反射窒化チタンコーティング膜の開発.
2009年度~2009年度, (財)東電記念科学技術研究所の研究助成金, 分担, 希土類元素含有ペロブスカイト型酸化物による熱電材料の開発.
共同研究、受託研究(競争的資金を除く)の受入状況
2017.07~2018.07, 代表, 仕事関数と表面微細組織に関する研究.
2016.07~2017.07, 代表, 仕事関数と表面微細組織に関する研究.
2015.04~2016.03, 代表, 仕事関数と表面微細組成に関する研究.
2014.12~2016.03, 分担, 水素透過膜の特性改善に関する共同研究.
2014.04~2015.03, 代表, 仕事関数と表面微細組成に関する研究.
2010.10~2011.10, 分担, 有機-無機ハイブリッド材料の3次元屈折率制御による新規光機能の創出.
寄附金の受入状況
2017年度, (株)Zemis IDS(アイ デイ エス), 工学研究院研究資金/学術教育研究助成のため.
2017年度, パナソニック株式会社, 工学研究院研究資金/学術教育研究助成のため.
2016年度, (株)Zemis IDS(アイ デイ エス), 工学研究院研究資金/学術教育研究助成のため.
学内資金・基金等への採択状況
2008年度~2011年度, 九州大学教育研究プログラム・研究拠点形成プロジェクト(P & P), 分担, 巨大ひずみによる新機能材料創出.

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pure2017年10月2日から、「九州大学研究者情報」を補完するデータベースとして、Elsevier社の「Pure」による研究業績の公開を開始しました。
 
 
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