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１）研究活動概要
半導体産業などの先端産業を支える基盤技術の中にプラズマプロセスがある。プラズマプロセスの発展が半導体産業の発展つながる事から、プラズマプロセスの高精度化が様々角度から進められている。当研究室ではプラズマプロセスの高精度技術の開発と新たな応用展開の開拓を主な課題として、次のような研究を行っている．
・高品質半導体/炭素薄膜プロセスの創成
・プラズマのバイオ応用研究
・高品質半導体/炭素薄膜プロセスの創成
ドライプロセスであるプラズマは、不純物の少ない薄膜堆積法として、現在半導体デバイスや太陽光発電をはじめとする様々な分野で活用されている。次世代デバイスの実現にはプラズマプロセスの高性能化は必須であり、当研究室では、プラズマプロセスの基礎研究と製造技術の開発に世界に先駆けて取り組んでいる。
その関連研究として、プラズマ応用計測技術の開発やプラズマで発生するナノ粒子用いたナノ構造デバイスの創製などを行っている。
・プラズマのバイオ応用研究
プラズマで発生する化学的活性な分子をもちいて生体応答を制御する研究が世界中で活発に研究されている。当研究室では、植物を対象にプラズマ照射による成長促進機構の解明と農業応用を検討している。種子への短時間照射による、成長促進を発見ししている。
その他、プラズマプロセスやプラズマエッチングに深く関与するプラズマシースに励起される非線形現象の研究や、プラズマプロセスの情報学的検討なども行っている。
２）教育活動概要
学部講義・演習と大学院生向け講義を担当している。
