| 1. |
Christoph Rademacher, Taukasa Aso, Naoshige Akita, Kazuhiko Fuchikawa, Shigenobu Fujita, Asuka Gomi, Yasushi Kato, Kodai Kimura, Masahiro Kiyosumi, Nobu Miake, Mayoko Nakano, Nao Nakatsuji, Toshifumi Saito, Tatsuyuki Suemune, Yoshitaka Sugimoto, Kumi Takada, Kiriko Toh, Masanori Yanumoto, Etsuko Yoshida, Japanese Design Law and Practice, Kluwer Law International B.V., 329-335, 2021.03. |
| 2. |
麻生典, クリストフ・ラーデマッハ ,ミシェル・ヴィヴァン, アネット・クア,金晙河, 秦玉公, 木村剛大,末宗達行,ライオネル・ペントリー, 渕川和彦, 高秀成,藪本将典,中野万葉子, 高田久実,秋田直繁, 杉本美貴,尾方義人, 見明𣈱,加藤優,ホベルト・カラペト,齋藤俊文, 曽我部春香,藤紀里子, 清須美匡洋,藤田重信,柴田和彦, 藤原拓,知足美加子, 中辻七朗, 伊原久裕, 妹尾武治,伊藤浩史, デザイン保護法制の現状と課題ー法学と創作の視点からー, 日本評論社, 513-529, 2016.12. |
