2024/07/28 更新

お知らせ

 

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コガ カズノリ
古閑 一憲
KOGA KAZUNORI
所属
システム情報科学研究院 情報エレクトロニクス部門 教授
プラズマナノ界面工学センター (併任)
工学部 電気情報工学科(併任)
システム情報科学府 電気電子工学専攻(併任)
マス・フォア・イノベーション連係学府 (併任)
職名
教授
連絡先
メールアドレス
プロフィール
1)研究活動概要  半導体産業などの先端産業を支える基盤技術の中にプラズマプロセスがある。プラズマプロセスの発展が半導体産業の発展つながる事から、プラズマプロセスの高精度化が様々角度から進められている。当研究室ではプラズマプロセスの高精度技術の開発と新たな応用展開の開拓を主な課題として、次のような研究を行っている. ・高品質半導体/炭素薄膜プロセスの創成 ・プラズマのバイオ応用研究 ・高品質半導体/炭素薄膜プロセスの創成  ドライプロセスであるプラズマは、不純物の少ない薄膜堆積法として、現在半導体デバイスや太陽光発電をはじめとする様々な分野で活用されている。次世代デバイスの実現にはプラズマプロセスの高性能化は必須であり、当研究室では、プラズマプロセスの基礎研究と製造技術の開発に世界に先駆けて取り組んでいる。  その関連研究として、プラズマ応用計測技術の開発やプラズマで発生するナノ粒子用いたナノ構造デバイスの創製などを行っている。 ・プラズマのバイオ応用研究  プラズマで発生する化学的活性な分子をもちいて生体応答を制御する研究が世界中で活発に研究されている。当研究室では、植物を対象にプラズマ照射による成長促進機構の解明と農業応用を検討している。種子への短時間照射による、成長促進を発見ししている。  その他、プラズマプロセスやプラズマエッチングに深く関与するプラズマシースに励起される非線形現象の研究や、プラズマプロセスの情報学的検討なども行っている。 2)教育活動概要  学部講義・演習と大学院生向け講義を担当している。
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学位

  • 博士(理学)

研究テーマ・研究キーワード

  • 研究テーマ:第4世代プラズマバイオテクノロジーの創成

    研究キーワード:細胞活性制御

    研究期間: 2009年4月

  • 研究テーマ:次世代LSI用低誘電率層間絶縁膜形成技術の開発

    研究キーワード:低誘電率層間絶縁膜

    研究期間: 2002年1月

  • 研究テーマ:プラズマ・カーボン壁相互作用による微粒子形成機構の研究

    研究キーワード:プラズマ・壁相互作用,核融合

    研究期間: 2001年1月

  • 研究テーマ:ナノ粒子を用いたカーボン薄膜の物性制御

    研究キーワード:アモルファスカーボン

    研究期間: 1999年4月

  • 研究テーマ:次世代LSI用銅配線技術の開発

    研究キーワード:銅配線

    研究期間: 1999年4月

  • 研究テーマ:高品質太陽光発電材料の高速製造技術の研究

    研究キーワード:アモルファスシリコン

    研究期間: 1999年4月

  • 研究テーマ:プロセスプラズマ中の微粒子成長機構の解明と成長制御の研究

    研究キーワード:プロセスプラズマ,微粒子

    研究期間: 1999年4月

受賞

  • 第21回プラズマ材料科学賞奨励部門賞

    2020年2月   プラズマ材料科学賞選考委員会  

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    反応性プラズマにおけるナノ粒子成長揺らぎの制御に関する研究

  • 第14回プラズマエレクトロニクス賞

    2016年3月   応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会  

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    "Synthesis and characterization of ZnInON semiconductor: a ZnO-based compound with tunable band gap" N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

  • ICMAP2014 Best Poster Presentation Award

    2014年7月   International Conference of Microelectronics and Plasma Technology 2014 (ICMAP2014)  

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    "Atmospheric Pressure DBD Plasma Irradiation to Seeds of Glycine max (L.)Merrill and Vigna radiata" T. Amano, T. Sarinont, K. Koga, and M. Shiratani

  • ICMAP2014 Best Poster Presentation Award

    2013年8月   International Conference of Microelectronics ans Plasma Technology 2014 (ICMAP2014)  

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    "Atmospheric Pressure DBD Plasma Irradiation to Seeds of Glycine max (L.)Merrill and Vigna radiata" T. Amano, T. Sarinont, K. Koga, and M. Shiratani

  • The 9th Asian-European International Conference of Plasma Surface Engineering(AEPSE2013)/ Outstanding Poster Award

    2013年8月  

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    "Time evolution of spatial profile of nanoparticle amount in reactive plasmas" Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

  • ISSP2013 Best Poster Award

    2013年7月   12th International Symposium on Sputtering & Plasma Processes  

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    "Sputter Deposition of Single Crystal ZnO Films on 18% Lattice mismatched c-Al2O3 Substrates via Nitrogen Mediated Crystallization" N. Itagaki, K. Kuwahara, I. Suhariadi, K. Oshikawa, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, and M. Shiratani

  • Advanced Plasma Application Award

    2012年10月   11th Asia Pacific Conference on Plasma Science adn Technology (APCPST) & 25th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM)  

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    Zinc-Indium Oxynitride Thin Films for Multiple-Quantum–Well Solar Cells
    N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

  • IUMRS-ICEM2012 "Young Scientist Awards: Silver Award Winners"

    2012年9月  

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    "High Capacity Li Ion Battery Anodes Using Silicon Carbide Nanoparticles Produced by Double Multi-Hollow Discharge Plasma CVD"
    K. Kamataki, M. Shiratani, T. Ishihara, H. Nagano, Y. Morita, K. Kuwahara, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

  • Best Presentation Award

    2012年3月   ISPlasma2012  

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    Interaction between amplitude modulated reactive plasmas and nanoparitcles grown in the plasmas
    KUNIHIRO KAMATAKI, KAZUNORI KOGA, GIICHIRO UCHIDA, NAHO ITAGAKI, HYUNWOONG SEO AND MASAHARU SHIRATANI

  • Invited Presentation Award

    2008年6月   Interfinish 2008 World Congress and Exposition  

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    "Deposition profile control of plasma CVD films on nano-patterned substrates" M. Shiratani, K. Koga

  • 応用物理学会第3回プラズマエレクトロニクス賞

    2005年3月   応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会  

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    対象論文 “Cluster-suppressed plasma chemical vapor deposition method for high quality hydrgenated amorphous silicon films”, K. Koga, M. Kai, M. Shiratani, Y. Watanabe, and N. Shikatani, Japanese Journal of Applied Physics, Vol.41, pp. L168-170 (2002).

  • 第10回応用物理学会講演奨励賞

    2001年5月   応用物理学会  

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    対象講演「クラスタ抑制プラズマCVD装置による高品質a-Si : H作製」
    (古閑一憲, 園田剛士,鹿谷昇,白谷正治,渡辺征夫)

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論文

  • Comparison between Ar+CH4 Cathode and Anode Coupled Capacitively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon Films 査読 国際誌

    S. H. Hwang, R. Iwamoto, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, T. Nakatani, M. Shiratani

    Thin Solid Films   729   2021年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2021.138701

  • Synthesis of Yb3+/Ho3+ co-doped Y2O3 nanoparticles and its application to dye sensitized solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, K. Kamataki, M. Shiratani, K. Koga, N. Itagaki, D. Nakamura

    J. Mol. Struct.   1228   2021年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.molstruc.2020.129479

  • Alterations of DNA Methylation Caused by Cold Plasma Treatment Restore Delayed Germination of Heat-Stressed Rice (Oryza sativa L.) Seeds 査読 国際誌

    C. Suriyasak, K. Hatanaka, H. Tanaka, T. Okumura, D. Yamashita, P. Attri, K. Koga, M. Shiratani, N. Hamaoka, Y. Ishibashi

    ACS Agric. Sci. Technol.   1 ( 1 )   2021年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsagscitech.0c00070

  • Impact of seed color and storage time on the radish seed germination and sprout growth in plasma agriculture 査読 国際誌

    P. Attri, K. Ishikawa, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, V. Mildaziene

    Sci. Rep.   11 ( 1 )   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-021-81175-x

  • Effects of Activated Carbon Counter Electrode On Bifacial Dye Sensitized Solar Cells (DSSCs) 査読 国際誌

    T. E. Putri, Y. Hao, F. L. Chawarambwa, H. Seo, Min-Kyu Son, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mater. Sci. Forum   1016   2021年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.1016.863

  • Possible impact of plasma oxidation on the structure of C-terminal domain of SARS-CoV-2 spike protein: a computational study 査読 国際誌

    P. Attri, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   14 ( 2 )   2021年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/abd717

  • Long-term response of Norway spruce to seed treatment with cold plasma: dependence of the effects on the genotype 査読 国際誌

    Plasma Process Polym   2020年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.202000159

  • Experimental identification of the reactive oxygen species transported into a liquid by plasma irradiation 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( 11 )   2020年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abc3a1

  • Size and flux of carbon nanoparticles synthesized by Ar+CH4 multi-hollow plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Diam Relat Mater   109   2020年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.diamond.2020.108050

  • Graphene-Si3N4 nanocomposite blended polymer counter electrode for low-cost dye-sensitized solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, M. K. Son, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Chem. Phys. Lett.   758   2020年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cplett.2020.137920

  • Synthesis of Yb3+/Ho3+ co-doped Y2O3 nanoparticles and its application to dye sensitized solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, K. Kamataki, M. Shiratani, K. Koga, N. Itagaki, D. Nakamura

    J. Mol. Struct.   2020年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.molstruc.2020.129479

  • Impact of surface morphologies of substrates on the epitaxial growth of magnetron sputtered (ZnO)x(InN)1-x films 査読 国際誌

    R. Narishige, K. Kaneshima, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Jpn. J. Appl. Phys.   60 ( SA )   2020年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abba0c

  • Cold plasma treatment of sunflower seeds modulates plant-associated microbiome and stimulates root and lateral organ growth 査読 国際誌

    Front. Plant Sci.   11   2020年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3389/fpls.2020.568924

  • Real-time monitoring of surface passivationof crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer 査読 国際誌

    S. Nunomura, I. Sakata, H. Sakakita, K. Koga, M. Shiratani

    J. Appl. Phys.   128 ( 3 )   2020年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0011563

  • Cold plasma treatment of Arabidopsis thaliana (L.) seeds modulates plant-associated microbiome composition 査読 国際誌

    Applied Physics Express   13   2020年5月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ab9712

  • Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition 査読 国際誌

    N. Itagaki, Y. Nakamura, R. Narishige, K. Takeda, K. Kamataki, K. Koga, M. Hori, M. Shiratani

    Sci. Rep.   10 ( 1 )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-020-61596-w

  • Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Nishida, G. Uchida, F. Mitsugi, K. Takenaka, K. Koga, Y. Setsuhara, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( SH )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab71dc

  • Impact of radish sprouts seeds coat color on the electron paramagnetic resonance signals after plasma treatment 査読 国際誌

    K. Koga, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, V. Mildaziene

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( SH )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab7698

  • Relationship between cold plasma treatment-induced changes in radish seed germination and phytohormone balance 査読 国際誌

    L. D. Fomins, G. Pauzaite, R. Zukiene, V. Mildaziene, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59   2020年2月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab656c

  • Dielectric barrier discharge plasma treatment-induced changes in sunflower seed germination, phytohormone balance, and seedling growth 査読 国際誌

    R. Zukiene, Z. Nauciene, I. Januskaitiene, G. Pauzaite, V. Mildaziene, K. Koga, M. Shiratani

    Appl. Phys. Express   12 ( 12 )   2019年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/ab5491

  • Identification and Suppression of Si-H2 Bond Formation at P/I Interface in a-Si:H Films Deposited by SiH4 Plasma CVD 査読 国際誌

    K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, L. Shi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406141

  • Spatial-Structure of Fluctuation of Amount of Nanoparticles in Amplitude-Modulated VHF Discharge Reactive Plasma 査読 国際誌

    R. Zhou, K. Kamataki, H. Ohtomo, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406120

  • Effects of Gas Pressure on the Size Distribution and Structure of Carbon Nanoparticles Using Ar + CH4 Multi-Hollow Discharged Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    S. H. Hwang, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406115

  • Effect of Higher-Order Silane Deposition on Spatial Profile of Si-H2/Si-H Bond Density Ratio of a-Si:H Films 査読 国際誌

    L. Shi, K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406144

  • Progress and perspectives in dry processes for emerging multidisciplinary applications: how can we improve our use of dry processes? 査読 国際誌

    T. Iwase, Y. Kamaji, S. Y. Kang, K. Koga, N. Kuboi, M. Nakamura, N. Negishi, T. Nozaki, S. Nunomura, D. Ogawa, M. Omura, T. Shimizu, K. Shinoda, Y. Sonoda, H. Suzuki, K. Takahashi, T. Tsutsumi, K. Yoshikawa, T. Ishijima, K. Ishikawa

    Jpn. J. Appl. Phys.   58   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab163a

  • Effects of gas velocity on deposition rate and amount of cluster incorporation into a-Si:H films fabricated by SiH4 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    T. Kojima, S. Toko, K. Tanaka, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   13   1406082   2018年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.13.1406082

  • Dependence of CO2 Conversion to CH4 on CO2 Flow Rate in Helicon Discharge Plasma 査読 国際誌

    S. Toko, R. Katayama, K. Koga, E. Leal-Quiros, M. Shiratani

    Sci. Adv. Mater.   10 ( 5 )   2018年5月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1166/sam.2018.3141

  • Synthesis of Nanoparticles using Low Temperature Plasmas and Its Application to Solar Cells and Tracers in Living Body 査読 国際誌

    K. Koga, H. Seo, A. Tanaka, N. Itagaki, M. Shiratani

    ECS Transactions   77 ( 3 )   2017年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1149/07703.0017ecst

  • Plant Growth Enhancement of Seeds Immersed in Plasma Activated Water 査読 国際誌

    T. Sarinont, R. Katayama, Y. Wada, K. Koga, M. Shiratani

    MRS Adv.   2 ( 18 )   2017年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2017.178

  • Response of Silkworm Larvae to Atmospheric Pressure Non-thermal Plasma Irradiation 査読 国際誌

    T. Sarinont, Y. Wada, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Medicine   6 ( 3-4 )   2017年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1615/PlasmaMed.2017019137

  • Effects of sputtering gas pressure dependence of surface morphology of ZnO films fabricated via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    K. Iwasaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Adv.   2 ( 5 )   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.617

  • Blue Photoluminescence of (ZnO)0.92(InN)0.08 査読 国際誌

    K. Matsushima, K. Iwasaki, N. Miyahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Adv.   2 ( 5 )   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.625

  • Fluctuation of Position and Energy of a Fine Particle in Plasma Nanofabrication 査読 国際誌

    M. Shiratani, M. Soejima, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

    Materials Science Forum   879   2016年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.879.1772

  • R&D status of agricultural applications of high voltage and plasma in Japan 招待 国際誌

    M. Shiratani, T. Sarinont, K. Koga and N. Hayashi

    Proc. Workshop on Application of Advanced Plasma Technologies in CE Agriculture   2016年4月

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    記述言語:英語  

  • Quantum Characterization of Si Nano-Particles Fabricated by Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    Sci. Adv. Mater.   8 ( 3 )   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/sam.2016.2520

  • Room Temperature Fabrication of (ZnO)x(InN)1-x films with Step-Terrace Structure by RF Magnetron Sputtering 査読 国際誌

    K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Advances   1 ( 2 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2015.59

  • Plant Growth Response to Atmospheric Air Plasma Treatments of Seeds of 5 Plant Species 査読 国際誌

    M. Shiratani, T. Sarinont, T. Amano, N. Hayashi, K. Koga

    MRS Adv.   1 ( 18 )   2016年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.37

  • Production of In, Au, and Pt nanoparticles by discharge plasmas in water for assessment of their bio-compatibility and toxicity 査読 国際誌

    T. Amano, T. Sarinont, K. Koga, M. Hirata, A. Tanaka, M. Shiratani

    MRS Adv.   1 ( 18 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.41

  • 水素プラズマとカーボン壁の相互作用で発生したダストに対するダスト除去フィルタのダスト除去性能評価

    白谷正治, 古閑一憲, 立石瑞樹, 片山龍, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 芦川直子, 時谷政行, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    九州大学超顕微解析研究センター報告   39   2015年12月

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    記述言語:日本語  

  • Raman Spectroscopy of a-C:H Films Deposited Using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Discharge characteristics and hydrodynamics behaviors of atmospheric plasma jets produced in various gas flow patterns 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, G. Uchida, A. Nakajima, K. Takenaka, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語  

  • Gas flow rate dependence of the production of reactive oxygen species in liquid by a plasma-jet irradiation 査読 国際誌

    G. Uchida, A. Nakajima, T. Kawasaki, K. Koga, K. Takenaka, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語  

  • Effects of Ambient Humidity on Plant Growth Enhancement by Atmospheric Air Plasma Irradiation to Plant Seeds 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, S. Kitazaki, N. Hayashi, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語  

  • Measurement of absolute density of N atom in sputtering plasma for epitaxial growth ZnO films via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    T. Ide, K. Matsushima, T. Takasaki, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of absolute densities of nitrogen and oxygen atoms in sputtering plasma for fabrication of ZnInON films 査読 国際誌

    K. Matsushima, T. Ide, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of nitrogen atom density in N2/Ar sputtering plasma for fabrication of high-mobility amorphous In2O3:Sn films 査読 国際誌

    T. Takasaki, T. Ide, K. Matsushima, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Fabrication of p-i-n solar cells utilizing ZnInON by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

    K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1741   2015年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.248

  • ZnO-based semiconductors with tunable band gap for solar sell applications 招待 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. SPIE photonics west 2015   9364   2015年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1117/12.2078114

  • Effects of morphology of buffer layers on ZnO/sapphire heteroepitaxial growth by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

    T. Ide, K. Matsushima, R. Shimizu, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1741   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.87

  • Effects of Atmospheric Air Plasma Irradiation to Seeds of Radish Sprouts on Chlorophyll and Carotenoids Concentrations in their Leaves 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1723   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.39

  • Comparative Study on the Pulmonary Toxicity of Indium Hydroxide, Indium-Tin Oxide, and Indium Oxide Following Intratracheal Instillations into the Lungs of Rats 査読 国際誌

    A. Tanaka, M. Hirata, N. Matsumura, K. Koga, M. Shiratani, Y. Kiyohara

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1723   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.21

  • Multigeneration Effects of Plasma Irradiation to Seeds of Arabidopsis Thaliana and Zinnia on Their Growth 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1723   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.12

  • 反応性微粒子プラズマプロセスを用いたゲルマニウム結晶ナノ粒子含有膜の堆積と量子ドット太陽電池への応用 査読

    内田儀一郎, 市田大樹, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治

    スマートプロセス学会誌   4 ( 1 )   2015年1月

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    記述言語:日本語  

  • SiC Nanoparticle Composite Anode for Li-Ion Batteries 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, H. Seo, N. Itagaki, T. Ishihara

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1678   2014年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2014.742

  • Plasma etching of single fine particle trapped in Ar plasma by optical tweezers 査読 国際誌

    T. Ito, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012014

  • Control of the area irradiated by the sheet-type plasma jet in atmospheric pressure 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Kawano, H. Mizoguchi, Y. Yano, K. Yamashita, M. Sakai, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012016

  • Formation of carbon nanoparticle using Ar+CH4 high pressure nanosecond discharges 査読 国際誌

    K. Koga, X. Dong, S. Iwashita, U. Czarnetzki and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012020

  • Growth enhancement effects of radish sprouts: atmospheric pressure plasma irradiation vs. heat shock 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, S. Kitazaki, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani and N. Hayashi

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012017

  • Contribution of H2 plasma etching to radial profile of amount of dust particles in a divertor simulator 査読 国際誌

    M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura and A. Sagara, the LHD Experimental Group

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012009

  • Contribution of ionic precursors to deposition rate of a-Si:H films fabricated by plasma CVD 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, Y. Torigoe, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012008

  • Deposition of crystalline Ge nanoparticle films by high-pressure RF magnetron sputtering method 査読 国際誌

    D. Ichida, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012002

  • Effects of filter gap of cluster-eliminating filter on cluster eliminating efficiency 査読 国際誌

    Y. Hashimoto, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012007

  • Emission spectroscopy of Ar + H-2+ C7H8 plasmas: C7H8 flow rate dependence and pressure dependence 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine and M. Hori

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012010

  • Off-axis sputter deposition of ZnO films on c-sapphire substrates with buffer layers prepared via nitrogen-mediated crystallization 招待 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. SPIE photonics west 2014   8987   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1117/12.2041081

  • Effects of Atmospheric Air Plasma Irradiation on pH of Water 査読 国際誌

    T. Sarinont, K. Koga, S. Kitazaki, G. Uchida, N. Hayashi, M. Shiratani

    JPS Conf. Proc.   1   2014年3月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015078

  • Pressure dependence of carbon film deposition using H-assisted plasma CVD 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of growth enhancement by plasma irradiation to seeds in water 査読 国際誌

    T. Sarinont, K. Koga, S. Kitazaki, M. Shiratani, N. Hayashi

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語  

  • Long term growth of radish sprouts after atmospheric pressure DBD plasma irradiation to seeds 査読 国際誌

    T. Amano, T. Sarinont, S. Kitazaki, N. Hayashi, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語  

  • Multi-generation evaluation of plasma growth enhancement to arabidopsis thaliana (Invited) 招待 査読 国際誌

    K. Koga, T. Sarinont, S. Kitazaki, N. Hayashi, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語  

  • Visualization of oxidizing substances generated by atmospheric pressure non-thermal plasma jet with water 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Kawano, H. Mizoguchi, Y. Yano, K. Yamashita, M. Sakai, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語  

  • Growth control of ZnO nano-rod with various seeds and photovoltaic application 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series (11th APCPST)   441 ( 1 )   2013年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/441/1/012029

  • Control of nanoparticle formation in reactive plasmas and its application to fabrication of green energy devices 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

    Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

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    記述言語:英語  

  • Subacute pulmonary toxicity of copper indium gallium diselenide following intratracheal instillations into the lungs of rats 査読 国際誌

    A. Tanaka, M. Hirata, M. Shiratani, K. Koga, Y. Kiyohara

    Journal of Occupational Health   54 ( 3 )   2012年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1539/joh.11-0164-OA

  • The Optical Analysis and Application of Size-controllable Si Quantum Dots Fabricated by Multi-hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.890

  • Effects of Atmospheric Pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma Irradiation on Yeast Growth 査読 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1469   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.969

  • Influence of Atmospheric Pressure Torch Plasma Irradiation on Plant Growth 査読 国際誌

    Y. Akiyoshi, N. Hayashi, S. Kitazaki, K. Koga and M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1469   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.970

  • Rapid Growth of Radish Sprouts Using Low Pressure O2 Radio Frequency Plasma Irradiation 査読 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1469   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.966

  • Characteristics of stable a-Si:H Schottoky cells fabricated by suppressing cluster deposition 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, Y. Kim, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.1245

  • In-situ Measurements of Cluster Volume Fraction in Silicon Thin Films Using Quartz Crystal Microbalances 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.839

  • Self-organized carbon Mk formation on the top surface of fine trenches using a low temperature plasma anisotropic CVD for depositing fine organic structure 国際誌

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of FeSi2 nano-particle film 国際誌

    M. Sato, Y. Wang, K. Nakahara, T. Matsunaga, H. Seo, G. Uchida, K. Koga and M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Effects of substrate bias voltage on plasma anisotropic CVD of carbon using H-assisted plasma CVD reactor 国際誌

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Growth promotion characteristics of bread yeast by atmospheric pressure dielectric barrier discharge plasma irradiation 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Production Process of Carbon Nanotube Coagulates 国際誌

    T. Mieno, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Influence of active oxygen species produced by atmospheric torch plasma on plant growth 査読 国際誌

    N. Hayashi, Y. Akiyoshi, S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Optical emission spectroscopy of Ar+H2+ C7H8 discharges for anisotropic plasma CVD of carbon 査読 国際誌

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Quantum dot-sensitized solar cells using nitridated si nanoparticles produced by double multi-hollow discharges 査読 国際誌

    M. Sato, Y. Wang, K. Nakahara, T. Matsunaga, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Stable schottky solar cells using cluster-free a-si:h prepared by multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    K. Hatozaki, K. Nakahara, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Deposition of highly stable cluster-free a-Si:H films using fast gas flow multi-hollow discharge plasma CVD method 国際誌

    K. Hatozaki, K. Nakahara, T. Matsunaga, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Performance enhancement of Si quantum dot-sensitized solar cells by surface modification using ZnO barrier layer 国際誌

    Y. Wang, M. Sato, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語  

  • Surface nitridation of silicon nano-particles using double multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Nakahara, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Kondo, M. Shiratani

    Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201001230

  • Deposition of cluster-free P-doped a-Si:H films using SiH4+PH3 multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    K. Koga, K. Nakahara, Y. Kim, Y. Kawashima, T. Matsunaga, M. Sato, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

    Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201100229

  • Hybrid sensitized solar cells using Si nanoparticles and ruthenium dye 査読 国際誌

    G. Uchida, Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, K. Nakahara, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Kondo, M. Shiratani

    Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201100166

  • Deposition profile control of carbon films on submicron wide trench substrate using H-assisted plasma CVD 国際誌

    T. Urakawa, T. Nomura, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    2011年7月

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    記述言語:英語  

  • Generation and Surface Modification of Si nano-particles using SiH4/H2 and N2 multi-hollow discharges and their application to the third generation photovoltaics 招待 査読 国際誌

    K. Koga, G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    International Conference on Advances in Condensed and Nano Materials (ICACNM)   1393   2011年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1063/1.3653600

  • マルチホロー放電プラズマCVDによる量子ドット増感太陽電池用シリコンナノ結晶粒子の作製

    内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

    ケミカルエンジニヤリング   55 ( 12 )   947 - 954   2010年12月

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    記述言語:日本語  

  • Fluctuation Control for Plasma Nanotechnologies 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5685920

  • Growth Stimulation of Radish Sprouts Using Discharge Plasma 査読 国際誌

    S. Kitazaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686474

  • Photoluminescence of Si nanoparticles synthesized using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, T. Matsunaga, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686677

  • Redox Characteristics of Amino Acids Using Low Pressure Water Vapor RF Plasma 査読 国際誌

    Y. Akiyoshi, A. Nakahigashi, N. Hayashi, S. Kitazaki, Takuro Iwao, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686467

  • Substrate temperature dependence of feature profile of carbon films on substrate with submicron trenches 査読 国際誌

    T. Nomura, T. Urakawa, Y. Korenaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686688

  • Cluster-Free B-Doped a-Si:H Films Deposited Using SiH4 + B10H14 Multi-Hollow Discharges 査読 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686686

  • Deposition profiles of microcrystalline silicon films using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    T. Matsunaga, Y. Kawashima, K. Koga, K. Nakahara, W. M. Nakamura, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686679

  • Effects of Amplitude Modulation of rf Discharge Voltage on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma 査読 国際誌

    K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686456

  • Effects of Ar addition on breakdown voltage in a Si(CH3)2(OCH3)2 RF discharge 査読 国際誌

    G. Uchida, S. Nunomutra, H. Miyata, S. Iwashita, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686704

  • Deposition rate enhancement of cluster-free P-doped a-Si:H films using multi-hollow discharge plasma CVD method 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Plasma parameter measurements of Ar+H2+C7H8 plasma in H-assisted plasma CVD reactor 国際誌

    T. Nomura, T. Urakawa, Y. Korenaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語  

  • Redox Characteristics of Thiol of Plants Using Radicals Produced by RF Discharge 国際誌

    A. Nakahigashi, Y. Akiyoshi, N. Hayashi, S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語  

  • Combinatorial deposition of microcrystalline Si films using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    T. Matsunaga, Y. Kawashima, K. Koga, W. M. Nakamura, K. Nakahara, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles 査読 国際誌

    Y. Kawashima, K. Nakahara, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    35 ( 3 )   2010年9月

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    記述言語:英語  

  • Si quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles produced by plasma CVD 査読 国際誌

    Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, K. Nakahara, T. Matsunaga, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2010.5617205

  • Effects of hydrogen dilution on electron density in multi-hollow discharges with magnetic field for A-Si:H film deposition 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Kawashima, K. Nakahara, T. Matsunaga, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2010.5616502

  • Deposition of cluster-free P-doped a-Si:H films using a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2010.5616514

  • Synthesis of crystalline Si nanoparticles for Quantum dots-sensitized solar cells using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    Y. Kawashima, K. Nakahara, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( B5-05 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • Control of deposition profile of hard carbon films on trenched substrates using H-assisted plasma CVD reactor 国際誌

    T. Nomura, Y. Korenaga, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P1-39 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • Effects of gas residence time and H2 dilution on electron density in multi-hollow discharges of SiH4+ H2 国際誌

    K. Koga, H. Sato, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( A5-06 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • In-situ Measurement of Production Process of Nanotube-Aggregates by the Laser-Mie Scattering (Dependence of Arc Condition and Gravity) 国際誌

    T. Mieno, GuoDong Tan, S. Usuba, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P2-17 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • In-Situ Sampling of Dust Particles Produced Due to Interaction between Main Discharge Plasma and Inner Wall in LHD 国際誌

    H. Miyata, S. Iwashita, YasuY. Yamada, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD Experimental Group

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P1-14 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • Measurement of electron density in multi-hollow discharges with magnetic field 国際誌

    H. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( A6-01 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • Observation of nano-particle transport in capacitively coupled radio frequency discharge plasma 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, YasuY. Yamada, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P1-13 )   2010年2月

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    記述言語:英語  

  • Substrate temperature dependence of deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Inoue, T. Nomura, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Dust Particles formed owing to interactions between H2 or D2 helicon plasma, graphite 国際誌

    H. Miyata, S. Iwashita, YasuY. Yamada, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Measurements of electron density in SiH4+H2 multi-hollow discharges using a frequency shift probe 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Measurements of Surface Temperature of a-Si:H Films in Silane Multi-Hollow Discharge with IR Thermometer 国際誌

    H. Sato, Y. Kawashima, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Porosity Control of Nano-Particle Composite Porous Low Dielectric Films using Pulse RF Discharges with Amplitude Modulation 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, H. Matsuzaki, M. Shiratani, M. Akiyama

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Pressure, aspect ratio dependence of deposition profile of carbon films on trench substrates deposited by plasma CVD 国際誌

    T. Nomura, Y. Korenaga, J. Umetsu, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Synthesis of Si nanoparticles for multiple exciton generation solar cells using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    Y. Kawashima, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Toward plasma nano-factories 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga

    Proc. of 2nd International Conference on Advanced Plasma Technologies (iCAPT-II) with 1st International Plasma Nanoscience Symposium (iPlasmaNano-I)   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • A comparison of dust particles produced due to interaction between graphite and plasma: LHD vs helicon discharges 査読 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD experimental group

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Control of Three Dimensional Transport of Nano-blocks by Amplitude Modulated Pulse RF Discharges using an Electrode with Needles 査読 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Dependence of volume fraction of clusters on deposition rate of a-Si:H films deposited using a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    H. Sato, Y. Kawashima, M. Tanaka, K. Koga, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Detection of nano-particles formed in cvd plasma using a two-dimensional photon-counting laser-light-scattering method 査読 国際誌

    H. Miyahara, S. Iwashita, H. Miyata, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Optical Emission Spectroscopy of a Magnetically Enhanced Multi-hollow Discharge Plasma for a-Si:H Deposition 査読 国際誌

    W. M. Nakamura, Y. Kawashima, M. Tanaka, H. Sato, J. Umetsu, H. Miyahara, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語  

  • Plasma CVD of Nano-particle Composite Porous SiOCH Films 国際誌

    M. Shiratani, S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, H. Matsuzaki, M. Akiyama

    Proc. of 19th International Symposium on Plasma Chemistry   2009年7月

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    記述言語:英語  

  • Characterization of Dust Particles Ranging in Size from 1 nm to 10 µm Collected in the LHD 査読 国際誌

    4   34 - 34   2009年4月

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    記述言語:英語  

    We collected dust particles ranging in size from 1 nm to 10 µm from the Large Helical Device employing two methods: an ex-situ filtered vacuum collection method and an in-situ dust collection method. The size distribution from 1 nm to 10 µm is well expressed by the Junge distribution. Dust particles are classified into three kinds: small spherical dust particles below 1 µm in size, agglomerates consisting of primary particles of 10 nm, and large dust particles above 1 µm in size and irregular in shape; this suggests three formation mechanisms of dust particles: chemical vapor deposition growth, agglomeration, and peeling from walls. In-situ collection shows that agglomeration between dust particles takes place in main discharges. The primary dust particles in agglomerates are around 10 nm in size, suggesting agglomeration between a negatively charged large agglomerate and a positively charged dust particle 10 nm in size. We have also confirmed the important fact that a large number of dust particles move during vacuum vent. Therefore, the in-situ dust collection method is needed to reveal the generation-time and -processes of dust particles and their deposition position during discharges.

    DOI: 10.1585/pfr.4.034

  • Nano-block manipulation using pulse RF discharges with amplitude modulation combined with a needle electrode

    S. Iwashita, H. Miyata, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語  

  • Characteristics of dust particles produced due to interaction between hydrogen plasma, graphite

    S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, A. Sagara, K. Nisimura

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語  

  • Conductivity of nc-Si films depsited using multi-hollow discharge plasma CVD method

    K. Koga, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, H. Sato, M. Tanaka, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語  

  • Deposition profile of toluene plasma CVD carbon films in trenches

    J. Umetsu, K. Inoue, T. Nomura, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語  

  • Effects of magnetic fields on multi-hollow discharges for thin film silicon solar cells

    Nakamura W. M., Sato H., Koga K., Shiratani M.

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語  

  • High Rate Deposition of a-Si:H Depositied using a Low Gas Pressure Multi-hollow Discharge Plasma CVD Method

    K. Koga, W. M. Nakamura, H. Sato, M. Tanaka, H. Miyahara, M. Shiratani

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語  

  • Plasma CVD of Nano-particle Composite Porous Films of k=1.4-2.9, Young’s Modulus above 10 GPa 査読 国際誌

    2008年12月

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    記述言語:英語  

  • Deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Inoue, T. Nomura, H. Matsuzaki, K. Koga, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 30th International Symposium on Dry Process   2008年12月

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    記述言語:英語  

  • Rapid transport of nano-particles in amplitude modulated rf discharges for depositing porous ultra-low-k films 査読 国際誌

    S. Iwashita, K. Koga, M. Morita, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series   100 ( 6 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/100/6/062006

  • Cluster incorporation control for a-Si:H film deposition 査読 国際誌

    W. M. Nakamura, K. Koga, H. Miyahara, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series   100 ( 8 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/100/8/082018

  • Optical emission spectroscopic study on H-assisted plasma for anisotropic deposition of Cu films 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Koga, K. Inoue, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series   100 ( 6 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/100/6/062007

  • Nanoparticle-Suppressed Plasma CVD for Depositing Stable a-Si:H Films 査読 国際誌

    M. Shiratani, W. M. Nakamura, H. Miyahara, K. Koga

    Digest of Technical Papers of the Fifteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays, Devices (AM-FPD 08)   2008年7月

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    記述言語:英語  

  • Rapid transport of nano-particles having a fractional elemental charge on average in capacitively coupled rf discharges by amplitude modulating discharge voltage 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, S. Iwashita, K. Koga, S. Nunomura

    Faraday Discussions   137   2008年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/B704910B

  • VHF discharge sustained in a small hole 査読 国際誌

    K. Koga, W. M. Nakamura, and M. Shiratani

    Proc. 28th Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2007年7月

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    記述言語:英語  

  • Transport of nano-particles in pulsed AM RF discharges

    S. Iwashita, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. the 24th Symp. on Plasma Processing   2007年1月

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    記述言語:英語  

  • In-situ sampling of dust generated in LHD and its analysis

    M. Shiratani, S. Kiridoshi, K. Koga, S. Iwashita, N. Ashikawa, K. NIshimura, A. Sagara, A. Komori, LHD Experimental Group

    Proc. the 24th Symp. on Plasma Processing   2007年1月

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    記述言語:英語  

  • Stability of a-Si:H deposited using multi-hollow plasma CVD

    K. Koga, W. M. Nakamura, D. Shimokawa, M. Shiratani

    Proc. the 24th Symp. on Plasma Processing   2007年1月

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    記述言語:英語  

  • Fabrication of nanoparticle composite porous films having ultra-low dielectric constant 査読 国際誌

    S. Nunomura, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, Y. Morisada, N. Matsuki, and S. Ikeda

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 ( 50 )   2005年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.44.L1509

  • Highly stable a-Si:H films deposited by using multi-hollow plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    K. Koga, T. Inoue, K. Bando, S. Iwashita, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 ( 48 )   2005年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.44.L1430

  • Production of crystalline Si nano-particles using VHF discharges and their properties 査読 国際誌

    M. Shiratani, T. Kakeya, K. Koga, Y. Watanabe, and M. Kondo

    30 ( 1 )   2005年3月

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    記述言語:英語  

  • Preparation of high-quality a-Si:H using cluster-suppressed plasma CVD method and its prospects 招待 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    30 ( 1 )   2005年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  • Carbon particle formation due to interaction between H2 plasma and carbon fiber composite wall 査読 国際誌

    K. Koga, R. Uehara, Y. Kitaura, M. Shiratani, Y. Watanabe, A. Komori

    IEEE Trans. Plasma Science   32 ( 2 )   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TPS.2004.828129

  • Effects of Excitation Frequency and H2 Dilution on Cluster Generation in Silane High-Frequency Discharges 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, A. Harikai, T. Ogata, and Y. Watanabe

    MRS Symp. Proc.   762   2003年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-762-A9.5

  • シランプラズマ中のクラスタ成長と薄膜形成

    白谷正治, 古閑一憲, 尾形隆則, 掛谷知秀, 鹿口直斗, 渡辺征夫

    信学技報   103 ( 6 )   2003年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Anisotropic Plasma Chemical Vapor Deposition of Copper Films in Trenches 査読 国際誌

    K. Takenaka, M. Onishi, M. Takeshita, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    MRS Symp. Proc.   766   2003年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-766-E3.8

  • Anisotropic Deposition of Copper by H-Assisted Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    K. Takenaka, M. Shiratani, M. Onishi, M. Takeshita, T. Kinoshita, K. Koga, and Y. Watanabe

    Matr. Sci. Semiconductor Processing   5 ( 2 )   2003年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S1369-8001(02)00108-7

  • ナノクラスタ制御プラズマCVDと高品質,光安定a-Si:H太陽電池への応用

    白谷正治, 古閑一憲, 渡辺征夫

    アモルファスセミナーテキスト   2002年11月

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    記述言語:日本語  

  • Formation of nano-particles in microgravity plasma 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Journal of Japan Society of Microgravity Application   19   2002年10月

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    記述言語:英語  

  • Anisotropic deposition of copper by plasma CVD method 国際誌

    K. Takenaka, M. Onishi, M. Takenaka, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   2002年10月

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    記述言語:英語  

  • Nucleation and subsequent growth of clusters in reactive plasma (invited lecture paper) 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Plasma Sources Sci. Technol.   11   2002年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/11/3A/334

  • Correlation between Si cluster amount in silane HF discharges and quality of a-Si:H films 国際誌

    M. Shiratani, M. Kai, K. Imabeppu, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

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    記述言語:英語  

  • Anisotropic deposition of Cu with H-assisted plasma CVD 国際誌

    K. Takenaka, H. J. Jin, M. Onishi, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  • Conformal deposition of pure Cu films in trenches by H-assisted plasma CVD using Cu(EDMDD)2 国際誌

    K. Takenaka, H. J. Jin, M. Onishi, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, T. Shingen

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

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    記述言語:英語  

  • Suppression methods of cluster growth in silane discharges and their application to deposition of super high quality a-Si:H films 国際誌

    K. Koga, K. Imabeppu, M. Kai, A. Harikai, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Workshop on Information and Electrical Engineering (IWIE2002)   2002年5月

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    記述言語:英語  

  • Deposition of Cu films in trenches for LIS interconnects by H-assisted plasma CVD method 国際誌

    K. Takenaka, M. Onishi, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, T. Shingen

    Proc. Intern. Workshop on Information and Electrical Engineering (IWIE2002)   2002年5月

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    記述言語:英語  

  • Clustering phenomena in low-pressure reactive plasma: basis and applications (invited lecture paper) 査読 国際誌

    Y. Watanabe, A. Harikai, K. Koga, M. Shiratani

    Pure Appl. Chem.   74 ( 3 )   2002年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1351/pac200274030483

  • In-situ measurement of size and density of particles in sub-nm to nm size range 国際誌

    K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Nano-technology Workshop   2002年2月

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    記述言語:英語  

  • Deposition of high-quality Si films by suppressing cluster growth in SiH4 high-frequency discharges 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. Nano-technology Workshop   2002年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  • プロセスプラズマ中のクラスタ - アモルファスシリコン太陽電池製造用プラズマ中のクラスター 査読

    白谷正治, 古閑一憲, 渡辺征夫

    ( 5 )   2002年1月

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    記述言語:日本語  

  • クラスタ制御プラズマCVD法によるSi薄膜の高品質化

    渡辺征夫, 古閑一憲, 白谷正治

    シリコンテクノロジー   ( 37 )   2002年1月

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    記述言語:日本語  

  • Deposition of pure copper thin films by H-assisted plasma CVD using a new Cu complex Cu(EDMDD)2 国際誌

    K. Takenaka, H. J. Jin, M. Onishi, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   2001年11月

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    記述言語:英語  

  • Cluster-less plasma CVD reactor and its application to a-Si:H film deposition 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-664-A5.6

  • Behavior of a particle injected in ion sheath of electropositive and electronegative gas discharges 国際誌

    M. Shiratani, A. Toyozawa, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Clustering phenomena in low-pressure reactive plasma: base and applications (invited) 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Proc. Intern. Symp. on Plasma Chemistry   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of super high quality a-Si:H thin films using cluster-suppressed plasma CVD reactor 国際誌

    K. Koga, T. Sonoda, N. Shikatani, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Development of H-assisted plasma CVD reactor for Cu interconnects 国際誌

    M. Shiratani, H. J. Jin, K. Takenaka, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Nucleation and subsequent growth of clusters in reactive plasma (invited) 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Formation kinetics and control of dust particles in capacitively-coupled reactive plasma (invited) 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Phys. Scripta   T89   2001年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1238/Physica.Topical.089a00029

  • Behavior of a particle injected in ion sheath 国際誌

    M. Shiratani, A. Toyozawa, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

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    記述言語:英語  

  • Development of cluster-suppressed plasma CVD reactor for high quality a-Si:H film deposition 国際誌

    M. Shiratani, T. Sonoda, N. Shikatani, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

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    記述言語:英語  

  • Effects of H2 dilution and excitation frequency on initial growth of clusters in silane plasma 国際誌

    K. Koga, K. Tanaka, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  • H assisted control of quality and conformality in Cu film deposition using plasma CVD method 国際誌

    M. Shiratani, H. J. Jin, K. Takenaka, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Proc. Advanced Metallization Conf. 2000   2001年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of surface reaction probability of SiH3 国際誌

    M. Shiratani, N. Shiraishi, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  • Plasma CVD method for Cu interconnects in ULSI (invited) 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

  • Methods of suppressing cluster growth in silane rf discharges 査読 国際誌

    M. Shiratani, S. Maeda, Y. Matsuoka, K. Tanaka, K. Koga, Y. Watanabe

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   2000年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-609-A5.6

  • Deposition of smooth thin Cu films in deep submicron trench by plasma CVD reactor with H atom source 査読 国際誌

    H. J. Jin, M. Shiratani, Y. Nakatake, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   2000年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-612-D9.2.1

  • Propagation characteristics of ion acoustic waves in an Ar/SF6 plasma 査読 国際誌

    R. Ichiki, M. Shindo, S. Yoshimura, K. Koga, Y. Kawai

    J. Phys. Soc. Jpn.   69 ( 6 )   2000年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JPSJ.69.1925

  • Filling subquater-micron trench structure with high-purity copper using plasma reactor with H atom source 査読

    H. J. Jin, M. Shiratani, Y. Nakatake, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Res. Rep. ISEE Kyushu Univ.   5 ( 1 )   2000年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Growth processes of particles up to nanometer size in high-frequency SiH4 plasma 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, T. Fukuzawa, K. Koga

    Jour. Technical Phys.   41 ( 1 )   2000年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Observation of Asymmetric Sheath Structure in Multi-Component Plasma Containing Negative Ions 査読 国際誌

    K. Koga, H. Naitou, Y. Kawai

    J. Plasma Fusion Res.   2   1999年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Observation of Local Structures in Asymmetric Ion Sheath 査読 国際誌

    K. Koga, H. Naitou, Y. Kawai

    J. Phys. Soc. Jpn.   68 ( 5 )   1999年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JPSJ.68.1578

  • Behavior of the Ion Sheath Instability in a Negative Ion Plasma 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Kawai

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 ( 3A )   1999年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.38.1553

  • Growth control of Marchantia polymorpha gemmae using nonthermal plasma irradiation

    Shoko Tsuboyama, Takamasa Okumura, Pankaj Attri, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Kazuyuki Kuchitsu

    Scientific Reports   14 ( 1 )   2024年2月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-024-53104-1

  • Improving the efficiency of CO2 methanation using a combination of plasma and molecular sieves

    Susumu Toko, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Results in Surfaces and Interfaces   100204 - 100204   2024年2月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.rsurfi.2024.100204

  • Influence of humidity on the plasma-assisted CO<inf>2</inf> conversion

    Pankaj Attri, Takamasa Okumura, Nozomi Takeuchi, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Plasma Processes and Polymers   21 ( 1 )   2024年1月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.202300141

  • プラズマ触媒作用を用いた二酸化炭素還元反応の促進に関する基礎研究

    13 ( 1 )   31 - 36   2024年1月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7791/jspmee.13.31

  • On-axis sputtering fabrication of Tm3Fe5O12 film with perpendicular magnetic anisotropy

    Marlis Nurut Agusutrisno, Christopher H. Marrows, Kunihiro Kamataki, Takamasa Okumura, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naoto Yamashita

    Thin Solid Films   788   140176 - 140176   2024年1月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2023.140176

  • Health assessment of rice cultivated and harvested from plasma-irradiated seeds

    Takamasa Okumura, Hayate Tanaka, Takumi Nakao, Teruki Anan, Ryo Arita, Masaki Shiraki, Kayo Shiraki, Tomoyuki Miyabe, Daisuke Yamashita, Kayo Matsuo, Pankaj Attri, Kunihiro Kamataki, Naoto Yamashita, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Satoshi Hosoda, Akiyo Tanaka, Yushi Ishibashi, Kazunori Koga

    Scientific Reports   13 ( 1 )   2023年12月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-023-43897-y

  • Reaction kinetics studies for phenol degradation under the impact of different gas bubbles and pH using gas-liquid discharge plasma

    A. El-Tayeb, Takamasa Okumura, Pankaj Attri, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   62 ( SN )   2023年11月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acebfb

  • Contribution of active species generated in plasma to CO<inf>2</inf> methanation

    Susumu Toko, Taiki Hasegawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics   62 ( SL )   2023年9月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acdad9

  • Single-step fabrication of fibrous Si/Sn composite nanowire anodes by high-pressure He plasma sputtering for high-capacity Li-ion batteries 査読

    Giichiro Uchida, Kodai Masumoto, Mikito Sakakibara, Yumiko Ikebe, Shinjiro Ono, Kazunori Koga, Takahiro Kozawa

    Scientific Reports   13 ( 1 )   2023年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Single-step fabrication of fibrous Si/Sn composite nanowire anodes by high-pressure He plasma sputtering for high-capacity Li-ion batteries
    Abstract

    To realize high-capacity Si anodes for next-generation Li-ion batteries, Si/Sn nanowires were fabricated in a single-step procedure using He plasma sputtering at a high pressure of 100–500 mTorr without substrate heating. The Si/Sn nanowires consisted of an amorphous Si core and a crystalline Sn shell. Si/Sn composite nanowire films formed a spider-web-like network structure, a rod-like structure, or an aggregated structure of nanowires and nanoparticles depending on the conditions used in the plasma process. Anodes prepared with Si/Sn nanowire films with the spider-web-like network structure and the aggregated structure of nanowires and nanoparticles showed a high Li-storage capacity of 1219 and 977 mAh/g, respectively, for the initial 54 cycles at a C-rate of 0.01, and a capacity of 644 and 580 mAh/g, respectively, after 135 cycles at a C-rate of 0.1. The developed plasma sputtering process enabled us to form a binder-free high-capacity Si/Sn-nanowire anode via a simple single-step procedure.

    DOI: 10.1038/s41598-023-41452-3

  • Influence of electric potential-induced by atmospheric pressure plasma on cell response

    Takamasa Okumura, Chia-Hsing Chang, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Takehiko Sato

    Scientific Reports   13 ( 1 )   2023年9月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-023-42976-4

  • Improving the efficiency of Sabatier reaction through H2O removal with low-pressure plasma catalysis

    Taiki Hasegawa, Susumu Toko, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   62 ( SL )   SL1028 - SL1028   2023年8月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ace831

  • Optical emission spectroscopy study in CO<inf>2</inf> methanation with plasma

    Susumu Toko, Taiki Hasegawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics   62   2023年7月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acc66a

  • Instant switching control between two types of plasma-driven liquid flows 査読

    Toshiyuki Kawasaki, Kecheng Shen, Heping Shi, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics_Rapid Communication   62 ( 6 )   060904-1 - 060904-4   2023年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/acde29

  • Editorial: Prospects of plasma generated species interaction with organic and inorganic materials

    Pankaj Attri, Kazunori Koga, Hirofumi Kurita, Kenji Ishikawa, Masaharu Shiratani

    Frontiers in Physics   10   2023年1月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3389/fphy.2022.1118018

  • Role of insoluble atoms in the formation of a three-dimensional buffer layer in inverted Stranski–Krastanov mode

    38 ( 5 )   1178 - 1185   2023年1月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43578-022-00886-7

  • One-dimensional particle-in-cell/Monte Carlo collision simulation for investigation of amplitude modulation effects in RF capacitive discharges

    Iori Nagao, Kunihiro Kamataki, Akihiro Yamamoto, Michihiro Otaka, Yuma Yamamoto, Daisuke Yamashita, Naoto Yamashita, Takamasa Okumura, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    MRS Advances   7 ( 31 )   911 - 917   2022年12月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43580-022-00417-w

  • Effects of substrate surface polarity on heteroepitaxial growth of pseudobinary ZnO–InN alloy films on ZnO substrates

    38 ( 7 )   1803 - 1812   2022年11月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43578-022-00827-4

  • Raman spectral analysis of the as-deposited a-C:H films prepared by CH4+ Ar plasma CVD

    Shinjiro Ono, Sung Hwa Hwang, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Naoto Yamashita, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Jun-Seok Oh, Susumu Takabayashi, Tatsuyuki Nakatani

    MRS ADVANCES   7 ( 30 )   718 - 722   2022年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43580-022-00310-6

  • Effects of amplitude modulated capacitively coupled discharge Ar plasma on kinetic energy and angular distribution function of ions impinging on electrodes: particle-in-cell/Monte Carlo collision model simulation

    Kohei Abe, Kunihiro Kamataki, Akihiro Yamamoto, Iori Nagao, Michihiro Otaka, Daisuke Yamashita, Takamasa Okumura, Naoto Yamashita, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   61 ( 10 )   106003 - 106003   2022年9月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac7626

  • Detection of NO3− introduced in plasma-irradiated dry lettuce seeds using liquid chromatography-electrospray ionization quantum mass spectrometry (LC-ESI QMS)

    12 ( 1 )   2022年7月

     詳細を見る

    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Abstract

    Discharge plasma irradiates seeds with reactive oxygen and nitrogen species (RONS). However, RONS introduced in seeds by plasma irradiation have not been successfully detected thus far. This study provides experimental evidence that nitrate ion NO3 is introduced in lettuce seeds as RONS upon irradiation with atmospheric-pressure air dielectric barrier discharge plasma. Plasma irradiation for 5 min promotes seed germination. The components of the plasma-irradiated seeds were examined using electrospray ionization quantum mass spectrometry (ESI QMS), which revealed that the plasma irradiation introduced an ion with a mass of 62 m/z in detectable amounts. This ion was identified as NO3 by liquid chromatography (LC), multiple wavelength detector (MWD), and LC-ESI QMS. A one-dimensional simulation at electron temperature Te = 1 eV, electron density Ne = 1013/m3, and gas temperature Tg = 300 K indicated the introduction of NO3, involving nitric oxide NO. NO3 is one of the most important ions that trigger signal transduction for germination when introduced in seeds. The scanning electron microscopy (SEM) images revealed that there was no change on the surface of the seeds after plasma irradiation. Plasma irradiation is an effective method of introducing NO3 in seeds in a dry process without causing damage.

    DOI: 10.1038/s41598-022-16641-1

  • Treatment of organic wastewater by a combination of non-thermal plasma and catalyst: a review

    Pankaj Attri, Kazunori Koga, Takamasa Okumura, Fadzai L. Chawarambwa, Tika E. Putri, Yuichi Tsukada, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani

    Reviews of Modern Plasma Physics   6 ( 1 )   2022年7月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s41614-022-00077-1

  • Spatio-temporal measurements Ar 2p1 excitation rates and optical emission spectroscopy by capacitively coupled Ar and Ne mixed gas plasma

    Michihiro Otaka, Toshiaki Arima, Jiansyun Lai, Kizuki Ikeda, Kunihiro Kamataki, Naoto Yamashita, Takamasa Okumura, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    MRS Advances   7 ( 31 )   918 - 922   2022年7月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43580-022-00306-2

  • Growth of Single-Crystalline ZnO Films on 18%-Lattice-Mismatched Sapphire Substrates Using Buffer Layers with Three-Dimensional Islands

    Yuta Nakamura, Naoto Yamashita, Kunihiro Kamataki, Takamasa Okumura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    Crystal Growth & Design   22 ( 6 )   3770 - 3777   2022年6月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acs.cgd.2c00145

  • Performance comparison of nitrile-based liquid electrolytes on bifacial dye-sensitized solar cells under low-concentrated light

    Tika E. Putri, Fadzai L. Chawarambwa, Pankaj Attri, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    MRS Advances   7 ( 21 )   427 - 432   2022年5月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43580-022-00270-x

  • Epitaxial growth of Zn1−xMgxO films on sapphire substrates via inverted Stranski-Krastanov mode using magnetron sputtering

    2022年2月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/s43580-022-00234-1

  • Outcomes of Pulsed Electric Fields and Nonthermal Plasma Treatments on Seed Germination and Protein Functions

    Pankaj Attri, Takamasa Okumura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Douyan Wang, Katsuyuki Takahashi, Koichi Takaki

    Agronomy   12 ( 2 )   2022年2月

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    記述言語:その他  

    DOI: 10.3390/agronomy12020482

  • Functional nitrogen science based on plasma processing: quantum devices, photocatalysts and activation of plant defense and immune systems

    Toshiro Kaneko, Hiromitsu Kato, Hideaki Yamada, Muneaki Yamamoto, Tomoko Yoshida, Pankaj Attri, Kazunori Koga, Tomoyuki Murakami, Kazuyuki Kuchitsu, Sugihiro Ando, Yasuhiro Nishikawa, Kentaro Tomita, Ryo Ono, Tsuyohito Ito, Atsushi M. Ito, Koji Eriguchi, Tomohiro Nozaki, Takayoshi Tsutsumi, Kenji Ishikawa

    Japanese Journal of Applied Physics   61 ( SA )   SA0805 - SA0805   2022年1月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac25dc

  • Effect of gas flow rate and discharge volume on CO2 methanation with plasma catalysis 査読

    Susumu Toko, Masashi Ideguchi, Taiki Haseagawa, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    Japanese Journal of Applied Physics   2022年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac4822

  • Improved luminescence performance of Yb3+-Er3+-Zn2+: Y<inf>2</inf>O<inf>3</inf> phosphor and its application to solar cells

    Fadzai Lesley Chawarambwa, Tika Erna Putri, Sung Hwa Hwang, Pankaj Attri, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Daisuke Nakamura, Masaharu Shiratani

    Optical Materials   123   2022年1月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.optmat.2021.111928

  • Impact of seed color and storage time on the radish seed germination and sprout growth in plasma agriculture

    Pankaj Attri, Kenji Ishikawa, Takamasa Okumura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Vida Mildaziene

    Scientific Reports   11 ( 1 )   2021年12月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-021-81175-x

  • Performance Characteristics of Bifacial Dye-Sensitized Solar Cells with a V-Shaped Low-Concentrating Light System

    Tika E. Putri, Fadzai L. Chawarambwa, Min Kyu Son, Pankaj Attri, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    ACS Applied Energy Materials   4 ( 12 )   13410 - 13414   2021年12月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsaem.1c02774

  • Impact of Reactive Oxygen and Nitrogen Species Produced by Plasma on Mdm2–p53 Complex

    22 ( 17 )   9585 - 9585   2021年9月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    The study of protein–protein interactions is of great interest. Several early studies focused on the murine double minute 2 (Mdm2)–tumor suppressor protein p53 interactions. However, the effect of plasma treatment on Mdm2 and p53 is still absent from the literature. This study investigated the structural changes in Mdm2, p53, and the Mdm2–p53 complex before and after possible plasma oxidation through molecular dynamic (MD) simulations. MD calculation revealed that the oxidized Mdm2 bounded or unbounded showed high flexibility that might increase the availability of tumor suppressor protein p53 in plasma-treated cells. This study provides insight into Mdm2 and p53 for a better understanding of plasma oncology.

    DOI: 10.3390/ijms22179585

  • Comparison between Ar+CH4 Cathode and Anode Coupled Capacitively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon Films 査読 国際誌

    S. H. Hwang, R. Iwamoto, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, T. Nakatani, M. Shiratani

    Thin Solid Films   729   2021年7月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2021.138701

  • Highly efficient and transparent counter electrode for application in bifacial solar cells

    Fadzai Lesley Chawarambwa, Tika Erna Putri, Pankaj Attri, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Chemical Physics Letters   768   2021年4月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cplett.2021.138369

  • Impact of atmospheric pressure plasma treated seeds on germination, morphology, gene expression and biochemical responses

    Pankaj Attri, Kazunori Koga, Takamasa Okumura, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   60 ( 4 )   2021年4月

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    記述言語:その他  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abe47d

  • Possible impact of plasma oxidation on the structure of the C-terminal domain of SARS-CoV-2 spike protein: A computational study

    Pankaj Attri, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Applied Physics Express   14 ( 2 )   2021年2月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/abd717

  • Alterations of DNA Methylation Caused by Cold Plasma Treatment Restore Delayed Germination of Heat-Stressed Rice (Oryza sativa L.) Seeds 査読 国際誌

    C. Suriyasak, K. Hatanaka, H. Tanaka, T. Okumura, D. Yamashita, P. Attri, K. Koga, M. Shiratani, N. Hamaoka, Y. Ishibashi

    ACS Agric. Sci. Technol.   1 ( 1 )   2021年2月

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    記述言語:その他  

    DOI: 10.1021/acsagscitech.0c00070

  • Impact of surface morphologies of substrates on the epitaxial growth of magnetron-sputtered (ZnO) x (InN)1-x films

    Ryota Narishige, Kentaro Kaneshima, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    Japanese Journal of Applied Physics   60 ( SA )   SAAB02 - SAAB02   2021年1月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abba0c

  • Time of Flight Size Control of Carbon Nanoparticles Using Ar+CH4 Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition Method

    Sung Hwa Hwang, Kazunori Koga, Yuan Hao, Pankaj Attri, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Jun-Seok Oh, Susumu Takabayashi, Tatsuyuki Nakatani

    Processes   9 ( 1 )   2 - 2   2020年12月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/pr9010002

  • Experimental identification of the reactive oxygen species transported into a liquid by plasma irradiation

    Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   59 ( 11 )   110502 - 110502   2020年11月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abc3a1

  • Low-stress diamond-like carbon films containing carbon nanoparticles fabricated by combining rf sputtering and plasma chemical vapor deposition

    Sung-Hwa Hwang, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Tatsuyuki Nakatani, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   59 ( 10 )   100906 - 100906   2020年10月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abbb20

  • Plasma agriculture from laboratory to farm: A review

    Pankaj Attri, Kenji Ishikawa, Takamasa Okumura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Processes   8 ( 8 )   2020年8月

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    記述言語:その他  

    DOI: 10.3390/PR8081002

  • Influence of osmolytes and ionic liquids on the Bacteriorhodopsin structure in the absence and presence of oxidative stress: A combined experimental and computational study 査読

    Pankaj Attri, Jamoliddin Razzokov, Maksudbek Yusupov, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Annemie Bogaerts

    International Journal of Biological Macromolecules   148   657 - 665   2020年4月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.ijbiomac.2020.01.179

  • Progress in photovoltaic performance of organic/inorganic hybrid solar cell based on optimal resistive Si and solvent modified poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate) junction

    Hyunwoong Seo, Daisuke Sakamoto, Hakutatsu Chou, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Progress in Photovoltaics: Research and Applications   26 ( 2 )   145 - 150   2020年2月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pip.2961

  • Effect of hydrogen dilution on the silicon cluster volume fraction of a hydrogenated amorphous silicon film prepared using plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読

    Yeonwon Kim, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Current Applied Physics   20 ( 1 )   191 - 195   2020年1月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2019.11.001

  • Local supply of reactive oxygen species into a tissue model by atmospheric-pressure plasma-jet exposure 査読

    Toshiyuki Kawasaki, Fumiaki Mitsugi, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Journal of Applied Physics   125   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Local supply of reactive oxygen species into a tissue model by atmospheric-pressure plasma-jet exposure
    © 2019 Author(s). The supply of reactive oxygen species (ROSs) into a tissue by plasmas must be controlled for the safe and effective use of plasma technologies in biomedical applications. In this study, the two-dimensional distributions of ROSs after passing through an agarose tissue model by the plasma-jet exposures were visualized using a KI-starch gel reagent to evaluate the local ROS supply. Partial ROS supply on the tissue model surface induced the local ROS supply in a pointlike shape just under the plasma-exposed spot. The O3-containing gas exposure without direct plasma contact could not induce the local ROS supply. Therefore, the local ROS supply was assumed to be induced by plasma-specific effects. However, the results also indicated that the plasma jet coming in direct contact with the tissue model surface did not necessarily induce the local ROS supply. The effects of the tissue model thickness on the local ROS supply were also studied; the local ROS supply could penetrate to a depth of 2 mm in the tissue model under the given experimental conditions.

    DOI: 10.1063/1.5091740

  • Controlling feeding gas temperature of plasma jet with Peltier device for experiments with fission yeast 査読

    Shinji Yoshimura, Mitsutoshi Aramaki, Yoko Otsubo, Akira Yamashita, Kazunori Koga

    Japanese Journal of Applied Physics   58 ( SE )   SEEG03 - SEEG03   2019年6月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab1473

  • Progress and perspectives in dry processes for leading-edge manufacturing of devices: toward intelligent processes and virtual product development 査読

    Taku Iwase, Yoshito Kamaji, Song Yun Kang, Kazunori Koga, Nobuyuki Kuboi, Moritaka Nakamura, Nobuyuki Negishi, Tomohiro Nozaki, Shota Nunomura, Daisuke Ogawa, Mitsuhiro Omura, Tetsuji Shimizu, Kazunori Shinoda, Yasushi Sonoda, Haruka Suzuki, Kazuo Takahashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenichi Yoshikawa, Tatsuo Ishijima, Kenji Ishikawa

    Japanese Journal of Applied Physics   58 ( SE )   SE0804 - SE0804   2019年6月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab163b

  • Progress and perspectives in dry processes for nanoscale feature fabrication: toward intelligent processes and virtual product development 査読

    Taku Iwase, Yoshito Kamaji, Song Yun Kang, Kazunori Koga, Nobuyuki Kuboi, Moritaka Nakamura, Nobuyuki Negishi, Tomohiro Nozaki, Shota Nunomura, Daisuke Ogawa, Mitsuhiro Omura, Tetsuji Shimizu, Kazunori Shinoda, Yasushi Sonoda, Haruka Suzuki, Kazuo Takahashi, Takayoshi Tsutsumi, Kenichi Yoshikawa, Tatsuo Ishijima, Kenji Ishikawa

    Japanese Journal of Physics   Vol. 58   pp. SE0804(21pp)   2019年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    Progress and perspectives in dry processes for nanoscale feature fabrication: toward intelligent processes and virtual product development

  • 大気圧非平衡He プラズマジェットと溶液との相互作用に関する可視化研究 招待

    内田 儀一郎, 竹中 弘祐, 川崎 敏之, 古閑 一憲, 白谷 正治, 節原 裕一

    スマートプロセス学会誌   8 ( 2 )   58 - 63   2019年3月

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    記述言語:日本語  

  • Sputter Epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films on Lattice-mismatched Sapphire Substrate 査読

    Nanoka Miyahara, Seichi Urakawa, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    MRS Advances   2019年1月

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    記述言語:その他  

    Sputter Epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films on Lattice-mismatched Sapphire Substrate
    We have recently developed a novel semiconductor, (ZnO)x(InN)1-x (abbreviated to ZION). In this study, we have succeeded in direct epitaxial growth of ZION films on 19?21&#37;-lattice-mismatched c-plane sapphire by radio-frequency (RF) magnetron sputtering. X-ray diffraction analysis showed that there is no epitaxial relationship between ZION films fabricated at room-temperature (RT) and the sapphire substrates, while the films fabricated at 450oC grow epitaxially on the sapphire substrates. From the analysis of time evolution of the surface morphology, the process for the epitaxial growth of ZION on sapphire is found to consist of three stages. They are (i) initial nucleation of ZION crystallites with crystal axis aligned to the sapphire substrate, (ii) island growth from the initially formed nuclei and subsequent nucleation (secondary nucleation) of ZION crystallites, and (iii) lateral growth of ZION islands originated from initially formed nuclei. On the other hand, non-epitaxial ZION films fabricated at RT just grow in 3D mode. From these results, we conclude that the substrate temperature is the key to control of nucleation and subsequent epitaxial growth of ZION films on the lattice-mismatched substrate.

    DOI: 10.1557/adv.2019.17

  • Spatial correlation between density fluctuations of high energy electrons and nanoparticles in amplitude modulated capactively coupled plasma 査読

    R. Zhou, K. Mori, H. Ohtomo, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Phys.: Conf. Ser.   2019年1月

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    記述言語:その他  

    Spatial correlation between density fluctuations of high energy electrons and nanoparticles in amplitude modulated capactively coupled plasma

  • Room-temperature fabrication of amorphous In2O3:Sn films with high electron mobility via nitrogen mediated amorphization 査読

    K. Imoto, H. Wang, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    J. Phys.: Conf. Ser.   2019年1月

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    記述言語:その他  

    Room-temperature fabrication of amorphous In2O3:Sn films with high electron mobility via nitrogen mediated amorphization

  • Effects of nitrogen impurity on zno crystal growth on Si substrates 査読

    Soichiro Muraoka, Lyu Jiahao, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    MRS Advances   2019年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of nitrogen impurity on zno crystal growth on Si substrates
    Effects of nitrogen impurity on ZnO crystal growth on Si substrates have been investigated. The quantitative analysis on the surface morphology deriving height-height correlation function indicates that adsorbed nitrogen atoms suppress the secondary nucleation and enhance adatom migration. The resultant films have smooth surface as well as large grain size up to 24 nm even for small thickness of 10 nm. ZnO films fabricated by using such films as buffer layers possess high crystal quality, where the full width at half maximum of (002) rocking curve is 0.68°, one-fourth of that for films fabricated without nitrogen.

    DOI: 10.1557/adv.2019.28

  • Photoluminescence of (ZnO)0.82(InN)0.18 films -Incident light angle dependence- 査読

    N. Miyahara, K. Iwasaki, D. Yamashita, D. Nakamura, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mater. Sci. Forum   941   2099 - 2103   2018年12月

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    記述言語:その他  

    Photoluminescence of (ZnO)0.82(InN)0.18 films -Incident light angle dependence-
    We have fabricated a new semiconducting material, (ZnO)x(InN)1-x (called ZION hereafter), which is a pseudo-binary alloy of wurtzite ZnO (band gap: 3.4 eV) and wurtzite InN (band gap: 0.7 eV). We have succeeded in fabricating epitaxial (ZnO)0.82(InN)0.18 films on ZnO templates by RF magnetron sputtering. XRD measurements show that the full width at half maximum of the rocking curves from (101) plane and (002) plane are significantly small of 0.11 ? and 0.16 ?, respectively, indicating good in-plane and out-of-plane crystal alignment. High crystal quality of the films was also proved by deducing the defect density from XRD analysis showing that the edge type dislocation density is low of 8.2×108 cm-2. Furthermore, we observed room temperature photoluminescence from ZION films as a parameter of incident angle of He-Cd laser light. The results indicate that an emission peak of 2.79 eV is originated from ZION.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2099

  • Impact of Gamma rays and DBD plasma treatments on wastewater treatment

    Pankaj Attri, Fumiyoshi Tochikubo, Ji Hoon Park, Eun Ha Choi, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Scientific Reports   8 ( 1 )   2018年12月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-018-21001-z

  • Cross correlation analysis of fluctuation of interactions between nanoparticles and low pressure reactive plasmas 査読

    R. Zhou, K. Mori, H. Ohtomo, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mater. Sci. Forum   941   2104 - 2108   2018年12月

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    記述言語:その他  

    Cross correlation analysis of fluctuation of interactions between nanoparticles and low pressure reactive plasmas
    We analyzed fluctuations of interactions between low pressure reactive plasmas and nanoparticles formed in the plasmas, to shed light on origins of fluctuations of interactions and to control fluctuations in plasma processes. Spatiotemporal fluctuations of nanoparticle density develop not only in a linear way but also in a nonlinear way. The results suggest nonlinear interactions potentially induce spatial and temporal process fluctuations.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2104

  • Effects of sputtering pressure on (ZnO)<inf>x</inf>(InN)<inf>1-x</inf> crystal film growth at 450?C 査読

    N. Itagaki, K. Takeuchi, N. Miyahara, K. Imoto, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Mater. Sci. Forum   941   2093 - 2098   2018年12月

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    記述言語:その他  

    Effects of sputtering pressure on (ZnO)<inf>x</inf>(InN)<inf>1-x</inf> crystal film growth at 450?C
    We studied effects of sputtering pressure on growth of (ZnO)x(InN)1-x crystal films deposited at 450°C by rf magnetron sputtering. Epitaxial growth of (ZnO)x(InN)1-x films was realized on single-crystalline ZnO template. X-ray diffraction measurements show that full width at half maximum of the rocking curves from the (101) plane of the films reaches minimum value of 0.11? at 0.5 Pa. The sputtering gas pressure is a key tuning knob for controlling the crystal quality of ZION films.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2093

  • Particle behavior and its contribution to film growth in a remote silane plasma

    Yeonwon Kim, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films   36 ( 5 )   2018年9月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5037539

  • The effect of the H<inf>2</inf>/(H<inf>2</inf> + Ar) flow-rate ratio on hydrogenated amorphous carbon films grown using Ar/H<inf>2</inf>/C<inf>7</inf>H<inf>8</inf>plasma chemical vapor deposition

    660   891 - 898   2018年8月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    © 2018 Elsevier B.V. To produce hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films with high mass density at a high deposition rate and low substrate bias voltage, we deposited these films on a Si substrate by plasma chemical vapor deposition, using toluene as a source compound and varying the gas flow-rate ratio of H2/(H2+ Ar). By decreasing the gas flow-rate ratio from 55&#37; to 11&#37;, the hydrogen content in the films decreased, and the density of sp3carbon atoms in the films increased, whereas their surface roughness increased. At the gas flow-rate ratio of 11&#37;, we produced a-C:H films with a high bulk density of 1830 kg/m3at a high deposition rate of 81.1 nm/min.

    DOI: 10.1016/j.tsf.2018.02.035

  • Low-Pressure Methanation of CO2 Using a Plasma–Catalyst System

    10 ( 8 )   1087 - 1090   2018年8月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/sam.2018.3303

  • Transportation of reactive oxygen species in a tissue phantom after plasma irradiation

    Toshiyuki Kawasaki, Gouya Kuroeda, Ryuhei Sei, Masaaki Yamaguchi, Reishi Yoshinaga, Riho Yamashita, Hikaru Tasaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Japanese Journal of Applied Physics   57 ( 1 )   2018年1月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.01AG01

  • 色素増感太陽電池のポリマー対向電極における触媒反応の活性化 査読

    徐鉉雄, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

    信学技報   117   27 - 29   2017年11月

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    記述言語:その他  

    色素増感太陽電池の対向電極は電解液との酸化還元反応の触媒として務め、太陽電池の性能に(特に、充填率に)重要な役割を果たす。カーボン、グラフェン、カーボンナノチューブ、遷移金属及びその化合物、ポリマーなど多くの材料が色素増感太陽電池の白金対向電極を代替するため、研究されているが、高価な白金は依然としてドミナントな対向電極材料として使われている。本研究では低価のポリマーを用いた色素増感太陽電池の対向電極を研究した。ここではPoly(3、4-ethylenedioxythiophene):poly(4-styrenesulfonate)(PEDOT:PSS)を対向電極材料として使用した。以前研究と同様に、PEDOT:PSS対向電極を用いた色素増感太陽電池の最初効率は低かった。特に、相対的に不十分な触媒反応のため、充填率が大きく低下された結果を示した。PEDOT:PSS対向電極の触媒反応の向上のため、本研究はナノ粒子を導入した。ナノ粒子による対向電極の表面積の増加は触媒反応の活性化とともに色素増感太陽電池の効率を向上させた。結果的に、ナノ粒子を含めたポリマーナノコンポジット対向電極は白金対向電極以上の触媒反応とともに、さらに高い効率を示した。

  • 低温プラズマによるナノ粒子の合成と太陽電池への応用 査読

    古閑一憲, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    信学技報   117   5 - 8   2017年11月

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    記述言語:その他  

    我々は、マルチホロー放電プラズマCVD法を開発し、サイズ・構造制御した結晶Siナノ粒子の連続作製に成功した。この方法では、サイズ・構造制御の重要パラメタはガス圧力とSiH4ガスに対するH2希釈率であることを明らかにした。結晶Siナノ粒子を用いて作製したショットキセルの量子効率がバンドギャップの3倍以上の光子エネルギー入射で100&#37;以上を示し、多重励起子生成型太陽電池の原理検証に成功した。また、結晶Siナノ粒子増感太陽電池として世界最高性能の太陽電池を実現した。加えてPtに代わる低コストポリマー対向電極材料の特性改善にSiナノ粒子が有効であることを明らかにした。

  • Low temperature rapid formation of Au-induced crystalline Ge films using sputtering deposition

    Sota Tanami, Daiki Ichida, Shinji Hashimoto, Hyunwoong Seo, Daisuke Yamashita, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   641   59 - 64   2017年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2017.02.067

  • Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH 4 plasma chemical vapor deposition

    Susumu Toko, Yoshihiro Torigoe, Kimitaka Keya, Takashi Kojima, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Surface and Coatings Technology   326   388 - 394   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2017.01.034

  • Extension of the operational regime of the LHD towards a deuterium experiment

    Y. Takeiri, T. Morisaki, M. Osakabe, M. Yokoyama, S. Sakakibara, H. Takahashi, Y. Nakamura, T. Oishi, G. Motojima, S. Murakami, K. Ito, A. Ejiri, S. Imagawa, S. Inagaki, M. Isobe, S. Kubo, S. Masamune, T. Mito, I. Murakami, K. Nagaoka, K. Nagasaki, K. Nishimura, M. Sakamoto, R. Sakamoto, T. Shimozuma, K. Shinohara, H. Sugama, K. Y. Watanabe, J. W. Ahn, N. Akata, T. Akiyama, N. Ashikawa, J. Baldzuhn, T. Bando, E. Bernard, F. Castejon, H. Chikaraishi, M. Emoto, T. Evans, N. Ezumi, K. Fujii, H. Funaba, M. Goto, T. Goto, D. Gradic, Y. Gunsu, S. Hamaguchi, H. Hasegawa, Y. Hayashi, C. Hidalgo, T. Higashiguchi, Y. Hirooka, Y. Hishinuma, R. Horiuchi, K. Ichiguchi, K. Ida, T. Ido, H. Igami, K. Ikeda, S. Ishiguro, R. Ishizaki, A. Ishizawa, A. Ito, Y. Ito, A. Iwamoto, S. Kamio, K. Kamiya, O. Kaneko, R. Kanno, H. Kasahara, D. Kato, T. Kato, K. Kawahata, G. Kawamura, M. Kisaki, S. Kitajima, W. H. Ko, M. Kobayashi, S. Kobayashi, T. Kobayashi, K. Koga, A. Kohyama, R. Kumazawa, J. H. Lee, D. Lopez-Bruna, R. Makino, S. Masuzaki, Y. Matsumoto, H. Matsuura, O. Mitarai, H. Miura, J. Miyazawa, N. Mizuguchi, C. Moon, S. Morita, T. Moritaka, K. Mukai, T. Muroga, S. Muto, T. Mutoh, T. Nagasaka, Y. Nagayama, N. Nakajima, Y. Nakamura, H. Nakanishi, H. Nakano, M. Nakata, Y. Narushima, D. Nishijima, A. Nishimura, S. Nishimura, T. Nishitani, M. Nishiura, Y. Nobuta, H. Noto, M. Nunami, T. Obana, K. Ogawa, S. Ohdachi, M. Ohno, N. Ohno, H. Ohtani, M. Okamoto, Y. Oya, T. Ozaki, B. J. Peterson, M. Preynas, S. Sagara, K. Saito, H. Sakaue, A. Sanpei, S. Satake, M. Sato, T. Saze, O. Schmitz, R. Seki, T. Seki, I. Sharov, A. Shimizu, M. Shiratani, M. Shoji, C. Skinner, R. Soga, T. Stange, C. Suzuki, Y. Suzuki, S. Takada, K. Takahata, A. Takayama, S. Takayama, Y. Takemura, Y. Takeuchi, H. Tamura, N. Tamura, H. Tanaka, K. Tanaka, M. Tanaka, T. Tanaka, Y. Tanaka, S. Toda, Y. Todo, K. Toi, M. Toida, M. Tokitani, T. Tokuzawa, H. Tsuchiya, T. Tsujimura, K. Tsumori, S. Usami, J. L. Velasco, H. Wang, T. -H. Watanabe, T. Watanabe, J. Yagi, M. Yajima, H. Yamada, I. Yamada, O. Yamagishi, N. Yamaguchi, Y. Yamamoto, N. Yanagi, R. Yasuhara, E. Yatsuka, N. Yoshida, M. Yoshinuma, S. Yoshimura, Y. Yoshimura

    NUCLEAR FUSION   57 ( 10 )   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1741-4326/aa7fc2

  • Impact of an ionic liquid on protein thermodynamics in the presence of cold atmospheric plasma and gamma rays

    Pankaj Attri, Minsup Kim, Eun Ha Choi, Art E. Cho, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    PHYSICAL CHEMISTRY CHEMICAL PHYSICS   19 ( 37 )   25277 - 25288   2017年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/c7cp04083k

  • Performance enhancement of quantum dot-sensitized solar cells based on polymer nano-composite catalyst

    Hyunwoong Seo, Chandu V. V. M. Gopi, Hee-Je Kim, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    ELECTROCHIMICA ACTA   249   337 - 342   2017年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2017.08.030

  • The protective action of osmolytes on the deleterious effects of gamma rays and atmospheric pressure plasma on protein conformational changes

    Pankaj Attri, Minsup Kim, Thapanut Sarinont, Eun Ha Choi, Hyunwoong Seo, Art E. Cho, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    SCIENTIFIC REPORTS   7   2017年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-017-08643-1

  • 低温プラズマによるナノ粒子の合成と太陽電池への応用 (有機エレクトロニクス)

    古閑 一憲, 徐 鉉雄, 板垣 奈穂, 白谷 正治

    電子情報通信学会技術研究報告 = IEICE technical report : 信学技報   117 ( 8 )   5 - 8   2017年4月

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    記述言語:日本語  

  • Densities and Surface Reaction Probabilities of Oxygen and Nitrogen Atoms During Sputter Deposition of ZnInON on ZnO

    Koichi Matsushima, Tomoaki Ide, Keigo Takeda, Masaru Hori, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   45 ( 2 )   323 - 327   2017年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2016.2632124

  • Influence of plasma irradiation on silkworm

    Akira Yonesu, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Nobuya Hayashi

    Plasma Medicine   7   313 - 320   2017年1月

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    記述言語:その他  

    Influence of plasma irradiation on silkworm
    © 2017 by Begell House, Inc. Silkworms have recently been proposed as an animal model for safety testing in basic research. We propose using silkworms for in vivo trials of direct plasma treatment. In this study, the influence of plasma irradiation on silkworms was investigated using a non-thermal atmospheric pressure plasma. Silkworm survival rate decreased with increasing low-frequency voltage and plasma irradiation period. Further investigation of the plasma-generated agents (oxygen related radicals, UV light, and charged particles), revealed that the contribution of charged particles significantly increases silkworm mortality.

  • ホッとひといき プラズマのほどよい刺激で植物がスクスク育つ

    古閑 一憲

    応用物理   86 ( 1 )   55 - 58   2017年1月

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    記述言語:日本語  

  • Effects of nonthermal plasma jet irradiation on the selective production of H2O2 and NO2- in liquid water

    Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Taiki Ito, Kosuke Takenaka, Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   120 ( 20 )   2016年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4968568

  • Optical Bandgap Energy of Si Nanoparticle Composite Films Deposited by a Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition Method

    Susumu Toko, Yoshinori Kanemitsu, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY   16 ( 10 )   10753 - 10757   2016年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2016.13233

  • Effects of plasma irradiation using various feeding gases on growth of Raphanus sativus L.

    Thapanut Sarinont, Takaaki Amano, Pankaj Attri, Kazunori Koga, Nobuya Hayashi, Masaharu Shiratani

    ARCHIVES OF BIOCHEMISTRY AND BIOPHYSICS   605   129 - 140   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2016.03.024

  • Surface Modification of Polymer Counter Electrode for Low Cost Dye-sensitized Solar Cells

    Hyunwoong Seo, Min-Kyu Son, Shinji Hashimoto, Toshiyuki Takasaki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    ELECTROCHIMICA ACTA   210   880 - 887   2016年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2016.06.020

  • Effect of Sulfur Doped TiO2 on Photovoltaic Properties of Dye-Sensitized Solar Cells

    Hyunwoong Seo, Sang-Hun Nam, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Jin-Hyo Boo

    ELECTRONIC MATERIALS LETTERS   12 ( 4 )   530 - 536   2016年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s13391-016-4018-8

  • Two-dimensional concentration distribution of reactive oxygen species transported through a tissue phantom by atmospheric-pressure plasma-jet irradiation

    Toshiyuki Kawasaki, Akihiro Sato, Shota Kusumegi, Akihiro Kudo, Tomohiro Sakanoshita, Takuya Tsurumaru, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   9 ( 7 )   2016年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.9.076202

  • Correlation between SiH2/SiH and light-induced degradation of p-i-n hydrogenated amorphous silicon solar cells 査読

    Kimitaka Keya, Takashi Kojima, Yoshihiro Torigoe, Susumu Toko, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   55 ( 7 )   2016年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.07LE03

  • Correlation between SiH

    Keya Kimitaka, Kojima Takashi, Torigoe Yoshihiro, Toko Susumu, Yamashita Daisuke, Seo Hyunwoong, Itagaki Naho, Koga Kazunori, Shiratani Masaharu

    Jpn. J. Appl. Phys.   55 ( 7 )   07LE03   2016年6月

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    記述言語:英語  

    Correlation between SiH
    We have measured the hydrogen content ratio I<inf>SiH2</inf>/I<inf>SiH</inf>associated with Si–H<inf>2</inf>and Si–H bonds in p–i–n (PIN) a-Si:H solar cells by Raman spectroscopy. With decreasing I<inf>SiH2</inf>/I<inf>SiH</inf>, the efficiency, short-circuit current density, open-circuit voltage, and fill factor of PIN a-Si:H solar cells after light soaking tend to increase. Namely, I<inf>SiH2</inf>/I<inf>SiH</inf>correlates well with light-induced degradation of the cells. While a single I-layer has a low I<inf>SiH2</inf>/I<inf>SiH</inf>of 0.03–0.09, a PIN cell has I<inf>SiH2</inf>/I<inf>SiH</inf>= 0.18 because many Si–H<inf>2</inf>bonds exist in the P-layer and at the P/I interface of the PIN solar cells. To realize PIN solar cells with higher stability, we must suppress Si–H<inf>2</inf>bond formation in the P-layer and at the P/I interface.

    DOI: 10.7567/JJAP.55.07LE03

  • Improvement of Charge Transportation in Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells Using Vanadium Doped TiO2

    Hyunwoong Seo, Daiki Ichida, Shinji Hashimoto, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Sang-Hun Nam, Jin-Hyo Boo

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY   16 ( 5 )   4875 - 4879   2016年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2016.12210

  • Effects of irradiation distance on supply of reactive oxygen species to the bottom of a Petri dish filled with liquid by an atmospheric O-2/He plasma jet

    Toshiyuki Kawasaki, Shota Kusumegi, Akihiro Kudo, Tomohiro Sakanoshita, Takuya Tsurumaru, Akihiro Sato, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   119 ( 17 )   2016年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4948430

  • Polymer counter electrode of poly(3,4-ethylenedioxythiophene):Poly(4-styrenesulfonate) containing TiO2 nano-particles for dye-sensitized solar cells

    Hyunwoong Seo, Min-Kyu Son, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JOURNAL OF POWER SOURCES   307   25 - 30   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jpowsour.2015.12.112

  • Quantum Characterization of Si Nano-Particles Fabricated by Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition

    Hyunwoong Seo, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    SCIENCE OF ADVANCED MATERIALS   8 ( 3 )   636 - 639   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/sam.2016.2520

  • Effects of gas flow rate on deposition rate and number of Si clusters incorporated into a-Si:H films

    Susumu Toko, Yoshihiro Torigoe, Kimitaka Keya, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   55 ( 1 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.01AA19

  • Simple method of improving harvest by nonthermal air plasma irradiation of seeds of Arabidopsis thaliana (L.)

    Kazunori Koga, Sarinont Thapanut, Takaaki Amano, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Nobuya Hayashi, Masaharu Shiratani

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   9 ( 1 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.9.016201

  • Effects of deposition rate and ion bombardment on properties of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD method

    Xiao Dong, Kazunori Koga, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   55 ( 1 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.01AA11

  • Influence of ionic liquid and ionic salt on protein against the reactive species generated using dielectric barrier discharge plasma

    Pankaj Attri, Thapanut Sarinont, Minsup Kim, Takaaki Amano, Kazunori Koga, Art E. Cho, Eun Ha Choi, Masaharu Shiratani

    SCIENTIFIC REPORTS   5   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep17781

  • Gas Flow Rate Dependence of the Discharge Characteristics of a Plasma Jet Impinging Onto the Liquid Surface

    Giichiro Uchida, Atsushi Nakajima, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   43 ( 12 )   4081 - 4087   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2015.2488619

  • Synthesis of Indium-Containing Nanoparticles in Aqueous Suspension Using Plasmas in Water for Evaluating Their Kinetics in Living Body

    Takaaki Amano, Thapanut Sarinont, Kazunori Koga, Miyuki Hirata, Akiyo Tanaka, Masaharu Shiratani

    JOURNAL OF NANOSCIENCE AND NANOTECHNOLOGY   15 ( 11 )   9298 - 9302   2015年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2015.11427

  • Structural alternation of tandem dye-sensitized solar cells based on mesh-type of counter electrode

    Hyunwoong Seo, Shinji Hashimoto, Daiki Ichida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    ELECTROCHIMICA ACTA   179   206 - 210   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2015.04.105

  • Synthesis of indium-containing nanoparticles using plasmas in water to study their effects on living body 査読

    T. Amano, K. Koga, T. Sarinont, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, S. Kitazaki, M. Hirata, Y. Nakatsu, A. Tanaka

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   LW1.158   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Synthesis of indium-containing nanoparticles using plasmas in water to study their effects on living body
    Nanoparticles can be employed for biomedical applications such as biomarkers, drug delivery systems, and cancer therapies. They are, however, pointed out their adverse effects on human body. Here, we synthesed indium-containing nanoparticles using discharge plasmas with indium electrodes immersed in DI water and administrated nanoparticles to rats to analyze their kinetics in living body. The discharge power was 5.1 W. The electron density is 5x1017/cm3 deduced from Stark broadening of hydrogen lines. TEM observation shows the mean size of primary nanoparticles is 7 nm. The nanoparticles are indium crystalline and indium hydroxide crystalline. The synthesized nanoparticles and purchased nanoparticles (In2O3, <100nm) were administrated to rats using subcutaneous injection. Indium of 166.7 g/day (synthesized) and of 27.8 g/day (purchased) are detected from the urine at 12 weeks after the administration. Synthesized nanoparticles dispersed in water are useful for analyzing kinetics of nanoparticles in living body. Work partly supported by KAKENHI.

  • Attraction during binary collision of fine particles in Ar plasma 査読

    M. Soejima, T. Ito, D. Yamashita, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   GT1.018   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Attraction during binary collision of fine particles in Ar plasma
    Forces exerted on fine particles in plasmas play central roles in their transport, agglomeration, as well as Coulomb crystals and liquids. The forces are complicated because of charge fluctuation of fine particles, charge screening in plasma, anisotropy of plasma flow, and so on. Various formulas of such forces have been theoretically predicted but many of them have not been supported by experimental results yet. Here we carried out experiments on binary collision of fine particles using Ar rf-discharge plasmas. PMMA fine particles of 10 μm diameter were injected into the plasma and they were levitated around the plasma sheath boundary. The number of fine particles levitated was so small that we can observe non-collective pair interaction. We observed binary collisions of fine particles with a high speed and high resolution camera. We found that repulsion of two fine particles takes place in short distances, whereas attraction takes place in middle distances. These results indicate that inter-molecular like potential exists between them. The attraction corresponds to non-collective fine-particle attraction due to shadow effects.

  • Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas 査読

    S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   GT1.152   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas
    Light-induced degradation is the most important issue for hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) solar cells. Our previous results have suggested that incorporation of clusters into films is responsible for the light-induced degradation. Therefore, it is important to control the incorporation of clusters. Recently, we have developed multi-hollow discharge plasma CVD method, by which clusters are driven toward the downstream region and high quality a-Si:H films can be deposited in the upstream region. Here, we report effects of H2 dilution on cluster incorporation. Cluster size was measured by TEM, and the incorporation amount of clusters was measured with quartz crystal microbalances. H2 dilution leads to smaller clusters and the cluster incorporation in the upstream region increases with H2 dilution because the diffusion velocity of such small clusters much surpasses gas flow velocity.

  • Cross correlation analysis of plasma perturbation in amplitude modulated reactive dusty plasmas 査読

    T. Ito, M. Soejima, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Kobayashi, S. Inagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   GT1.049   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Cross correlation analysis of plasma perturbation in amplitude modulated reactive dusty plasmas
    Interactions between plasmas and nano-interface are one of the most important issues in plasma processing. We have studied effects of plasma perturbation on growth of nanoparticles in amplitude modulated reactive dusty plasmas and have clarified that amplitude modulation (AM) leads to suppression of growth of nanoparticles [1]. Here we report results of cross correlation analysis of time evolution of laser light scattering intensity from nanoparticles in reactive plasmas. Experiments were carried out using a capacitively-coupled rf discharge reactor with a two-dimensional laser light scattering (LLS) system. We employed Ar +DM-DMOS discharge plasmas to generate nanoparticles. The peaks at higher harmonics and subharmonics in spectra of laser light scattering intensity were detected, suggesting nonlinear coupling between plasma and nanoparticle amount. We found high cross correlation t between waves at AM frequency and its higher harmonics. Namely, perturbation at fAM closely correlates with those at higher harmonics.

  • Deposition rate and etching rate due to neutral radicals and dust particles measured using QCMs together with a dust eliminating filter 査読

    R. Katayama, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, M. Tokitani, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD Experimental Group

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   LW1.101   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Deposition rate and etching rate due to neutral radicals and dust particles measured using QCMs together with a dust eliminating filter
    We have developed an in-situ method for measuring deposition rate of radicals and dust particles using quartz crystal microbalances (QCMs) together with a dust eliminating filter. The QCMs have three channels of quartz crystals. Channel 1 was used to measure total deposition rate due to radicals and dust particles. Channel 2 was covered with a dust eliminating filter. Channel 3 was covered with a stainless-steel plate. Moreover, all QCMs are covered with a grounded stainless steel mesh for suppressing influx of charged particles. The measurements were conducted in the Large Helical Device in the National Institute for Fusion Science, Japan. Although the deposition measurements during the discharges were difficult, we obtained deposition rate and etching rate by comparing the data before and after each discharge. The frequency difference for channel 1 changes from 0.1 Hz (etching) to -0.5 Hz (deposition), while those for channels 2 and 3 are within a range of +/-0.1 Hz and +/-0.05 Hz, respectively. The QCM method gives information on deposition rate and etching rate due to neutral radicals and dust particles.

  • Effects of electrode structure on characteristics of multi-hollow discharges 査読

    Y. Torigoe, K. Keya, S. Toko, H. Seo, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   LW1.129   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Effects of electrode structure on characteristics of multi-hollow discharges
    Silane plasmas are widely employed for hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) film deposition. Amorphous silicon nanoparticles below 10 nm in size (clusters) are formed in silane plasmas and some of them are incorporated into a-Si:H films, leading to the light induced degradation which is the most important issue for a-Si:H solar cells. To suppress cluster incorporation, a multi-hollow discharge plasma CVD method has been developed and succeeded in depositing highly stable a-Si:H films. For further improvement of the film qualities, we have employed a thicker grounded electrode to suppress plasma expansion toward the deposition region. From optical images of the discharge plasmas, the expansion was significantly suppressed using 10 mm thick grounded electrode. For the 10 mm thick electrode, optical emission intensity ratio of Si* (288 nm) and SiH* (414 nm) ISi*/ISiH*, which shows a ratio of cluster generation ratio and radical ones, was 20&#37; of that for 1mm thick electrode. These results suggest that the generation of clusters was also suppressed using the 10 mm thick grounded electrode.

  • Effects of N2 dilution on fabrication of Ge nanoparticles by rf sputtering 査読

    S. Hashimoto, S. Tanami, H. Seo, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   LW1.133   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Effects of N2 dilution on fabrication of Ge nanoparticles by rf sputtering
    Multiple exciton generation (MEG) in QDs is expected to enhance significantly the energy conversion efficiency of solar cells. Although there are several reports on MEG characteristics from various QD materials such as PbS, CdSe, CdS ZnS, and Ag2S, such materials have disadvantages of their toxicity and limited resources. Here we have developed quantum-dots (QDs) solar cells using Ge nanoparticles fabricated by rf sputtering method under high pressure. We fabricated Ge nanoparticles by rf sputtering at a pressure of 1.5 Torr. Since the mean free path of Ge atoms is an order of micrometer, and Ge nanoparticles are formed in gas phase. We fabricated Ge nanoparticles using Ar and N2 to terminate surface defects by N. Ge and Ar emission intensities decrease significantly with increasing N2 partial pressure. The electron density was measured with a plasma absorption probe. The electron density decreases with increasing N2 partial pressure.

  • Laser trapped single fine particle as a probe of plasma parameters” 査読

    LW1.104   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Here we report evaluation of electron density and temperature using optically trapped single fine particle. Experiments were carried out with a radio frequency low pressure plasma reactor, where we set two quartz windows as top and bottom flanges to irradiate an infrared laser light of 1064 nm wavelength from the bottom side. Ar plasmas were generated between a powered ring-electrode set at the bottom of the reactor and a grounded mesh placed at the center of the reactor at 100 Pa by applying 13.56 MHz voltage. The particles injected into the plasmas were monodisperse methyl methacrylate-polymer spheres of 10 μm in diameter. A negatively charged particle, which is suspended plasma sheath boundary, was trapped at the focal point of the irradiated laser light due to the transfer of momentum from the scattering of incident photons. At the beginning of the trapping, particle of 10 μm in size was trapped above 505 μm from the bottom window. After 230 min, the size and position were 9.56 μm and 520 μm, respectively. From the results, the electron density and temperature are deduced to be 1.7×109 cm-3 and 1.9 eV.

  • Raman spectroscopy of PIN hydrogenated amorphous silicon solar cells 査読

    K. Keya, Y. Torigoe, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   LW1.132   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Raman spectroscopy of PIN hydrogenated amorphous silicon solar cells
    Light-induced degradation of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) is a key issue for enhancing competitiveness in solar cell market. A-Si:H films with a lower density of Si-H2 bonds shows higher stability. Here we identified Si-H2 bonds in PIN a-Si:H solar cells fabricated by plasma CVD using Raman spectroscopy. A-Si:H solar cell has a structure of B-doped μc-SiC:H (12.5 nm)/ non-doped a-Si:H (250nm)/ P-doped μc-Si:H (40 nm) on glass substrates (Asahi-VU). By irradiating HeNe laser light from N-layer, peaks correspond to Si-H2 bonds (2100 cm-1) and Si-H bonds (2000 cm-1) have been identified in Raman scattering spectra. The intensity ratio of Si-H2 and Si-H ISiH2/ISiH is found to correlate well to light induced degradation of the cells Therefore, Raman spectroscopy is a promising method for studying origin of light-induced degradation of PIN solar cells.

  • Simple Evaluation Method of Atmospheric Plasma Irradiation Dose using pH of Water 査読

    K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, Y. Nakatsu, A. Tanaka, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   LW1.143   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Simple Evaluation Method of Atmospheric Plasma Irradiation Dose using pH of Water
    Atmospheric discharge plasmas are promising for agricultural productivity improvements and novel medical therapies, because plasma provides high flux of short-lifetime reactive species at low temperature, leading to low damage to living body. For the plasma-bio applications, various kinds of plasma systems are employed, thus common evaluation methods are needed to compare plasma irradiation dose quantitatively among the systems. Here we offer simple evaluation method of plasma irradiation dose using pH of water. Experiments were carried out with a scalable DBD device. 300 μl of deionized water was prepared into the quartz 96 microwell plate at 3 mm below electrode. The pH value has been measured just after 10 minutes irradiation. The pH value was evaluated as a function of plasma irradiation dose. Atmospheric air plasma irradiation decreases pH of water with increasing the dose. We also measured concentrations of chemical species such as nitrites, nitrates and H2O2. The results indicate our method is promising to evaluate plasma irradiation dose quantitatively.

  • Substrate temperature dependence of Au-induced crystalline Ge film formation using sputtering deposition 査読

    S. Tanami, D. Ichida, D. Hashimoto, G. Uchida, H. Seo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP609   GT1.149   2015年9月

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    記述言語:その他  

    Substrate temperature dependence of Au-induced crystalline Ge film formation using sputtering deposition
    We are developing Au-induced crystalline Ge film formation using sputtering deposition. For the method, very thin Au films were deposited on SiO2 substrates and then Ge atoms were irradiated to the Au films by sputtering. We found two kinds of Ge film growth: one is Ge film formation on Au films, and the other is Ge film formed between Au films and SiO2. The latter film formation, however, takes place in a narrow temperature range around 140°C. Here we report two kinds of substrate temperature dependence of Ge film formation: one is annealing temperature of Au films, and the other is the substrate temperature dependence during Ge sputtering. 30nm-thick Au films were deposited quartz glass as a catalyst at room temperature by sputtering. Then the Au films were annealed in a temperature range from room temperature to 190 °C in a vacuum. Au grain grows and crystal orientation shows better alignment as the annealing temperature rises. We found that the smaller grain size with random orientation is better for Ge film formed between Au films and SiO2.

  • Real-time mass measurement of dust particles deposited on vessel wall in a divertor simulator using quartz crystal microbalances

    Mizuki Tateishi, Kazunori Koga, Ryu Katayama, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Naoko Ashikawa, Suguru Masuzaki, Kiyohiko Nishimura, Akio Sagara

    JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS   463   865 - 868   2015年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jnucmat.2014.10.049

  • Fabrication of ZnInON/ZnO multi-quantum well solar cells

    Koichi Matsushima, Ryota Shimizu, Tomoaki Ide, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    THIN SOLID FILMS   587   106 - 111   2015年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2015.01.012

  • Effects of gas flow on oxidation reaction in liquid induced by He/O-2 plasma-jet irradiation

    Atsushi Nakajima, Giichiro Uchida, Toshiyuki Kawasaki, Kazunori Koga, Thapanut Sarinont, Takaaki Amano, Kosuke Takenaka, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   118 ( 4 )   2015年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4927217

  • Effects of cluster incorporation into hydrogenated amorphous silicon films in initial discharge phase on film stability

    Susumu Toko, Yoshihiro Torigoe, Weiting Chen, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   587   126 - 131   2015年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2015.02.052

  • Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method 査読

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   40 ( 2 )   123-128 - 128   2015年7月

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    記述言語:英語  

    Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method
    Hydrogen bonding configurations and hydrogen content of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD were investigated by Fourier transform infrared spectroscopy. Plasma parameters related to deposition rate were derived using optical emission spectroscopy. The a-C:H films contain a large number of sp3 configurations (93&#37;) and a few sp2 configurations (7&#37;). Most of the hydrogen is bonded in methyl groups which shows the structure of deposited a-C:H films is polymer-like carbon. The mass density has nearly linear decreases with increasing the hydrogen atom density, indicating that control of hydrogen content is crucial to obtain a-C:H films of high mass density. A slight increase in radical generation rate and significant increases in etching rate by hydrogen atoms lead to decrease the deposition rate when the discharge voltage increases from 170 V to 180 V.

    DOI: 10.14723/tmrsj.40.123

  • Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD 査読

    X. Dong, R. Torigoe, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani, N. Itagaki, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   015072   2015年3月

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    記述言語:英語  

    Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015072

  • Photovoltaic application of Si nanoparticles fabricated by multihollow plasma discharge CVD: Dye and Si co-sensitized solar cells

    Hyunwoong Seo, Daiki Ichida, Shinji Hashimoto, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   54 ( 1 )   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.01AD02

  • Dust Hour Glass in a Capacitive RF Discharge

    Shinya Iwashita, Edmund Schuengel, Julian Schulze, Peter Hartmann, Zoltan Donko, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Uwe Czarnetzki

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   42 ( 10 )   2672 - 2673   2014年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2014.2343975

  • Visualization of the Distribution of Oxidizing Substances in an Atmospheric Pressure Plasma Jet

    Toshiyuki Kawasaki, Kota Kawano, Hiroshi Mizoguchi, Yuto Yano, Keisuke Yamashita, Miho Sakai, Takako Shimizu, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   42 ( 10 )   2482 - 2483   2014年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2014.2325038

  • Synthesis and characterization of ZnInON semiconductor: a ZnO-based compound with tunable band gap

    N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    MATERIALS RESEARCH EXPRESS   1 ( 3 )   2014年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/2053-1591/1/3/036405

  • Off-axis sputter deposition of ZnO films on c-sapphire substrates by utilizing nitrogen-mediated crystallization method 査読

    Naho Itagaki, Kazunari Kuwahara, Koichi Matsushima, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    OPTICAL ENGINEERING   53 ( 8 )   87109   2014年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1117/1.OE.53.8.087109

  • Plasma induced long-term growth enhancement of Raphanus sativus L. using combinatorial atmospheric air dielectric barrier discharge plasmas

    Satoshi Kitazaki, Thapanut Sarinont, Kazunori Koga, Nobuya Hayashi, Masaharu Shiratani

    CURRENT APPLIED PHYSICS   14   S149 - S153   2014年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2013.11.056

  • Performance dependence of Si quantum dot-sensitized solar cells on counter electrode

    Hyunwoong Seo, Daiki Ichida, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   53 ( 5 )   2014年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.05FZ01

  • Electrochemical impedance analysis on the additional layers for the enhancement on the performance of dye-sensitized solar cell

    Hyunwoong Seo, Min-Kyu Son, Songyi Park, Myeongsoo Jeong, Hee-Je Kim, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   554   122 - 126   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.08.103

  • Analysis on the Photovoltaic Property of Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells

    Hyunwoong Seo, Daiki Ichida, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    INTERNATIONAL JOURNAL OF PRECISION ENGINEERING AND MANUFACTURING   15 ( 2 )   339 - 343   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s12541-014-0343-8

  • Performance enhancement of dye and Si quantum dot hybrid nanostructured solar cell with TiO2 barrier 査読

    H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   39 ( 3 )   321 - 324   2014年1月

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    記述言語:日本語  

    Performance enhancement of dye and Si quantum dot hybrid nanostructured solar cell with TiO2 barrier
    Dye and quantum dot (QD) are representative sensitizers of the photochemical solar cells. Dye has the highest efficiency in the whole sensitizers. QDs have relatively low performance but their multiple exciton generation enhanced theoretical efficiency from 33 to 44&#37; and expected to achieve high efficiency. This work tried to enhance the photovoltaic performance with the co-sensitization of N719 dye and Si QD. The performance of dye and QD co-sensitized solar cell was not much enhanced because of electron loss of charge recombination. Therefore, TiO2 barrier layer was introduced on TiO2 and Si QD. It blocked the charge recombination with redox electrolyte. It also helped better electron injection from excited dye to TiO2 with strengthened dye adsorption. Consequently, the performance of co-sensitized solar cell was enhanced with reduced charge recombination and increased dye adsorption.

    DOI: 10.14723/tmrsj.39.321

  • Theory for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas

    Masaharu Shiratani, Kazunori Koga, Kunihiro Kamataki, Shinya Iwashita, Giichiro Uchida, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   53 ( 1 )   2014年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.010201

  • A model for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas 査読

    M. Shiratani, K. Koga, K. Kamataki, S. Iwashita, Y. Morita, H. Seo, N. Itagaki, G. Uchida

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   4B-PM-O1   2014年1月

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    記述言語:その他  

    A model for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas

  • Analysis of fluctuation of Ar metastable density and nanoparticle amount in capacitively coupled discharges with amplitude modulation 査読

    Y. Morita, T. Ito, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-AM-S02-P1   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Analysis of fluctuation of Ar metastable density and nanoparticle amount in capacitively coupled discharges with amplitude modulation

  • Combinatorial evaluation of optical properties of crystalline Si nanoparticle embedded Si films deposited by a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読

    Y. Kanemitsu, G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   6P-AM-S08-P35   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Combinatorial evaluation of optical properties of crystalline Si nanoparticle embedded Si films deposited by a multi-hollow discharge plasma CVD method

  • Coupling between radicals and nanoparticles in initial growth phase in reactive plasmas with amplitude modulation 査読

    K. Koga, Y. Morita, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Itagaki, G. Uchida, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   3B-WS-14   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Coupling between radicals and nanoparticles in initial growth phase in reactive plasmas with amplitude modulation

  • Deposition of Crystalline Ge Nanoparticle Films Varying H2 Dilution Ratio Using High Pressure rf Magnetron Sputtering 査読

    S. Hashimoto, D. Ichida, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   6P-AM-S08-P32   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Deposition of Crystalline Ge Nanoparticle Films Varying H2 Dilution Ratio Using High Pressure rf Magnetron Sputtering

  • Effects of amplitude modulation on deposition of hydrogenated amorphous silicon films using multi-Hollow discharge plasma CVD method 査読

    Y. Torigoe, Y. Hashimoto, S. Toko, Y. Kim, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   6P-AM-S08-P36   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of amplitude modulation on deposition of hydrogenated amorphous silicon films using multi-Hollow discharge plasma CVD method

  • Epitaxial growth of ZnO films on sapphire substrates by magnetron sputtering: Effects of buffer layers prepared via nitrogen mediated crystallization 査読

    T. Ide, K. Matsushima, R. Shimizu, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   4P-PM-S08-P10   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Epitaxial growth of ZnO films on sapphire substrates by magnetron sputtering: Effects of buffer layers prepared via nitrogen mediated crystallization

  • Fabrication of In-rich ZnInON filmswith narrow band gap by RF magnetron sputtering 査読

    K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-PM-S08-P02   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Fabrication of In-rich ZnInON filmswith narrow band gap by RF magnetron sputtering

  • Fabrication of SiC nanoparticles as high capacity electrodes for Li-ion batteries 査読

    G. Uchida, K. Kamataki, D. Ichida, Y. Morita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, T. Ishihara, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   4C-PM-O1   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Fabrication of SiC nanoparticles as high capacity electrodes for Li-ion batteries

  • Fabrication of size-controlled Ge nanoparticle films varying gas flow rate using high pressure rf magnetron sputtering method 査読

    D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, H. Seo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   6P-AM-S08-P33   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Fabrication of size-controlled Ge nanoparticle films varying gas flow rate using high pressure rf magnetron sputtering method

  • Fine response of deposition rate of Si films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD with amplitude modulation 査読

    S. Toko, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, Y. Torigoe, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-AM-S05-P17   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Fine response of deposition rate of Si films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD with amplitude modulation

  • Magnetron sputtering of low-resistive In2O3:Sn films with buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization 査読

    K. Oshikawa, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-PM-S08-P07   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Magnetron sputtering of low-resistive In2O3:Sn films with buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization

  • Nanoparticle amount in reactive plasmas with amplitude modulation detected by twodimensional laser light scattering method 査読

    T. Ito, Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-AM-SPD-P01   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Nanoparticle amount in reactive plasmas with amplitude modulation detected by twodimensional laser light scattering method

  • Raman spectroscopy of a fine particle optically trapped in plasma”, Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas 査読

    5P-AM-S05-P23   2014年1月

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    記述言語:その他  

  • Spatial profile of flux of dust particles in hydrogen helicon plasmas”, Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas 査読

    5P-AM-S05-P21   2014年1月

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    記述言語:その他  

  • Sputter Deposition of Ga-doped Zinc Oxide (GZO) Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization 査読

    T. Nakanishi, K. Oshikawa, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-AM-S05-P19   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Sputter Deposition of Ga-doped Zinc Oxide (GZO) Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization

  • Sputtering fabrication of a novel widegap semiconductor ZnGaON for optoelectronic devices with wide bandgap for optical device 査読

    R. Shimizu, K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-PM-S08-P03   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Sputtering fabrication of a novel widegap semiconductor ZnGaON for optoelectronic devices with wide bandgap for optical device

  • Study on nitrogen desorption behavior of sputtered ZnO for transparent conducting oxide 査読

    I. Suhariadi, K. Oshikawa, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-PM-S08-P05   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Study on nitrogen desorption behavior of sputtered ZnO for transparent conducting oxide

  • Subacute toxicity of gallium arsenide, indium arsenide and arsenic trioxide following intermittent intrantracheal instillations to the lung of rats 査読

    A. Tanaka, M. Hirata, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Hayashi, G. Uchida

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   5P-AM-S2-P35   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Subacute toxicity of gallium arsenide, indium arsenide and arsenic trioxide following intermittent intrantracheal instillations to the lung of rats

  • Substrate temperature dependence of hydrogen content of a-Si:H film deposited with a cluster-eliminating filter 査読

    Y. Hashimoto, S. Toko, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   6P-AM-S08-P37   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Substrate temperature dependence of hydrogen content of a-Si:H film deposited with a cluster-eliminating filter

  • Combinatorial Plasma CVD of Si Nanoparticle Composite Films for Band Gap Control 査読

    G. Uchida, Y. Kanemitsu, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    JPS Conf. Proc   1   15080   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Combinatorial Plasma CVD of Si Nanoparticle Composite Films for Band Gap Control
    Crystalline Si nanoparticles were successfully fabricated by a multi-hollow discharge plasma CVD method. Optical band gap of Si-nanoparticle composite films was controlled in a range of 1.6?1.9?eV by the volume fraction of Si nanoparticles in the films. SiN nanoparticle composite films were also successfully produced using a double multi-hollow discharge plasma CVD method in SiH4/H2 and N2 gas mixture. High optical band gap of 2.1?2.2?eV was achieved by adding N atoms to the Si naoparticles.

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015080

  • Correlation between nanoparticle growth and plasma parameters in low pressure reactive VHF discharge plasmas 査読

    M. Shiratani, Y. Morita, K. Kamataki, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

    JPS Conf. Proc   1   15083   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Correlation between nanoparticle growth and plasma parameters in low pressure reactive VHF discharge plasmas
    We report experimental results on correlation between plasma parameters and growth of nanoparticles in capacitively-coupled VHF discharges with amplitude modulation (AM) obtained using two dimensional laser light scattering (LLS) method. Power spectra of floating potential, Ar 810.27?nm emission intensity, and LLS intensity have peaks at the modulation frequency of 100?Hz and its second harmonics, indicating linear correlation between plasma parameters and growth of nanoparticles, that is, their size and/or density. The power spectrum of LLS intensity has another peak at 60?Hz, which coincides with our theoretical prediction of plasma fluctuation induceed nonlinear response of nanoparticle growth.

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015083

  • Effects of Grid DC Bias on Incorporation of Si Clusters into Amorphous Silicon Thin Films in Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 査読

    S. Toko, Y. Kim, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    JPS Conf. Proc   1   15069   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of Grid DC Bias on Incorporation of Si Clusters into Amorphous Silicon Thin Films in Multi-Hollow Discharge Plasma CVD
    Si clusters formed in silane discharge plasmas are mainly responsible for light induced degradation of hydrogenated amorphous Si (a-Si:H) thin films deposited by the plasmas. Here we have investigated effects of grid DC bias on incorporation amount of Si clusters into a-Si:H films in multi-hollow discharge plasma CVD reactor using quartz crystal microbalances, by which volume fraction of Si clusters in deposited films is quantitatively measured. When the grid potential is lower than plasma potential, the negatively charged clusters are repelled away from the grid by electrostatic force, resulting in lower volume fraction.

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015069

  • Effects of H2 Gas Addition on Structure of Ge Nanoparticle Films Deposited by High-pressure RF Magnetron Sputtering Method 査読

    G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    JPS Conf. Proc   1   15082   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of H2 Gas Addition on Structure of Ge Nanoparticle Films Deposited by High-pressure RF Magnetron Sputtering Method
    We have deposited crystalline Ge nanoparticle films using a radio frequency magnetron sputtering method in argon and hydrogen gas mixture under a high pressure condition. Raman spectra and X-ray diffraction pattern of Ge nanoparticle films show a transition from amorphous to crystalline by adding H2 gas.

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015082

  • Spatial Profile of Flux of Dust Particles Generated due to Interaction between Hydrogen Plasmas and Graphite Target 査読

    M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group

    JPS Conf. Proc   1   15020   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Spatial Profile of Flux of Dust Particles Generated due to Interaction between Hydrogen Plasmas and Graphite Target
    We have measured spatial profile of flux of dust particles generated due to interaction between H2 plasmas and graphite target in a divertor simulator to study transport mechanism of dust particles. Dust particles were collected on c-Si substrates and observed with a scanning electron microscope. We have found nanostructure of 10?nm in size on the substrate surface. Dust fluxes of both spherical dust particles and flakes are maximum at a position between 80 and 140?mm from the center of the plasma column. The spatial profile of dust flux is determined by the balance between deposition of nanoparticles and their etching by H atoms.

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015020

  • Study on the Crystal Growth Mechanism of ZnO Films Fabricated Via Nitrogen Mediated Crystallization 査読

    I. Suhariadi, K. Oshikawa, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    JPS Conf. Proc   1   15064   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Study on the Crystal Growth Mechanism of ZnO Films Fabricated Via Nitrogen Mediated Crystallization
    Effects of nitrogen addition to the sputtering atmosphere on crystal growth of ZnO films have been studied. The AFM characterization shows that the nitrogen suppresses the nucleation in the early stage of the crystal growth leading to a non-continue film structure with sparsely distributed grains. As the deposition time increases, the physical properties of the ZnO films are modified by enhancement of adatoms migration at the growing surface, thus homogenous and dense films with larger grain size are obtained. Utilizing these ZnO films as buffer layers with film thickness greater than 4?nm, the electrical resistivity of ZnO:Al films have been significantly decreased from 7.8 × 10?3?Ω?cm to 6.7 × 10?4?Ω?cm.

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015064

  • Nanostructure control of Si and Ge quantum dots based solar cells using plasma processes

    Masaharu Shiratani, Giichiro Uchida, Hyun Woong Seo, Daiki Ichida, Kazunori Koga, Naho Itagaki, Kunihiro Kamataki

    Materials Science Forum   783-786   2022 - 2027   2014年1月

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    記述言語:その他  

    Nanostructure control of Si and Ge quantum dots based solar cells using plasma processes
    We report characteristics of quantum dot (QD) sensitized solar cells using Si nanoparticles and Ge nanoparticles. Si nanoparticles were synthesized by multi-hollow discharge plasma chemical vapor deposition, whereas Ge nanoparticles were done by a radio frequency magnetron sputtering using Ar+H2 under high pressure conditions. The electrical power generation from Si QDs and Ge QDs was confirmed. Si QD sensitized solar cells show an efficiency of 0.024&#37;, fill factor of 0.32, short-circuit current of 0.75 mA/cm2 and open-circuit voltage of 0.10 V, while Ge QD sensitized solar cells show an efficiency of 0.036&#37;, fill factor of 0.38, short-circuit current of 0.64 mA/cm2 and open-circuit voltage of 0.15 V. © (2014) Trans Tech Publications, Switzerland.

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.783-786.2022

  • スパッタリング成膜法による高品質酸化亜鉛薄膜の形成 招待 査読

    板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

    応用物理   83   385 - 389   2014年1月

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    記述言語:その他  

    スパッタリング成膜法を用いた酸化亜鉛(ZnO)薄膜の結晶成長において,初期核形成を制御する新しい方法「不純物添加結晶化(Impurity Mediated Crystallization: IMC)法」を開発した.本手法により,高格子不整合基板上への原子レベルで平坦なZnO単結晶膜の作製や,ガラス基板上への極薄低抵抗ZnO導電膜の形成が可能となった.本稿では,IMC法について紹介するとともに,これら成果の概要を述べる.

  • The improvement on the performance of quantum dot-sensitized solar cells with functionalized Si

    Hyunwoong Seo, Yuting Wang, Muneharu Sato, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Naho Itagaki, Kunihiro Kamataki, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   546   284 - 288   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.04.073

  • Characteristics of Crystalline Silicon/Si Quantum Dot/Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Hybrid Solar Cells

    Giichiro Uchida, Yuting Wang, Daiki Ichida, Hyunwoong Seo, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 11 )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NA05

  • Correlation between Volume Fraction of Silicon Clusters in Amorphous Silicon Films and Optical Emission Properties of Si* and SiH*

    Yeonwon Kim, Kosuke Hatozaki, Yuji Hashimoto, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 11 )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NA07

  • Effects of Nitrogen on Crystal Growth of Sputter-Deposited ZnO Films for Transparent Conducting Oxide

    Iping Suhariadi, Kouichiro Oshikawa, Kazunari Kuwahara, Kouichi Matsushima, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 11 )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NB03

  • Epitaxial Growth of ZnInON Films with Tunable Band Gap from 1.7 to 3.3 eV on ZnO Templates

    Koichi Matsushima, Tadafumi Hirose, Kazunari Kuwahara, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Hyunwoong Seo, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 11 )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NM06

  • Flux Control of Carbon Nanoparticles Generated due to Interactions between Hydrogen Plasmas and Graphite Using DC-Biased Substrates

    Kazunori Koga, Mizuki Tateishi, Katsushi Nishiyama, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Naoko Ashikawa, Suguru Masuzaki, Kiyohiko Nishimura, Akio Sagara

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 11 )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NA08

  • Improvement on the electron transfer of dye-sensitized solar cell using vanadium doped TiO2

    Hyunwoong Seo, Yuting Wang, Daiki Ichida, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Sang-Hun Nam, Jin-Hyo Boo

    Japanese Journal of Applied Physics   52 ( 11 )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NM02

  • Study on the Fabrication of Paint-Type Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells

    Hyunwoong Seo, Min-Kyu Son, Hee-Je Kim, Yuting Wang, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 10 )   2013年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.10MB07

  • Extension of operation regimes and investigation of three-dimensional currentless plasmas in the Large Helical Device

    O. Kaneko, H. Yamada, S. Inagaki, M. Jakubowski, S. Kajita, S. Kitajima, Kobayashi, K. Koga, T. Morisaki, S. Morita, T. Mutoh, S. Sakakibara, Y. Suzuki, H. Takahashi, K. Tanaka, K. Toi, Y. Yoshimura, T. Akiyama, Y. Asahi, N. Ashikawa, H. Chikaraishi, A. Cooper, D. S. Darrow, E. Drapiko, P. Drewelow, X. Du, A. Ejiri, M. Emoto, T. Evans, N. Ezumi, K. Fujii, T. Fukuda, H. Funaba, M. Furukawa, D. A. Gates, M. Goto, T. Goto, W. Guttenfelder, S. Hamaguchi, M. Hasuo, T. Hino, Y. Hirooka, K. Ichiguchi, K. Ida, H. Idei, T. Ido, H. Igami, K. Ikeda, S. Imagawa, T. Imai, M. Isobe, M. Itagaki, T. Ito, K. Itoh, S. Itoh, A. Iwamoto, K. Kamiya, T. Kariya, H. Kasahara, N. Kasuya, D. Kato, T. Kato, K. Kawahata, F. Koike, S. Kubo, R. Kumazawa, D. Kuwahara, S. Lazerson, H. Lee, S. Masuzaki, S. Matsuoka, H. Matsuura, A. Matsuyama, C. Michael, D. Mikkelsen, O. Mitarai, T. Mito, J. Miyazawa, G. Motojima, K. Mukai, A. Murakami, I. Murakami, S. Murakami, T. Muroga, S. Muto, K. Nagaoka, K. Nagasaki, Y. Nagayama, N. Nakajima, H. Nakamura, Y. Nakamura, H. Nakanishi, H. Nakano, T. Nakano, K. Narihara, Y. Narushima, K. Nishimura, S. Nishimura, M. Nishiura, Y. M. Nunami, T. Obana, K. Ogawa, S. Ohdachi, N. Ohno, N. Ohyabu, T. Oishi, M. Okamoto, A. Okamoto, M. Osakabe, Y. Oya, T. Ozaki, N. Pablant, B. J. Peterson, A. Sagara, K. Saito, R. Sakamoto, H. Sakaue, M. Sasao, K. Sato, M. Sato, K. Sawada, R. Seki, T. Seki, V. Sergeev, S. Sharapov, I. Sharov, A. Shimizu, T. Shimozuma, M. Shiratani, M. Shoji, S. Sudo, H. Sugama, C. Suzuki, K. Takahata, Y. Takeiri, Y. Takemura, M. Takeuchi, H. Tamura, N. Tamura, H. Tanaka, T. Tanaka, M. Tingfeng, Y. Todo, M. Tokitani, K. Tokunaga, T. Tokuzawa, H. Tsuchiya, K. Tsumori, Y. Ueda, L. Vyacheslavov, K. Y. Watanabe, T. Watanabe, T. H. Watanabe, B. Wieland, I. Yamada, S. Yamada, S. Yamamoto, N. Yanagi, R. Yasuhara, M. Yokoyama, N. Yoshida, S. Yoshimura, T. Yoshinaga, M. Yoshinuma, A. Komori

    NUCLEAR FUSION   53 ( 10 )   2013年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0029-5515/53/10/104015

  • Characteristics of photocurrent generation in the near-ultraviolet region in Si quantum-dot sensitized solar cells

    Giichiro Uchida, Muneharu Sato, Hyunwoong Seo, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   544   93 - 98   2013年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.04.111

  • Crystallinity control of sputtered ZnO films by utilizing buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization: Effects of nitrogen flow rate

    N. Itagaki, K. Oshikawa, K. Matsushima, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   26   84 - 87   2013年9月

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    記述言語:その他  

    Crystallinity control of sputtered ZnO films by utilizing buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization: Effects of nitrogen flow rate
    High quality ZnO:Al (AZO) films have been obtained by utilizing buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization (NMC), where sputtering method is employed for preparation of both buffer layers and AZO films. Introduction of small amount of N2 (N2/(Ar+N2) = 16&#37;) to the sputtering atmosphere of NMC-ZnO buffer layers drastically improves the crystallinity of buffer layers and thus AZO films. The most remarkable effect of the buffer layers is a significant reduction in the resistivity at high base pressure of background gases. The resistivity of conventional AZO films increases from 2.0 m??cm to 70.0 m??cm with increasing the base pressure from 3×10-5 Pa to 1×10-3 Pa, while the resistivity of AZO films with NMC buffer layers increases from 0.5 m??cm to 2.0 m??cm, where the thickness of AZO film is 88 nm. Furthermore, AZO films with a sheet resistance of 10 ?/? and an optical transmittance higher than 80&#37; in a wide wavelength range of 400?1100 nm have been obtained.

  • クラスタ抑制法を用いた高光安定アモルファスシリコンPIN太陽電池の作製

    古閑 一憲, 橋本 優史, 金 淵元, 都甲 将, 徐 鉉雄, 板垣 奈穗, 白谷 正治, 内田 儀一郎

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会   2013 ( 74 )   13 - 17   2013年9月

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    記述言語:日本語  

  • Control of Deposition Profile and Properties of Plasma CVD Carbon Films

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   26   136 - 139   2013年9月

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    記述言語:その他  

    Control of Deposition Profile and Properties of Plasma CVD Carbon Films
    We have succeeded to deposit anisotropic and top surface deposition profile on substrates with trenches using H-assisted plasma CVD of Ar + H2 + C7H8 at a low substrate temperature of 100 oC. For the anisotropic deposition profile, carbon is deposited without being deposited on sidewall of trenches. For the top surface deposition profile, carbon is deposited at only top surface. The optical emission measurements and evaluation of deposition rate have revealed that a high flux of H atmos is the key to the deposition profile control. The mass density of the films and their Raman spectrum have shown that their structure is a-C:H.

  • Effects of nanoparticle incorporation on properties of microcrystalline films deposited using multi-hollow discharge plasma CVD

    Yeonwon Kim, Takeaki Matsunaga, Kenta Nakahara, Hyunwoong Seo, Kunihiro Kamataki, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   228   S550 - S553   2013年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2012.04.029

  • Observation of nanoparticle growth process using a high speed camera 査読

    Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proceedings of 21st International Symposium on Plasma Chemistry   264   2013年8月

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    記述言語:その他  

    Observation of nanoparticle growth process using a high speed camera
    Time evolution of spatial profile of nanoparticle amount in low pressure reactive discharge plasmas have been measured to study effects of amplitude modulation of the plasmas on particle growth in the initial growth phase. Amplitude modulation of discharge voltage leads to oscillate nanoparticle amount and their spatial profile. Growth of nanoparticles is suppressed by increasing the AM frequency.

  • Mass density control of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD method

    Tatsuya Urakawa, Hidehumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Masaru Hori

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   228   S15 - S18   2013年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2012.10.002

  • Effects of DC substrate bias voltage on dust flux in the Large Helical Device

    Kazunori Koga, Katsushi Nishiyama, Yasuhiko Morita, Giichiro Uchida, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani, Naoko Ashikawa, Suguru Masuzaki, Kiyohiko Nishimura, Akio Sagara

    JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS   438   S727 - S730   2013年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jnucmat.2013.01.154

  • Discharge power dependence of carbon dust flux in a divertor simulator

    Katsushi Nishiyama, Yasuhiko Morita, Giichiro Uchida, Daisuke Yamashita, Kunihiro Kamataki, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naoko Ashikawa, Suguru Masuzaki, Kiyohiko Nishimura, Akio Sagara, Sven Bornholdt, Holger Kersten

    JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS   438   S788 - S791   2013年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jnucmat.2013.01.169

  • Transport control of dust particles via the electrical asymmetry effect: experiment, simulation and modelling

    Shinya Iwashita, Edmund Schuengel, Julian Schulze, Peter Hartmann, Zoltan Donko, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Uwe Czarnetzki

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   46 ( 24 )   2013年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/46/24/245202

  • Analysis on the effect of polysulfide electrolyte composition for higher performance of Si quantum dot-sensitized solar cells

    Hyunwoong Seo, Yuting Wang, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    ELECTROCHIMICA ACTA   95   43 - 47   2013年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2013.02.026

  • ナノ材料のプラズマプロセシングの研究の現状と将来 招待 査読

    白谷 正治, 古閑 一憲, 内田 儀一郎, Hyunwoong SEO, 板垣 奈穂, 岩下 伸也

    表面科学   34 ( 10 )   520 - 527   2013年1月

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    記述言語:日本語  

    This paper reviews production of nanoparticles using low pressure reactive plasmas and its application to quantum dot sensitized solar cells. For the method, nanoparticles of several nm in size with a small size dispersion are produced in gas phase using reactive plasmas, and then the nanoparticles and radicals are co-deposited on a substrate. This method realizes one-step deposition of nanoparticle composite films in a controllable way.

    DOI: 10.1380/jsssj.34.520

  • H-2/N-2 Plasma Etching Rate of Carbon Films Deposited by H-Assisted Plasma Chemical Vapor Deposition

    Tatsuya Urakawa, Ryuhei Torigoe, Hidefumi Matsuzaki, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Keigo Takeda, Makoto Sekine, Masaru Hori

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AB01

  • Dust particle formation due to interaction between graphite and helicon deuterium plasmas

    Shinya Iwashita, Katsushi Nishiyama, Giichiro Uchida, Hyunwoong Seo, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    FUSION ENGINEERING AND DESIGN   88 ( 1 )   28 - 32   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.fusengdes.2012.10.002

  • Effects of Hydrogen Dilution on ZnO Thin Films Fabricated via Nitrogen-Mediated Crystallization

    Iping Suhariadi, Koichi Matsushima, Kazunori Kuwahara, Koichi Oshikawa, Daisuke Yamashita, Hyunwoong Seo, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Sven Bornholdt, Holger Kersten, Harm Wulff, Naho Itagaki

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AC08

  • High Amount Cluster Incorporation in Initial Si Film Deposition by SiH4 Plasma Chemical Vapor Deposition

    Yeonwon Kim, Kosuke Hatozaki, Yuji Hashimoto, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AD01

  • Improvement of Si Adhesion and Reduction of Electron Recombination for Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells

    Hyunwoong Seo, Yuting Wang, Muneharu Sato, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   52 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AD05

  • The reduction of charge recombination and performance enhancement by the surface modification of Si quantum dot-sensitized solar cell

    Hyunwoong Seo, Yuting Wang, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    ELECTROCHIMICA ACTA   87   213 - 217   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2012.09.087

  • Sputter deposition of Epitaxial Zinc-Indium Oxynitride Films for Excitonic Transistors 査読

    N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. International Symposium on Dry Process   34   97 - 98   2012年11月

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    記述言語:その他  

    Sputter deposition of Epitaxial Zinc-Indium Oxynitride Films for Excitonic Transistors

  • Growth Control of Dry Yeast Using Scalable Atmospheric-Pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma Irradiation

    Satoshi Kitazaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Nobuya Hayashi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   51 ( 11 )   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.11PJ02

  • Control of radial density profile of nano-particles produced in reactive plasma by amplitude modulation of radio frequency discharge voltage

    Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   523   76 - 79   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2012.07.059

  • Effects of crystalline nanoparticle incorporation on growth, structure, and properties of microcrystalline silicon films deposited by plasma chemical vapor deposition

    Yeonwon Kim, Takeaki Matsunaga, Kenta Nakahara, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Hyunwoong Seo, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   523   29 - 33   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2012.06.023

  • High quality epitaxial ZnO films grown on solid-phase crystallized buffer layers

    Kazunari Kuwahara, Naho Itagaki, Kenta Nakahara, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   520 ( 14 )   4674 - 4677   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2011.10.136

  • In situ analysis of size distribution of nano-particles in reactive plasmas using two dimensional laser light scattering method

    K. Kamataki, Y. Morita, M. Shiratani, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki

    JOURNAL OF INSTRUMENTATION   7   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1748-0221/7/04/C04017

  • ZnO:Al Thin Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization: Effects of N2/Ar Gas Flow Rate Ratio 査読

    I. Suhariadi, N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Oshikawa, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, K. Nakahara, M. Shiratani

    Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   37 ( 2 )   165 - 168   2012年1月

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    記述言語:英語  

    ZnO:Al Thin Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization: Effects of N2/Ar Gas Flow Rate Ratio
    Effects of N2/Ar gas flow rate ratio on the crystallinity of sputtered ZnO films fabricated via nitrogen mediated crystallization (NMC) have been clarified. Introduction of small amount of N2 (N2/Ar = 4/20.5 sccm) drastically improves the crystal orientation and enlarges grain size of the NMC-ZnO films, where FWHM of XRD patterns for 2θ-ω and ω scan of (002) plane are 0.17° and 2.6°, respectively. A further increase in N2/Ar flow rate ratio deteriorates the crystallinity, since excess N atoms in the films disarrange the crystal structure of ZnO. Furthermore, ZnO:Al (AZO) films with high crystallinity have been successfully fabricated by utilizing the NMC-ZnO films deposited at N2/Ar = 4/20.5 sccm as buffer layers. 100-nm-thick AZO films with a resistivity of 6.8×10-4 Ωcm and an optical transmittance higher than 80&#37; in a wide wavelength range of 500 nm to 1500 nm has been obtained.

    DOI: 10.14723/tmrsj.37.165

  • Pulmonary Toxicity of Indium Tin Oxide and Copper Indium Gallium Diselenide

    Akiyo Tanaka, Miyuki Hirata, Kazunori Koga, Makiko Nakano, Kazuyuki Omae, Yutaka Kiyohara

    MRS Proceedings   1469   2012年1月

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    記述言語:その他   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.1074

  • Growth Enhancement of Radish Sprouts Induced by Low Pressure O-2 Radio Frequency Discharge Plasma Irradiation

    Satoshi Kitazaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Nobuya Hayashi

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AE01

  • Combinatorial Deposition of Microcrystalline Silicon Films Using Multihollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition

    Kazunori Koga, Takeaki Matsunaga, Yeonwon Kim, Kenta Nakahara, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Kunihiro Kamataki, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AD02

  • Deposition of Cluster-Free B-doped Hydrogenated Amorphous Silicon Films Using SiH4+B10H14 Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition

    Kazunori Koga, Kenta Nakahara, Yeon-Won Kim, Takeaki Matsunaga, Daisuke Yamashita, Hidefumi Matsuzaki, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AD03

  • Effect of Nitridation of Si Nanoparticles on the Performance of Quantum-Dot Sensitized Solar Cells

    Giichiro Uchida, Kosuke Yamamoto, Muneharu Sato, Yuki Kawashima, Kenta Nakahara, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AD01

  • Impacts of Amplitude Modulation of RF Discharge Voltage on the Growth of Nanoparticles in Reactive Plasmas

    Kunihiro Kamataki, Hiroshi Miyata, Kazunori Koga, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   4 ( 10 )   2011年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.4.105001

  • Comparison between silicon thin films with and without incorporating crystalline silicon nanoparticles into the film

    Kazunori Koga, Takeaki Matsunaga, William Makoto Nakamura, Kenta Nakahara, Yuuki Kawashima, Giichiro Uchida, Kunihiro Kamataki, Naho Itagaki, Masaharu Shiratani

    THIN SOLID FILMS   519 ( 20 )   6896 - 6898   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2011.01.408

  • Redox Characteristics of Thiol Compounds Using Radicals Produced by Water Vapor Radio Frequency Discharge

    Nobuya Hayashi, Akari Nakahigashi, Masaaki Goto, Satoshi Kitazaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   50 ( 8 )   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.08JF04

  • Nano-factories in plasma: present status and outlook

    Masaharu Shiratani, Kazunori Koga, Shinya Iwashita, Giichiro Uchida, Naho Itagaki, Kunihiro Kamataki

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   44 ( 17 )   2011年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/44/17/174038

  • Zno films with buffer layers crystallized via nitrogen mediation: Effects of deposition temperature of buffer layers

    K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   4D-2P-11   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Zno films with buffer layers crystallized via nitrogen mediation: Effects of deposition temperature of buffer layers

  • Highly Conducting and Very Thin ZnO:Al Films with ZnO Buffer Layer Fabricated by Solid Phase Crystallization from Amorphous Phase

    Naho Itagaki, Kazunari Kuwahara, Kenta Nakahara, Daisuke Yamashita, Giichiro Uchida, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   4 ( 1 )   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.4.011101

  • Combinatorial study of substrate temperature dependence on properties of silicon films deposited using multihollow discharge plasma CVD 査読

    Y. Kim, T. Matsunaga, Y. Kawashima, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    POL08   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Combinatorial study of substrate temperature dependence on properties of silicon films deposited using multihollow discharge plasma CVD
    A combinatorial technique using a multi-hollow discharge plasma CVD method has been employed to investigate effects of substrate temperature on hydrogenated microcrystalline silicon (?c-Si:H) film growth. No film is deposited near the discharge region RT to 350°C, whereas the area of no film region decreases with increasing the substrate temperature. This is attributed to competitive reactions between Si etching by H atoms and Si deposition. The area of microcrystalline Si region increases with the substrate temperature due to high surface diffusion rate of Si containing radical. These results show that the process window of μc-Si:H films becomes wider for the higher substrate temperature due to two reasons: 1) the lower Si etching rate and 2) the longer surface migration length of Si containing radicals. The defect density decreases significantly with increasing Ts from 6.24 × 10 16 cm -3 for Ts =100 o C down to 6.26 × 10 15 cm -3 for T s =300 o C.

  • Impacts of Plasma Fluctuations on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma

    K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    D13-318   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Impacts of Plasma Fluctuations on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma

  • Collection of carbon dust particles formed due to plasma-wall interactions between high density H2 plasma and carbon wall onto substrates by applying local DC bias voltage

    K. Nishiyama, Y. Morita, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group, S. Bornholdt, H. Kersten

    Proc. Plasma Conf. 2011   24P094-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Collection of carbon dust particles formed due to plasma-wall interactions between high density H2 plasma and carbon wall onto substrates by applying local DC bias voltage
    We collected dust particles generated by interaction between a plasma and a carbon target in helicon discharge reactor, by which diverter plasmas in fusion devices are simulated. The dust particles are classified into three kinds: small spherical particles, agglomerates, and large flakes, suggesting three formation mechanisms: chemical vapor deposition (CVD) growth, agglomeration, and peeling from redeposited layer on the reactor wall. The area density and flux towards substrates of dust particles exponentially increase with the substrate bias voltage. The energy influx of plasmas towards the target and ion density were measured to clarify the dust formation mechanisms. They are nearly constant irrespective of the substrate bias voltage suggesting that the production rate of dust particles does not depend on the substrate bias voltage and their collection efficiency does.

  • Deposition of cluster-free a-Si:H films using cluster eliminating filter

    K. Nakahara, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, T. Matsunaga, M. Sato, D. Yamashita, H. Matsuzaki, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   24P010-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Deposition of cluster-free a-Si:H films using cluster eliminating filter
    We have succeeded in deposition of highly stable a-Si:H films at a rate of 3 nm/s. To evaluate their performance as an I layer of PIN solar cells, Fill Factor (FF) of N-type c-Si/a-Si:H/Ni Schottky cells with cluster free a-Si:H films were measured. High quality stable a-Si:H films, were deposited with a multi-hollow discharge plasma CVD reactor together with a cluster-eliminating filter. Initial FF of the cell is 0.521, whereas stabilized FF is 0.495 that is 4.99&#37; lower than the initial FF. Our multi-hollow discharge plasma CVD method is useful to fabricate highly stable a-Si:H solar cells.

  • Effects of electrolyte on performance of quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles synthesized by multi-hollow discharge plasma CVD

    Y. Wang, M. Sato, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   23P013-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of electrolyte on performance of quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles synthesized by multi-hollow discharge plasma CVD
    Effects of electrolyte on performance of Si QDSCs were investigated. We successfully fabricated an efficient polysulfide electrolyte based on the solvent mixed with water and methanol at a volume ratio of 3:7. The optimal electrolyte contains 1.0M Na2S, 0.5M S and 0.2M KCl. By introducing different ingredients with proper concentration, Jsc, Voc and fill factor are much improved. The efficiency of Si QDSCs using optimized electrolyte is 0.027&#37;

  • Effects of N2 gas addition to sputtering plasma on properties of epitaxial ZnO films

    K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, Seo H, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   24P008-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of N2 gas addition to sputtering plasma on properties of epitaxial ZnO films
    Effects of N2/Ar flow rate ratio on properties of ZnO films fabricated via nitrogen mediated crystallization (NMC) have been studied. NMC-ZnO films are deposited by RF magnetron sputtering using Ar-N2 mixed gas. X-ray diffraction (XRD) analysis shows that the crystallinity of NMC-ZnO films is improved by addition of a small amount of N2 to sputtering atmosphere (N2/(Ar+N2) flow ratio of 8&#37;). By using the NMC-ZnO films as homo-buffer layers, ZnO films with high crystallinity are deposited by RF magnetron sputtering. The full width at half-maximum of XRD patterns for ω scan of (002) plane are 0.061°, being significantly small compared with 0.49° for the films without buffer layers. A further increase in N2/Ar flow rate ratio deteriorates the crystallinity because excess N atoms in the films disarrange the crystal structure of ZnO. The results indicate that utilizing NMC buffer layers deposited at an adequate N2 partial pressure is very promising to obtain epitaxial ZnO films with high crystallinity.

  • Effects of nanoparticle incorporation on Si thin films deposited by plasma CVD

    M. Shiratani, Y. Kim, T. Matsunaga, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

    Proc. Plasma Conf. 2011   24G06   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of nanoparticle incorporation on Si thin films deposited by plasma CVD
    We have investigated effects of nanoparticle inclusion on properties of a-Si:H films and mc-Si:H films using the multi-hollow discharge plasma CVD method. Minor deposition species (nanoparticles in this study) modify considerably properties of a-Si:H films and mc-Si:H films

  • Influence of nano-particles on multi-hollow discharge plasma for microcrystalline silicon thin films deposition

    T. Matsunaga, Y. Kim, K. Koga, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   24P015-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Influence of nano-particles on multi-hollow discharge plasma for microcrystalline silicon thin films deposition
    Effects of nano-particles on formation kinetics of microcrystalline silicon films were studied by X-ray diffraction spectroscopy (XRD) and optical emission spectroscopy (OES). Volume fraction of (220) orientation crystals of films without incorporating nano-particles is higher than that of those with nano-particles. The IH?/ISi* value in the region with nano-particles is slightly higher than that in the region without nano-particles. The ISi*/ISiH* value is almost the same as that in the region with and without nano-particles. These results suggest that (220) orientation crystal growth is suppressed by incorporation of nano-particles.

  • Low resistive ZnO:Al films with ZnO buffer layers fabricated by Ar/N2 magnetron sputtering

    N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, G. Uchida, K. Koga

    Proc. Plasma Conf. 2011   24G6   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Low resistive ZnO:Al films with ZnO buffer layers fabricated by Ar/N2 magnetron sputtering
    Low resistive ZnO:Al (AZO) films with uniform spatial distribution have been obtained by utilizing buffer layers fabricated by Ar/N2 magnetron sputtering. For 100 nm-thick AZO films, the averaged grain size of AZO films with buffer layers is 65 nm, which is 1.8 times larger than that of the films without buffer layers. This increase in the grain size of AZO films is due to the low grain density of buffer layers. As a result, the resistivity is drastically reduced. At the area facing the target erosion, the resistivity reduced from 2.27 m??cm for the films without buffer layers to 0.50 m??cm for our films, consequently, the spatial distribution of the resistivity is significantly improved. These results reveal that our method described here is full of promise for fabrication of ZnO-based TCO materials.

  • Radical Flux Evaluation to Microcrystalline Silicon Films Deposited by Multi-Hollow Discharge Plasma CVD

    Y. Kim, T. Matsunaga, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   24P011-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Radical Flux Evaluation to Microcrystalline Silicon Films Deposited by Multi-Hollow Discharge Plasma CVD
    To evaluate radical fluxes for microcrystalline silicon film deposition, Si films were deposited in a combinatorial way using a multi-hollow discharge plasma CVD method. Film crystallinity varied with the distance from the powered electrode. Based on the film deposition rate and Raman crystallinity, we proposed a method to estimate hydrogen flux. This evaluation of hydrogen flux is one of useful way to understand a process window of ?c-Si:H films.

  • Study of interaction between plasma fluctuation and nucleation of nanoparticle in plasma CVD

    K. Kamataki, K. Koga, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   24P014-O   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Study of interaction between plasma fluctuation and nucleation of nanoparticle in plasma CVD
    We have investigated effects of plasma fluctuation on the growth of nanoparticles in capacitively-coupled rf discharges with amplitude modulation. Nanoparticles grow more slowly for higher AM levels, that is they have 7 times higher density and 23&#37; smaller size. This AM method is useful for the production of a large amount of nanoparticles with a small size

  • Combinatorial study on effects of substatrate temperature of silicon film deposition using multi-hollow discharge plasma cvd

    Y. Kim, T. Matsunaga, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   3D-2P-09   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Combinatorial study on effects of substatrate temperature of silicon film deposition using multi-hollow discharge plasma cvd

  • Defect density of cluster-free a-si:h films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD

    K. Nakahara, K. Hatozaki, M. Sato, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   3D-2P-20   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Defect density of cluster-free a-si:h films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD

  • Effects of nano-particles on (220) crystal orientation of microcrystallite silicon thin films

    T. Matsunaga, Y. Kim, K. Koga, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   4D-2P-16   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Effects of nano-particles on (220) crystal orientation of microcrystallite silicon thin films

  • Properties and performance of si quantum dot-sensitized solar cells with low temperature titania paste

    Y. Wang, M. Sato, T. Matsunaga, N. Itagaki, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   3D-5P-09   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Properties and performance of si quantum dot-sensitized solar cells with low temperature titania paste

  • Zinc oxide-based transparent conducting films with buffer layers fabricated via nitrogen-mediated crystallization

    N. Itagaki, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   4D-2P-10   2011年1月

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    記述言語:その他  

    Zinc oxide-based transparent conducting films with buffer layers fabricated via nitrogen-mediated crystallization

  • High rate deposition of highly stable a-Si:H films using multi-hollow discharges for thin films solar cells

    William Makoto Nakamura, Hidefumi Matsuzaki, Hiroshi Sato, Yuuki Kawashima, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   205   S241 - S245   2010年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2010.07.081

  • 低圧プラズマによる酸化還元反応および植物成長への影響

    林 信哉, 中東 朱里, 秋吉 雄介, 北崎 訓, 古閑 一憲, 白谷 正治

    電気学会研究会資料. PST, プラズマ研究会   2010 ( 65 )   33 - 36   2010年12月

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    記述言語:日本語  

  • High rate deposition of cluster-suppressed amorphous silicon films deposited using a multi-hollow discharge plasma CVD

    Kazunori Koga, Hiroshi Sato, Yuuki Kawashima, William M. Nakamura, Masaharu Shiratani

    Materials Research Society Symposium Proceedings   1210   217 - 222   2010年12月

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    記述言語:その他  

    High rate deposition of cluster-suppressed amorphous silicon films deposited using a multi-hollow discharge plasma CVD
    We have examined effects of gas velocity and gas pressure on a deposition rate of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films and on a volume fraction of clusters in the films using a multi-hollow discharge plasma CVD method. The maximum deposition rate realized for each pressure exponentially increases with decreasing the pressure from 1.0 Torr to 0.1 Torr, whereas the volume fraction of clusters very slightly increases with increasing the deposition rate. Based on the results, we have succeeded in depositing highly stable a-Si:H films of 4.9 × 1015cm-3 in a stabilized defect density at a rate of 3.0nm/s using the method. © 2010 Materials Research Society.

  • Deposition of a-Si: H Films with High Stability against Light Exposure by Reducing Deposition of Nanoparticles Formed in SiH4 Discharges

    Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Yukio Watanabe

    Industrial Plasma Technology: Applications from Environmental to Energy Technologies   247 - 257   2010年10月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1002/9783527629749.ch20

  • Nanoblock Assembly Using Pulse RF Discharges with Amplitude Modulation

    Shinya Iwashita, Hiroshi Miyata, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    Industrial Plasma Technology: Applications from Environmental to Energy Technologies   377 - 383   2010年10月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1002/9783527629749.ch31

  • Deposition profile control of carbon films on patterned substrates using a hydrogen-assisted plasma CVD method

    Takuya Nomura, Kazunori Koga, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Masaharu Shiratani, Yuichi Setsuhara, Yuichi Setsuhara, Makoto Sekine, Makoto Sekine, Masaru Hori, Masaru Hori

    Materials Research Society Symposium Proceedings   1222   203 - 207   2010年8月

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    記述言語:その他  

    Deposition profile control of carbon films on patterned substrates using a hydrogen-assisted plasma CVD method
    We have studied effects of H atom source on deposition profiles of carbon films, deposited by H assisted anisotropic plasma CVD method. Deposition rate normalized by that for the aspect ratio of 1 at sidewall and bottom decreases with increasing discharge power of H atom source from 0 W to 500 W, because the incident H atom flux per surface area in a trench increases and H atoms etch carbon films. © 2010 Materials Research Society.

  • Review of pulmonary toxicity of indium compounds to animals and humans

    Akiyo Tanaka, Miyuki Hirata, Yutaka Kiyohara, Makiko Nakano, Kazuyuki Omae, Masaharu Shiratani, Kazunori Koga

    THIN SOLID FILMS   518 ( 11 )   2934 - 2936   2010年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2009.10.123

  • Substrate Temperature Dependence of Sticking Probability of SiOx-CH3 Nano-Particles

    H. Miyata, K. Nishiyama, S. Iwashita, H. Matsuzaki, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of International Symposium on Dry Process   43 - 44   2010年1月

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    記述言語:その他  

    Substrate Temperature Dependence of Sticking Probability of SiOx-CH3 Nano-Particles

  • Carbon dust particles generated due to H2 plasma-carbon wall interaction 査読

    H. Miyata, K. Nishiyama, S. Iwashita, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD experimental group

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   CTP.00114   2010年1月

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    記述言語:その他  

    Carbon dust particles generated due to H2 plasma-carbon wall interaction

  • Generation of nitridated silicon particles and their thin film deposition using double multi-hollow discharges 査読

    G. Uchida, M. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Yamamoto, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   CTP.00093   2010年1月

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    記述言語:その他  

    Generation of nitridated silicon particles and their thin film deposition using double multi-hollow discharges

  • Optical and Electrical Properties of Particle Composite Thin Films deposited in SiH4/H2 and N2 Multi-Hollow Discharges

    G. Uchida, M. Sato, Y. Kawashima, K. Yamamoto, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of MNC2010   12D-11-66   2010年1月

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    記述言語:その他  

    Optical and Electrical Properties of Particle Composite Thin Films deposited in SiH4/H2 and N2 Multi-Hollow Discharges

  • P-type sp(3)-bonded BN/n-type Si heterodiode solar cell fabricated by laser-plasma synchronous CVD method

    Shojiro Komatsu, Yuhei Sato, Daisuke Hirano, Takuya Nakamura, Kazunori Koga, Atsushi Yamamoto, Takahiro Nagata, Toyohiro Chikyo, Takayuki Watanabe, Takeo Takizawa, Katsumitsu Nakamura, Takuya Hashimoto, Masaharu Shiratani

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   42 ( 22 )   2009年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/42/22/225107

  • Two-dimensional spatial profile of volume fraction of nanoparticles incorporated into a-Si : H films deposited by plasma CVD

    William Makoto Nakamura, Hiroomi Miyahara, Hiroshi Sato, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   36 ( 4 )   888 - 889   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2008.923830

  • Discharge power dependence of H<inf>α</inf>intensity and electron density of Ar + H<inf>2</inf>discharges in H-assisted plasma CVD reactor

    202 ( 22-23 )   5659 - 5662   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    We have realized anisotropic deposition of Cu, for which Cu is preferentially filled from the bottom of trenches without being deposited on the sidewall of trenches, using H-assisted plasma CVD. To obtain information about a discharge condition to realize a high deposition rate, we have studied dependence of Hα656.3 nm and Ar 811.5 nm intensities and electron density in the main discharge on the main discharge power, Pm, and in the discharge of H atom source on the discharge power of H atom source, PH, as a parameter of a gas flow rate ratio R = H2/(H2+ Ar). The results suggest that a high electron density in the main discharge and high fluxes of ions and H atoms to a substrate, all of which are needed for deposition of high purity Cu at a high deposition rate, are realized for Pm= 45 W, PH= 500 W, and R = 3.3&#37;. © 2008 Elsevier B.V. All rights reserved.

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2008.06.108

  • Nanoparticle coagulation in fractionally charged and charge fluctuating dusty plasmas

    Shota Nunomura, Masaharu Shiratani, Kazunori Koga, Michio Kondo, Yukio Watanabe

    PHYSICS OF PLASMAS   15 ( 8 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2972162

  • Temperature Dependence of Dielectric Constant of Nanoparticle Composite Porous Low-k Films Fabricated by Pulse Radio Frequency Discharge with Amplitude Modulation

    Shinya Iwashita, Michihito Morita, Hidefumi Matsuzaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   47 ( 8 )   6875 - 6878   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.47.6875

  • Growth Control of Clusters in Reactive Plasmas and Application to High-Stability a-Si: H Film Deposition

    Yukio Watanabe, Masaharu Shiratani, Kazunori Koga

    Advanced Plasma Technology   227 - 242   2008年4月

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    記述言語:英語  

    DOI: 10.1002/9783527622184.ch12

  • Transport of nano-particles in capacitively coupled rf discharges without and with amplitude modulation of discharge voltage

    Kazunori Koga, Shinya Iwashita, Masaharu Shiratani

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   40 ( 8 )   2267 - 2271   2007年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/40/8/S05

  • Single step method to deposit Si quantum dot films using H-2+SiH4VHF discharges and electron mobility in a Si quantum dot solar cell

    Masaharu Shiratani, Kazunori Koga, Soichiro Ando, Toshihisa Inoue, Yukio Watanabe, Shota Nunomura, Michio Kondo

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   201 ( 9-11 )   5468 - 5471   2007年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2006.07.012

  • A device for trapping nano-particles formed in processing plasmas for reduction of nano-waste

    Shinya Iwashita, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

    SURFACE & COATINGS TECHNOLOGY   201 ( 9-11 )   5701 - 5704   2007年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2006.07.060

  • Species responsible for Si-H-2 bond formation in a-Si : H films deposited using silane high frequency discharges

    M Shiratani, K Koga, N Kaguchi, K Bando, Y Watanabe

    THIN SOLID FILMS   506   17 - 21   2006年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.015

  • Mechanism of Cu deposition from Cu(EDMDD)(2) using H-assisted plasma CVD

    K Takenaka, K Koga, M Shiratani, Y Watanabe, T Shingen

    THIN SOLID FILMS   506   197 - 201   2006年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.028

  • Nano-particle formation due to interaction between H-2 plasma and carbon wall

    K Koga, Y Kitaura, M Shiratani, Y Watanabe, A Komori

    THIN SOLID FILMS   506   656 - 659   2006年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.062

  • Production of crystalline Si nano-clusters using pulsed H-2+SiH(4)VHFdischarges

    T Kakeya, K Koga, M Shiratani, Y Watanabe, M Kondo

    THIN SOLID FILMS   506   288 - 291   2006年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.090

  • In situ simple method for measuring size and density of nanoparticles in reactive plasmas

    S Nunomura, M Kita, K Koga, M Shiratani, Y Watanabe

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   99 ( 8 )   2006年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2189951

  • Plasma anisotropic CVD of high purity Cu using Cu(hfac)2 査読

    Masaharu Shiratani, Takao Kaji, Kazunori Koga, Yukio Watanabe, Tomohiro Kubota, Seiji Samukawa

    6th International Conference on Reactive Plasmas and 23rd Symposium on Plasma Processing   2006年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

    Plasma anisotropic CVD of high purity Cu using Cu(hfac)2

  • Cluster-eliminating filter for depositing cluster-free a-Si : H films by plasma chemical vapor deposition

    K Koga, N Kaguchi, K Bando, M Shiratani, Y Watanabe

    REVIEW OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS   76 ( 11 )   1 - 4   2005年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2126572

  • Control of deposition profile of copper for large-scale integration (LSI) interconnects by plasma chemical vapor deposition

    K Takenaka, M Shiratani, M Takeshita, M Kita, K Koga, Y Watanabe

    PURE AND APPLIED CHEMISTRY   77 ( 2 )   391 - 398   2005年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1351/pac200577020391

  • Correlation between volume fraction of clusters incorporated into a-Si : H films and hydrogen content associated with Si-H-2 bonds in the films

    K Koga, N Kaguchi, M Shiratani, Y Watanabe

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   22 ( 4 )   1536 - 1539   2004年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.1763905

  • Anisotropic deposition of Cu in trenches by H-assisted plasma chemical vapor deposition

    K Takenaka, M Kita, T Kinoshita, K Koga, M Shiratani, Y Watanabe

    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY A   22 ( 4 )   1903 - 1907   2004年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.1738663

  • Carbon particle formation due to interaction between H-2 plasma and carbon fiber composite wall

    K Koga, R Uehara, Y Kitaura, M Shiratani, Y Watanabe, A Komori

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   32 ( 2 )   405 - 409   2004年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2004.828129

  • Cluster-suppressed plasma CVD for deposition of high quality a-Si : H films

    M Shiratani, K Koga, Y Watanabe

    THIN SOLID FILMS   427 ( 1-2 )   1 - 5   2003年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S0040-6090(02)01171-9

  • Cluśter-suppressed plasma chemical vapor deposition method for high quality hydrogenated amorphous silicon films

    41 ( 2B )   L168 - L170   2002年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    We have developed a novel plasma chemical vapor deposition (PCVD) method for preparing high quality hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) films, which suppresses effectively growth of clusters by transporting them out of the reactor using gas flow and thermophoresis. By utilizing this cluster-suppressed PCVD method, we have demonstrated deposition of quite high quality a-Si:H films, microstructure parameter Rαof which can be reduced below 0.003. The decrease in Rαvalue is closely related to the decrease in cluster amount. Preliminary evaluation of fill factor (FF) of the a-Si:H Schottky solar cell of the a-Si:H films of Rα= 0.057 shows the high initial value FFi= 0.57 and high stabilized value after-light-soaking FFa= 0.53.

    DOI: 10.1143/JJAP.41.L168

  • H-assisted plasma CVD of Cu films for interconnects in ultra-large-scale integration

    Masaharu Shiratani, Hong Jie Jin, Kosuke Takenaka, Kazunori Koga, Toshio Kinoshita, Yukio Watanabe

    SCIENCE AND TECHNOLOGY OF ADVANCED MATERIALS   2 ( 3-4 )   505 - 515   2001年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S1468-6996(01)00131-0

  • In situ observation of nucleation and subsequent growth of clusters in silane radio frequency discharges

    K Koga, Y Matsuoka, K Tanaka, M Shiratani, Y Watanabe

    APPLIED PHYSICS LETTERS   77 ( 2 )   196 - 198   2000年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.126922

  • Effects of gas temperature gradient, pulse discharge modulation, and hydrogen dilution on particle growth in silane RF discharges

    M Shiratani, S Maeda, K Koga, Y Watanabe

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 1-REGULAR PAPERS SHORT NOTES & REVIEW PAPERS   39 ( 1 )   287 - 293   2000年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.39.287

  • 非対称イオンシースにおける局所構造形成の観測

    古閑 一憲, 河合 良信

    九州大学大学院総合理工学報告   20 ( 2 )   157 - 161   1998年9月

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    記述言語:日本語  

    When the ion sheath instability is excited, a local structure in the potential profile is found and the local structure in the ion saturation current profiles is observed near the sheath edge and inside the sheath for almost all bias voltages of the separation grid. The correlation between the local structure and the ion sheath instability is examined. The length between the local structure formed near the sheath edge in the ion saturation current profiles in the both sides is found to be in inverse proportion to the frequency of the instability. Furthermore, the experimental results are also compared with the virtual anode oscillations.

    DOI: 10.15017/17465

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書籍等出版物

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講演・口頭発表等

  • High Throughput Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon Films using High-Pressure Ar+CH4 Plasmas 国際会議

    ICMCTF2021  2021年4月 

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    開催年月日: 2021年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • プラズマを用いてカーボンナノ粒子層を含むミルフィーユ型 a-C:H 膜の機械的特性

    古閑一憲, 黄成和, Y.Hao, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 板垣奈穂, 白谷正治

    第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • クロージングリマークス(招待講演) 招待

    古閑一憲

    応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会30周年記念シンポジウム  2021年3月 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • プラズマCVD中飛行時間によるカーボンナノ粒子サイズ制御

    古閑一憲, S. H. Hwang, Y. Hao, P. Attir, 奥村賢直,鎌滝晋礼,板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会第76回年次大会  2021年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • Green Route for Nitrogen-Enriched Organic Manure Synthesis Using Plasma Technology(Invited) 招待 国際会議

    K. Koga

    ISPlasma2021/IC-PLANTS2021  2021年3月 

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    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Influences of Plasma Treatment of Seeds on their Molecular Responses(Invited) 招待 国際会議

    K. Koga

    3rd International Workshop on Plasma Agriculture  2021年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年2月 - 2021年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • CVDプラズマ中のナノ粒子の成長制御と応用(招待講演) 招待

    古閑一憲

    第72回CVD研究会  2020年12月 

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    開催年月日: 2020年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • Impact of Plasma Treatment Time on the Barley Seeds using Electron Paramagnetic Resonance 国際会議

    K. Koga, P. Attri, T. Anan, R. Arita, H. Tanaka, T. Okumura, D. Yamashita, K. Matsuo, K. Kanataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Ishibashi

    2020年12月 

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    開催年月日: 2020年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Role of seed coat color and harvest year on growth enhancement by plasma irradiation to seeds 国際会議

    K. Koga, P. Attri, K. Ishikawa, T. Okumura, K. Matsuo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, V. Mildaziene

    The 73rd Annual Gaseous Electronics Conference  2020年10月 

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    開催年月日: 2020年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

  • マルチホロー放電プラズマ CVDを用いて作製したカーボンナノ粒子輸送量に対する電極基板間距離の効果

    古閑一憲, S. H. Hwang, 奥村賢直, Y. Hao, 山下大輔, 松尾かよ, 板垣奈穂, 鎌滝晋礼, 白谷正治

    2020年度(第73回)電気・情報関係学会九州支部連合大会  2020年9月 

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    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • プラズマCVD技術文献のテキストマイニングを用いた単語のインパクトの解析

    古閑一憲, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治, 谷口雄太, 池田大輔

    第81回応用物理学会秋季学術講演会  2020年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • プラズマCVDを用いたa-Si:H堆積薄膜中のSi-H/Si-H2結合形成の活性化エネルギー

    古閑一憲, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会 2020年秋季大会  2020年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • プラズマと薄膜のナノ界面相互作用による結合形成の活性化エネルギー評価

    古閑一憲, 原尚志, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会第75回年次大会(2020年)  2020年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋大学   国名:日本国  

  • ⾮平衡プラズマを⽤いたサイズ制御したカーボンナノ粒⼦の連続作 製と堆積

    古閑⼀憲, 黄成和, 石川健治, P. Attri, 松尾かよ, 山下⼤輔, 板垣奈穂, 鎌滝晋礼, 白谷正治

    第67回応用物理学会春季学術講演会  2020年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:上智大学   国名:日本国  

  • ⾼温障害を持つイネ種⼦の発芽特性に対するプラズマ照射の効果

    古閑⼀憲, 石橋勇志, S. Chetphilin, 田中颯, 佐藤僚哉, 有田涼, 廣松真弥, 石川健治, P. Attri, 松尾かよ, 山下⼤輔, 板垣奈穂, 鎌滝晋礼, 白谷正治

    第67回応用物理学会春季学術講演会  2020年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:上智大学   国名:日本国  

  • プラズマ照射種子を用いた圃場実験の結果報告(招待講演) 招待

    古閑⼀憲

    第1回プラズマ農業フィールドテスト研究会  2020年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2020年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:Hotel & Resorts BEPPUWAN, 大分   国名:日本国  

  • プラズマ照射した種籾の圃場栽培試験

    古閑一憲, 佐藤僚哉, 吉田知晃, 有田涼, 田中颯, 廣松真弥, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    第36回プラズマ・核融合学会年会  2019年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月 - 2019年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:中部大学   国名:日本国  

  • Metabolomics Approach for Studying Effects of Atmospheric Air Plasma Irradiation to Seeds (Keynote) 招待 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani, V. Mildaziene

    29th Annual Meeting of MRS-J  2019年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Impact of Atmospheric Pressure Plasma Irradiation to Seeds on Agricultural Productivity 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    3rd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics (AAPPS-DPP2019)  2019年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

  • Rate Limiting Factors of Low Pressure Plasma-catalytic CO2 Methanation Process 国際会議

    K. Koga, A. Yamamoto, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    AVS 66th International Symposium & Exhibition  2019年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Non-equilibrium nanoparticle composite film process using reactive plasmas (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    Advanced Metallization Conference 2019: 29th Asian Session (ADMETA Plus 2019)  2019年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Ar+CH4プラズマCVDを用いて堆積した水素化アモルファスカーボン薄膜の堆積特性に対する電極基板間距離依存性

    古閑一憲, Sung Hwa Hwang, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    2019年度(第72回)電気・情報関係学会九州支部連合大会  2019年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州工業大学   国名:日本国  

  • プラズマ生成前駆体制御による単分散ナノ粒子合成

    古閑 一憲, 鎌滝 晋礼, 白谷 正治

    2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会  2019年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道大学   国名:日本国  

  • Plasmas - from Laboratory to Table - (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    The 12th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2019)  2019年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Synthesis and deposition of a-C:H nanoparticles using reactive plasmas with a fast gas flow 国際会議

    K. Koga, S. H. Hwang, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    The Korea-Japan Workshop on Dust Particles in Plasmas  2019年8月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Sputter deposition of wide bandgap (ZnO)x(AlN)1-x alloys: a new material system with tunable bandgap 国際会議

    S. Urakawa, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) & 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  2019年7月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Growth Mechanism of Carbon Nanoparticles In Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, S. H. Hwang, K. Kamataki, N. Itagaki M. Shiratani

    XXXIV International Conference on Phenomena in Ionized Gases (XXXIV ICPIG) & 10th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP-10)  2019年7月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • マルチホロー放電プラズマCVD法による高品質SiN膜の低温(100度)形成

    永石翔大, 佐々木勇輔, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

    令和元年度日本表面真空学会 九州支部学術講演会(九州表面・真空研究会2019)  2019年6月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡大学   国名:日本国  

  • Deposition of Carbon Nanoparticles Using Multi-Hollow Discharge Plasma CVD for Synthesis of Carbon Nanoparticle Composite Films 国際会議

    K. Koga, S. H. Hwang, T. Nakatani, J. S. Oh, K. Kamataki, N. Itagaki, M.Shiratani

    46th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films (ICMCTF 2019)  2019年5月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • 微粒子プラズマにおける2体衝突運動の顕微高速観察

    古閑一憲, 大友洋, 真銅雅子, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会第74回年次大会(2019年)  2019年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Spatial Profile of RONS Dose Supplied by a Scalable DBD Device 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, R. Sato, R. Shimada, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, T. Kawasaki

    The 3rd Asian Applied Physics Conference  2018年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • カイワレ大根種皮の色素に対するプラズマ照射の効果

    古閑一憲, 嶋田凌太郎, 和田陽介, 佐藤僚哉, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治, Vida Mildaziene

    第35回プラズマ・核融合学会年会  2018年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大阪大学   国名:日本国  

  • Evaluation of Amount of RONS Transport and Absorption of Seeds 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, R. Sato, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    2018 MRS Fall Meeting & Exhibit  2018年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Innovative Agricultural Productivity Improvement Using Atmospheric Pressure Plasmas (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    2018 MRS Fall Meeting & Exhibit  2018年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • 反応性プラズマとナノ粒子相互作用ゆらぎネットワーク解析

    古閑一憲

    第34回九州・山口プラズマ研究会  2018年11月 

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    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:シーサイドホテル屋久島, 鹿児島   国名:日本国  

  • Synthesis of Hydrogenated Amorphous Carbon Nanoparticles using High-Pressure CH4+Ar Plasmas and Their Deposition 国際会議

    K. Koga, S. H. Hwang, K. Kamataki, N. Itagaki, T. Nakatani, M. Shiratani

    AVS 65th International Symposium & Exhibition  2018年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • プラズマ中二体微粒子の衝突解析による相互作用揺らぎの研究

    古閑一憲, 大友洋, 周靭, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会  2018年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋国際会議場   国名:日本国  

  • Siネットワーク秩序性に対する製膜前駆体の効果

    古閑一憲, 田中和真, 原尚志, 石榴, 中野慎也, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会  2018年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋国際会議場   国名:日本国  

  • Effects of cluster deposition on spatial profile of Si-Hx bond density in a-Si:H films 国際会議

    K. Koga, K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    2018 International Conference on Solid State Devices and Materials (SSDM2018)  2018年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Challenge to precise control of chemical bond configuration in plasma CVD films 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    RUB Japan Science Days 2018  2018年7月 

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    開催年月日: 2018年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • Control of synthesis and deposition of nanoparticles using a multi-hollow discharge plasma CVD 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    Workshop "Plasma surface interaction for technological applications"  2018年6月 

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    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • High energy leverage method on growth enhancement of bio-mass plants using plasma seed treatment 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    7th International Conference on Plasma Medicine (ICPM-7)  2018年6月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • A deep insight of plasma-nanoparticle interaction 招待 国際会議

    K. Koga, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    19th International Congress on Plasma Physics  2018年6月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:カナダ  

  • 水素原子源付プラズマCVD法に任意電圧波形を併用したa-C:H薄膜の堆積

    古閑一憲, 山木健司, 方トウジュン, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:早稲田大学   国名:日本国  

  • 大気圧空気誘電体バリア放電プラズマを照射したカイワレ種子の電子スピン共鳴分光

    古閑一憲, 和田陽介, 佐藤僚哉, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:早稲田大学   国名:日本国  

  • 任意電圧波形を用いたC7H8+Ar+H2プラズマ生成

    古閑一憲, 山木健司, 方トウジュン, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    平成30年電気学会全国大会  2018年3月 

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    開催年月日: 2018年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Effects of RONS Dose on Plasma Induced Growth Enhancement of Radish Sprout 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, R. Sato, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    2nd International Workshop On Plasma Agriculture (IWOPA2)  2018年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Plasma Enhanced Carbon Recycling for Large-Scale Introduction of Solar Cells to Energy Supply Chain 招待 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, R. Sato, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    5th Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells 2018, 2nd International Symposium on Energy Research and Application  2018年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Towards ultra-high capacity batteries 国際会議

    K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani

    Joint workshop btw SKKU and Kyushu University Emerging materials and devices  2018年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • A new insight into nanoparticle-plasma interactions (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, K. Mori, R. Zhou, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    JP-KO dust workshop  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Evaluation of coupling among interaction fluctuations in nanoparticle growth in reactive plasmas 国際会議

    K. Koga, K. Mori, R. Zhou, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    18th Workshop on Fine Particle Plasmas  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Deposition of High Quality Silicon Thin Films Utilizing Nanoparticles Trapped in Plasmas 国際会議

    K. Koga, T. Kojima, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    27th annual meeting of MRS-J  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Effects of Number Density of Seeds on Plasma Induced Plant Growth Enhancement 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    27th annual meeting of MRS-J  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Effects of Gas Flow Velocity on Plant Growth of Radish Sprout 国際会議

    K. Koga, Y. Wada, R. Sato, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    The 2nd Asian Applied Physics Conference (Asian-APC)  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 植物種子へのプラズマ照射効果による成長促進とその機序(シンポジウム講演) 招待

    古閑一憲, 白谷正治

    2017年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:姫路商工会議所   国名:日本国  

  • Development of a fine particle transport analyzer for processing plasmas 国際会議

    K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    The 39th International Symposium on Dry Process (DPS 2017)  2017年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 反応性プラズマを用いた物質機能の初期階層形成

    古閑一憲

    第33回九州・山口プラズマ研究会  2017年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎にっしょうかん   国名:日本国  

  • Surface-driven CH4 generation from CO2 in Low-pressure Non-thermal Plasma 国際会議

    K. Koga, S. Toko, S. Tanida, M. Shiratani

    American Vacuum Society 64th International Symposium and Exhibition (AVS64)  2017年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年10月 - 2017年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • 火星上CO2のCH4資源化のための低温低圧プラズマ触媒プロセス

    古閑一憲, 都甲将, 谷田知史, 白谷正治, 細田聡史, 星野健

    第61回宇宙科学技術連合講演会  2017年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:朱鷺メッセ, 新潟   国名:日本国  

  • スケーラブルDBDプラズマのRONS照射量に対する空気流れの効果

    古閑一憲, 和田陽介, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    平成29年度(第70回)電気・情報関係学会九州支部連合大会  2017年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:琉球大学   国名:日本国  

  • Hysteresis in Plasma CVD: a new path for high quality film deposition 招待 国際会議

    K. Koga, S. Toko, M. Shiratani

    11th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2017)  2017年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • プラズマ照射した種籾への催芽処理の効果

    古閑一憲, 和田陽介, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 橋本昌隆, 小島昌治

    第78回応用物理学会秋季学術講演会  2017年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡国際会議場, 福岡国際センター   国名:日本国  

  • Synthesis of Nanoparticles Using Low Temperature Plasmas and Its Application to Solar Cells and Tracers in Living Body (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, H. Seo, A. Tanaka, N. Itagaki, M. Shiratani

    231st Meeting of Electrochemical Society (ECS)  2017年5月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年5月 - 2017年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • 低温プラズマによるナノ粒子の合成と太陽電池への応用

    古閑一憲, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    電子情報通信学会有機エレクトロニクス研究会  2017年4月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年4月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:龍郷町生涯学習センター(鹿児島県奄美大島)   国名:日本国  

  • Corrational study of fluctuation of coupling between plasmas and nanoparticles 国際会議

    K. Koga, K. Mori, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 10th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (ISPlasma2017/IC-PLANTS2017)  2017年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Long-term evaluation of In nanoparticle transport in living body 国際会議

    K. Koga, A. Tanaka, M. Hirata, T. Amano, T. Sarinont, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 10th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (ISPlasma2017/IC-PLANTS2017)  2017年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Comparision of Gamma irradation and scalable DBD on the declorization of Dyes 国際会議

    K. Koga, P. Attri, T. Sarinont, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    9th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials / 10th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (ISPlasma2017/IC-PLANTS2017)  2017年3月 

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    開催年月日: 2017年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 九州大学における反応性プラズマ精密制御CVD法の紹介(招待講演) 招待

    古閑一憲

    第1回産学共同研究検討会  2017年1月 

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    開催年月日: 2017年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Time evolution of cross-correlation between two fluctuations of couplings between plasmas and nanoparticles in amplitude modulated discharges 国際会議

    K. Koga, K. Mori, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    17th Workshop on Fine Particle Plasmas and JAPAN-KOREA Workshop on Dust Particles 2016  2016年12月 

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    開催年月日: 2016年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Dependence of amount of plasma activated water on growth enhancement of radish sprout 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, R. Katayama, Y. Wada, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    26th annual meeting of MRS-J  2016年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2016年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Comparative study on death of cells irradiated by non-thermal plasma, X-ray, and UV 国際会議

    K. Koga, T. Amano, T. Sarinont, R. Katayama, Y. Wada, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, A. Tanaka, Y. Nakatsu, T. Kondo

    The 1st Asian Applied Physics Conference (Asian-APC)  2016年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2016年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 小型ダスト飛跡分析装置を用いたミラー上ダスト堆積抑制の検討

    古閑一憲, 片山龍, 方韜鈞, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 増崎貴, 芦川直子, 時谷政行, 西村清彦, 相良明男

    第33回プラズマ・核融合学会年会  2016年12月 

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    開催年月日: 2016年11月 - 2016年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東北大学   国名:日本国  

  • プラズマとナノ粒子の相互作用ゆらぎの2次元空間構造の時間発展

    古閑一憲, 森研人, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    第33回プラズマ・核融合学会年会  2016年11月 

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    開催年月日: 2016年11月 - 2016年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東北大学   国名:日本国  

  • プラズマCVDを用いた高効率低劣化Si薄膜太陽電池の作製(招待講演) 招待

    古閑一憲

    第33回プラズマ・核融合学会年会  2016年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2016年11月 - 2016年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東北大学   国名:日本国  

  • プラズマ計測・診断 -反応性プラズマ中微粒子を中心として- (招待講演) 招待

    古閑一憲

    第27回プラズマエレクトロニクス講習会  2016年11月 

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    開催年月日: 2016年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京大学   国名:日本国  

  • Control of Plant Growth by RONS Produced Using Nonthermal Atmospheric Air Plasma 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, M. Shiratani

    American Vacuum Society 63rd International Symposium and Exhibition (AVS63)  2016年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2016年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Comparative study of non-thermal atmospheric pressure discharge plasmas for life science applications 国際会議

    K. Koga, R. Katayama, T. Sarinont, H. Seo, N. Itagaki, P. Attri, E. L. Quiros, .A. Tanaka, M. Shiratani

    69th Annual Gaseous Electronics Conference (GEC2016)  2016年10月 

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    開催年月日: 2016年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • 火星上でのロケット燃料生成を目的とした低温低圧放電プラズマによるサバティエ反応

    古閑一憲, 都甲将, 白谷正治

    第60回宇宙科学技術連合講演会  2016年9月 

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    開催年月日: 2016年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:函館アリーナ   国名:日本国  

  • Time development of response of cells irradiated by non-thermal atmospheric air plasma 国際会議

    K. Koga, T. Amano, Y. Nakatsu, H. Seo, N. Itagaki, A. Tanaka, T. Kondo, M. Shiratani

    6th International Conference on Plasma Medicine (ICPM6)  2016年9月 

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    開催年月日: 2016年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Nitrite concentration of plants grown from seeds irradiated by air dielectric barrier discharge plasmas 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, P. Attri, M. Shiratani

    20th International Vacuum Congress (IVC-20)  2016年8月 

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    開催年月日: 2016年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • QCMを用いたLHD内ダスト堆積量のその場測定

    古閑一憲, 片山龍, 方韜鈞, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 増崎貴, 芦川直子, 時谷政行, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    第11回核融合エネルギー連合講演会  2016年7月 

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    開催年月日: 2016年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • プラズマ中微粒子を用いたプラズマポテンシャルゆらぎの評価

    古閑一憲, 添島雅大, 伊藤鉄平, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会第71回年次大会  2016年3月 

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    開催年月日: 2016年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東北学院大学   国名:日本国  

  • 「プラズマ材料科学の未来を語る」(低圧非平衡プラズマプロセス) (招待講演) 招待

    古閑一憲

    第125回研究会 APSPT9-SPSM28サテライトミーティング『プラズマ材料科学の未来を語る』  2016年2月 

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    開催年月日: 2016年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:JR博多シティ会議室   国名:日本国  

  • 振幅変調反応性高周波放電中のナノ粒子量のバイスペクトル解析

    古閑一憲

    応用力学研究所共同研究報告会  2016年2月 

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    開催年月日: 2016年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学応用力学研究所   国名:日本国  

  • 大気圧非平衡プラズマの基礎 (招待講演) 招待

    古閑一憲

    プラズマ・核融合学会第28回専門講習会「プラズマ医療の現状と展望」  2016年1月 

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    開催年月日: 2016年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Potential fluctuation evaluation using binary collision of fine particles suspended in plasmas (Invited) 招待

    K. Koga and M. Shiratani

    2015年12月 

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    開催年月日: 2015年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 液中プラズマを用いたAuとPtナノ粒子の簡易作製法

    古閑一憲, 天野孝昭, Thapanut Sarinont, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 中津可道, 平田美由紀, 田中昭代

    平成27年度応用物理学会九州支部学術講演会  2015年12月 

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    開催年月日: 2015年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:琉球大学   国名:日本国  

  • プラズマ中のクーロン衝突微粒子間引力

    古閑一憲, 添島雅大, 伊東鉄平, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 野口将之, 内田誠一

    第32回プラズマ・核融合学会 年会  2015年11月 

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    開催年月日: 2015年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋大学   国名:日本国  

  • 新しいプラズマプロセス技術を用いた薄膜堆積

    古閑一憲, 田浪荘汰, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    接合科学共同利用・共同研究拠点 大阪大学接合科学研究所 平成27年度 共同研究成果発表会  2015年11月 

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    開催年月日: 2015年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大阪大学接合科学研究所   国名:日本国  

  • Effects of Ion Energy on Chemical Bond Configuration in a-C:H Deposited using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD 国際会議

    K. Koga, X. Dong, K. Yamaki, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara

    37th International Symposium on Dry Process (DPS2015)  2015年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Interactions between spin trapping reagents and non-thermal air DBD plasmas 国際会議

    K. Koga, T. Amano, T. Sarinont, T. Kondo, S. Kitazaki, Y. Nakatsu, A. Tanaka, M. Shiratani

    37th International Symposium on Dry Process (DPS2015)  2015年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラズマ照射に対する生体応答の研究

    古閑一憲

    第31回 九州・山口プラズマ研究会  2015年11月 

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    開催年月日: 2015年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:COCOLAND SPORTS&RESORT, 山口   国名:日本国  

  • Improving of Harvest Period and Crop Yield of Arabidopsis Thaliana L. using Nonthermal Atmospheric Air Plasma 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    American Vacuum Society 62nd International Symposium and Exhibition (AVS)  2015年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Two Dimentional Visualization of Oxidation Effect of Scalable DBD Plasma Irradiation using KI-starch Solution 国際会議

    K. Koga, T. Amano, T. Sarinont, T. Kawasaki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Nakatsu, A. Tanaka

    American Vacuum Society 62nd International Symposium and Exhibition (AVS)  2015年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Simple Evaluation Method of Atmospheric Plasma Irradiation Dose using pH of Water 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, Y. Nakatsu, A. Tanaka, M. Shiratani

    ICRP9/GEC68/SPP33  2015年10月 

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    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • In vivo kinetics of nanoparticles synthesized by plasma in water (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, T. Amano, M. Hirata, A. Tanaka, M. Shiratani

    The 21st Korea-Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics & The Workshop for NU-SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials  2015年10月 

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    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • In-situ laser Raman spectroscopy of an optically trapped fine particle 国際会議

    K. Koga, M. Soejima, K. Tomita, T. Ito, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    17th International Symposium on Laser-Aided Plasma Diagnostics (LAPD17)  2015年9月 

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    開催年月日: 2015年9月 - 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Control Of Nanoprticle Transport And Their Deposition For Porous Low-k Films By Using Plasma Pertubation (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga and M. Shiratani

    The 10th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2015)  2015年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • アルゴンプラズマ中微粒子運動の画像解析によるプラズマパラメータ評価

    古閑一憲, 添島雅大, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 内田誠一

    日本物理学会 2015年秋季大会  2015年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:関西大学   国名:日本国  

  • 反応性プラズマ中ナノ粒子とラジカルの非線形結合成分の時空間解析

    古閑一憲, 伊東鉄平, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会 2015年秋季大会  2015年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:関西大学   国名:日本国  

  • 大気圧非平衡プラズマ照射による液中ラジカル生成の相関解析(招待講演) 招待

    古閑一憲

    新学術領域研究 プラズマ・ナノマテリアル動態学の創成と安全安心医療科学の構築 第21回医工連携ゼミ  2015年4月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年4月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • 非平衡プラズマスパッタリングによる高速低温層交換結晶成長

    古閑一憲, 市田大樹, 山下大輔, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    日本物理学会第70回年次大会  2015年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:早稲田大学   国名:日本国  

  • ラットに皮下投与したInナノ粒子の体内輸送

    古閑一憲, 天野孝昭, 平田美由紀, 田中昭代, 白谷正治

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月 

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    開催年月日: 2015年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東海大学   国名:日本国  

  • 水素化アモルファスシリコン薄膜中Si-H2結合生成に対するクラスタ混入とラジカル表面反応の寄与

    古閑一憲, 都甲将, 鳥越祥宏, 毛屋公孝, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷 正治

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東海大学   国名:日本国  

  • スパッタを用いた低温高速層交換Ge結晶成長に対する基板温度の効果

    古閑一憲, 市田大樹, 橋本慎史, 徐鉉雄, 山下大輔, 板垣奈穂, 白谷正治

    第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東海大学   国名:日本国  

  • プロセシングプラズマを用いたIV族半導体ナノ粒子の作製と太陽電池への応用(招待講演) 招待

    古閑一憲, 内田儀一郎, 徐鉉雄, 白谷正治

    平成26年度 東北大学電気通信研究所共同プロジェクト研究会「プラズマナノバイオ・医療の基礎研究」  2015年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東北大学   国名:日本国  

  • Temporal development of nonlinear coupling between radicals and nanoparticles in reactive plasmas (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, T. Ito, H. Seo, N. Itagaki, and M. Shiratani

    The 75th IUVSTA Workshop on Sheath Phenomena in Plasma Processing of Advanced Materials  2015年1月 

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    開催年月日: 2015年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:スロベニア共和国  

  • Cluster suppressed deposition of a-Si:H films by employing non-linear phenomena in reactive plasmas (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    2015 Japan-Korea Joint Symposium on Advanced Solar Cells  2015年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 大気圧空気プラズマを照射したカイコの成長

    古閑一憲, サリノントタパナット, 天野孝昭, 白谷正治

    第24回日本MRS年次大会  2014年12月 

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    開催年月日: 2014年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:横浜市開港記念会館   国名:日本国  

  • プラズマ技術の生体・環境分野への応用研究

    古閑一憲

    九州大学テクノロジーフォーラム2014  2014年12月 

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    開催年月日: 2014年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京国際フォーラム   国名:日本国  

  • プラズマ照射によるシロイヌナズナの植物成長促進の世代間伝搬

    古閑一憲, サリノントタパナット, 北﨑訓, 林信哉, 白谷正治

    第30回 九州・山口プラズマ研究会  2014年11月 

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    開催年月日: 2014年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:ラグナガーデンホテル、沖縄   国名:日本国  

  • Analysis of coupling between nanoparticles and radicals using perturbation of radical density in reactive plasmas 国際会議

    K. Koga, T. Ito, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    Plasma Conference 2014  2014年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Effects of amplitude modulated VHF discharge on coupling between plasmas and nanoparticles 国際会議

    K. Koga, T. Ito, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, and M. Shiratani

    24th International Toki Conference  2014年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Spatiotemporal Analysis of Nanoparticle Growth in Amplitude Modulated Reactive Plasmas for Understanding Interactions between Plasmas and Nanomaterials (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, Y. Morita, T. Ito, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    15th IUMRS-International Conference in Asia  2014年8月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 太陽電池開発の最前線

    古閑一憲

    2014年度先端サマーセミナー(第6回研究活動交流会)  2014年8月 

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    開催年月日: 2014年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Quartz crystal microbalance measurements for in-situ evaluation of dust inventory in fusion devices 国際会議

    K. Koga, M. Tateishi, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experimental Group

    26th Symposium on Plasma Physics and Technology  2014年6月 

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    開催年月日: 2014年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Real time mass measurement of dust particles deposited on vessel wall using quartz crystal microbalances in a divertor simulator 国際会議

    K. Koga, M. Tateishi, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experimental Group

    21th International Conference on Plasma Surface Interactions (PSI2014)  2014年5月 

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    開催年月日: 2014年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Effects of non-thermal air plasma irradiation to plant seeds on glucose concentration of plants 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, and M. Shiratani

    International Workshop on Diagnostics and Modelling for Plasma Medicine (DMPM2014)  2014年5月 

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    開催年月日: 2014年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • コンビナトリアル細胞活性解析を用いた細胞超活性プラズマの創成 (招待講演) 招待

    古閑一憲

    第8回レーザー学会「レーザーバイオ医療」技術専門委員会  2014年3月 

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    開催年月日: 2014年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:沖縄科学技術大学院大学   国名:日本国  

  • プラズマプロセス技術の最近の応用展開 (招待講演) 招待

    古閑一憲

    プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部 平成25年度第3回特別講演会  2014年2月 

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    開催年月日: 2014年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:佐世保工業高等専門学校   国名:日本国  

  • Coupling between radicals in plasmas and nanoparticle growth in initial growth phase in reactive plasmas with amplitude modulation 国際会議

    K. Koga, Y. Morita, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Itagaki, G. Uchida and M. Shiratani

    18th Korea - Japan Workshop on Advanced Plasma Processes and Diagnostics  2014年2月 

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    開催年月日: 2014年2月

    記述言語:英語   会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    国名:日本国  

  • Fabrication of highly stable a-Si:H solar cells by suppressing cluster incorporation (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, Y. Hashimoto, S. Toko, D. Yamashita, Y. Torigoe, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

    2014 Japan-Korea Joint Symposium on Advanced Solar Cells  2014年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Coupling between radicals and nanoparticles in initial growth phase in reactive plasmas with amplitude modulation (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, Y. Morita, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Itagaki, G. Uchida, M. Shiratani

    8th International Conference on Reactive Plasmas and 31st Symposium on Plasma Processing (ICRP-8/SPP-31)  2014年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Multi-generation evaluation of plasma growth enhancement to arabidopsis thaliana (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, T. Sarinont, S. Kitazaki, N. Hayashi, M. Shiratani

    8th International Conference on Reactive Plasmas and 31st Symposium on Plasma Processing (ICRP-8/SPP-31)  2014年2月 

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    開催年月日: 2014年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラズマ技術およびその応用可能性について (招待講演) 招待

    古閑一憲

    平成25年度次世代テクノロジーセミナー  2014年1月 

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    開催年月日: 2014年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:リファレンス駅東ビル, 福岡   国名:日本国  

  • Correlation between Plasma Fluctuation and Nanoparticle Amount in Initial Growth Phase in Reactive Plasmas with Amplitude Modulation

    K. Koga, Y. Morita, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Itagaki, G. Uchida, M. Shiratani

    14th Workshop on Fine Particle Plasmas  2013年12月 

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    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Quantum dot sensitized solar cells using group IV semiconductor nanoparticles (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, G. Uchida, D. Ichida, S. Hashimoto, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

    2013 EMN Fall Meeting  2013年12月 

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    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • ナノ粒子成長に対するプラズマ摂動周波数の効果

    古閑一憲, 森田康彦, 岩下伸也, 内田儀一郎, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    プラズマ・核融合学会 第30回年会  2013年12月 

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    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京工業大学   国名:日本国  

  • Deposition of Ge Nanoparticle Films and Their Application to Ge Quantum-dot Sensitized Solar Cells 国際会議

    K. Koga, G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    The 23rd International Photovoltaic Science and Engineering Conference  2013年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年10月 - 2013年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

  • Carbon Nanostructure formed by high pressure methane plasmas

    K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    The 26th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-26)  2013年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Comparative Acute Pulmonary Toxicity of Different Types of Indium-Tin Oxide Following Intermittent Intratracheal Instillation to the Lung of Rats 国際会議

    K. Koga, A. Tanaka, M. Hirata, N. Hayashi, N. Itagaki and G. Uchida

    2013 JSAP-MRS Joint Symposia  2013年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年9月

    記述言語:英語   会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    国名:日本国  

  • クラスタ抑制法を用いた高光安定アモルファスシリコンPIN太陽電池の作製

    古閑一憲, 橋本優史, 金淵元, 都甲将, 内田儀一郎, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    プラズマ研究会  2013年9月 

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    開催年月日: 2013年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎大学   国名:日本国  

  • Formation of self-organized nanostructures using high pressure CH4+Ar plasmas 国際会議

    K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, D. Yamashita, N. Itagaki, H. Seo, M. Shiratani and U. Czarnetzki

    The 9th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2013)  2013年8月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年8月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • High Pressure Nonthermal Methane Plasmas for Nanoparticle Production 国際会議

    K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Kamataki, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    The 12th Asia Pacific Physics Conference (APPC12)  2013年7月 

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    開催年月日: 2013年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 振幅変調放電プラズマ中のナノ粒子成長初期におけるナノ粒子量の時空間分布

    古閑一憲, 森田康彦, 内田儀一郎, 鎌滝晋礼, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    2013年第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:神奈川工科大学   国名:日本国  

  • Characteristics of high pressure Ar+CH4 nanosecond discharge plasmas for producing nanoparticles 国際会議

    K. Koga, D. Yamashita, G. Uchida, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)  2013年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年1月 - 2013年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Single particle trapping in plasmas using laser for studying interaction between a fine particle and palsams 国際会議

    K. Koga, D. Yamashita, G. Uchida, M. Shiratani

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)  2013年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年1月 - 2013年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Time and space profiles of laser-light scattering intensity from nano-particles and optical emission intensity in amplitude modurated high frequency discharge plasmas 国際会議

    K. Koga

    The International LIGLR Workshop on Plasma Science & Technology  2013年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年1月

    記述言語:英語   会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    国名:日本国  

  • プラズマ-壁相互作用によるナノ粒子生成に対する壁へのプラズマ流入角度の効果

    古閑一憲, 西山雄士, 立石瑞樹, 白谷正治, H. Wulff, S. Bornholdt, H. Kersten

    第30回プラズマプロセシング研究会(SPP-30)  2013年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:アクトシティ浜松・研修交流センター   国名:日本国  

  • 重水素ヘリコンプラズマとグラファイト壁の相互作用により発生したダストの捕集

    古閑一憲, 岩下伸也, 西山雄士, 立石瑞樹, 森田康彦, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 芦川直子, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部第16回支部大会  2012年12月 

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    開催年月日: 2012年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Deposition of Si nanoparticle composite films for C-Si/Si QDs/organic Solar Cells

    K. Koga, Y. Wang, D. Ichida, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, M. Shiratani

    2012年12月 

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    開催年月日: 2012年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • グラファイトと重水素プラズマの相互作用で発生したダスト捕集

    古閑一憲, 岩下伸也, 西山雄士, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治, 芦川直子, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    プラズマ・核融合学会 第29回年会  2012年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:春日クローバープラザ   国名:日本国  

  • 高気圧Ar+CH4ナノ秒放電を用いた薄膜堆積とナノ粒子生成

    古閑一憲, 岩下伸也, 山下大輔, 内田儀一郎, 白谷正治, Czarnetzki U.

    プラズマ・核融合学会 第29回年会  2012年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:春日クローバープラザ   国名:日本国  

  • Plasma Chemical Vapor Deposition for Solar Cells (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga

    2012 Workshop on Advanced Surface and Material Technologies  2012年11月 

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    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:英語   会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    国名:台湾  

  • Electrical Asymmetry Effectを用いた微粒子のシース間輸送

    古閑一憲, 岩下伸也, 内田儀一郎, J. Schulze, E. Schungel, P. Hartmann, 白谷正治, Z. Donko, U. Czarnetzki

    九州山口プラズマ研究会、応物新領域研究会  2012年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:由布院倶楽部   国名:日本国  

  • Control of Dust Flux in LHD and in a Divertor Simulator 国際会議

    K. Koga, K. Nishiyama, Y. Morita, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group

    24th Fusion Energy Conference (IAEA)  2012年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Formation of Nanoparticles in High Pressure Reactive Nanosecond Discharges 国際会議

    K. Koga, S. Iwashita, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology (11th APCPST)  2012年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Optical Trapping of Single Fine Particle in Plasmas for study of interactions between a fine particle and plasmas 国際会議

    K. Koga, D. Yamashita, S. Kitazaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    NANOSMAT 2012  2012年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Control of deposition profile and properties of plasma CVD carbon films 国際会議

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    13th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2012)  2012年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • Effects of Substrate DC Bias Voltage on Dust Collection Efficiency in Large Helical Device 国際会議

    K. Koga, K. Nishiyama, Y. Morita, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group

    20th International Conference on Plasma Surface Interactions 2012 (PSI2012)  2012年5月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • Effects of incorporation of clusters generated in the plasma ignition phase on Schottky cell performance of amorphous silicon films 国際会議

    K. Koga, K. Nakahara, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, T. Matsunaga, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, M. Shiratani

    The Fourth International Workshop on Thin-Film Silicon Solar Cells (IWTFSSC-4)  2012年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年3月

    記述言語:英語   会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    国名:スイス連邦  

  • Three growth modes of nanoparticles generated in reactive plasmas 国際会議

    K. Koga, K. Kamataki, S. Nunomura, S. Iwashita, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    DPG Spring Meeting of the Section AMOP (SAMOP)  2012年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

  • 低温プラズマ異方性CVDを用いた微細トレンチ上面への自己組織カーボンマスク形成 国際会議

    古閑一憲, 浦川達也, 内田儀一郎, 徐鉉雄, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

    2011年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:石川県立音楽堂   国名:日本国  

  • プロセスプラズマ中の微粒子挙動研究とその応用(特別講演) 招待

    古閑一憲

    プラズマ科学のフロンティア2011研究会  2011年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(招待・特別)  

    開催地:核融合科学研究所, 岐阜   国名:日本国  

  • CVDプラズマ中ナノ粒子の制御とその応用 (招待講演) 招待

    古閑一憲

    AIST計測・診断システム研究協議会 第8回プラズマ技術研究会  2011年8月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:虹の松原ホテル, 佐賀   国名:日本国  

  • 基板バイアスによるダスト捕集の検討

    古閑一憲

    第9回LHDにおけるPWI共同研究・検討会  2011年7月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年7月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:核融合科学研究所, 岐阜   国名:日本国  

  • Effects of surface treatment on performance of Si nano-particle quantum dot solar cells 国際会議

    K. Koga, G. Uchida, M. Sato, Y. Wang, K. Nakahara, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    The 3rd International Conference on Microelectronics and Plasma Technology (ICMAP-2011)  2011年7月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

  • Deposition of carbon films on top surface of fine trenches at 100℃ using a plasma anisotropic CVD method

    古閑一憲, 野村卓也, 浦川達也, 内田儀一郎, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治, 節原裕一, 関根誠, 堀勝

    第58回応用物理学関係連合講演会  2011年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:神奈川工科大学   国名:日本国  

  • Transport Control of Carbon Nanoparticles in H2 Helicon Discharges by Biasing Wall

    2011年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Generation and Surface Modification of Si nano-particles using SiH4/H2 and N2 multi-hollow discharges and their application to the third generation photovoltaics (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    2011年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:インド  

  • Radical flux evaluation of high pressure silane plasma CVD using multi-hollow discharges (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, T. Matsunaga, Y. Kawashima, Y. Kim, K. Nakahara, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    The 12th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics  2011年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 微細パターン基板へのSiOx-CH3ナノ粒子堆積

    古閑一憲, 宮田大嗣, 西山雄士, 岩下伸也, 山下大輔, 松崎秀文, 内田儀一郎, 板垣奈穂, 鎌滝晋礼, 白谷正治

    第27回プラズマ・核融合学会年会  2010年12月 

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    開催年月日: 2010年11月 - 2010年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌国際プラザ   国名:日本国  

  • プラズマ-カーボン壁相互作用で発生したカーボン微粒子の基板へのフラックス評価

    古閑一憲, 宮田大嗣, 西山雄士, 岩下伸也, 山下大輔, 松崎秀文, 内田儀一郎, 板垣奈穂, 鎌滝晋礼, 白谷正治, 芦川直子, 増﨑貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    第27回プラズマ・核融合学会年会  2010年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年11月 - 2010年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌国際プラザ   国名:日本国  

  • Deposition profile control of carbon films on the surface of fine structures using plasma CVD (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, T. Nomura, G. Uchida, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    The 1st Korean-Japan Symposium on Surface Technology  2010年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Deposition of Nanoparticles using Substrate Bias Voltage 国際会議

    K. Koga, H. Miyata, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group

    2010年11月 

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    開催年月日: 2010年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラズマ-細胞相互作用による細胞活性制御

    古閑一憲, 北﨑訓, 内田儀一郎, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 白谷正治

    第26回九州・山口プラズマ研究会  2010年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:山陽館, 大分   国名:日本国  

  • High speed deposition of highly stable a-Si:H films using pure silane multi-hollow discharges 国際会議

    K. Koga, K. Nakahara, T. Matsunaga, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Third International Workshop on Thin Film Silicon Solar Cells (IWTFSSC3)  2010年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Si quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles produced by multi-hollow discharge 国際会議

    K. Koga, G. Uchida, Y. Kawashima, M. Sato, K. Yamamoto, K. Nakahara, T. Matsunaga, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    3rd International Symposium on Innovative Solar Cells  2010年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Comparison between Si thin films with and without incorporating nanoparticles into the film 国際会議

    K. Koga, Y. Kawashima, T. Matsunaga, M. Sato, K. Nakahara, W. M. Nakamura, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    10th Asia Pacific Conference on Plasma Science and Technology (APCPST)  2010年7月 

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    開催年月日: 2010年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Effects of hydrogen dilution on electron density in multi-hollow discharges with magnetic field for a-Si:H film deposition 国際会議

    K. Koga, Y. Kawashima, K. Nakahara, T. Matsunaga, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    35th IEEE Photovoltaic Specialists Conference (PVSC)  2010年6月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • へリコンプラズマーカーボン壁相互作用で発生したカーボンダストの電場による収集

    古閑一憲, 宮田大嗣, 白谷正治

    第8回LHDにおけるPWI共同研究・検討会  2010年6月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2010年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:核融合科学研究所, 岐阜   国名:日本国  

  • Plasma CVD for Si thin film solar cells 国際会議

    K. Koga

    2010 International Workshop on Plasma Applications  2010年6月 

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    開催年月日: 2010年6月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 振幅変調パルス放電による部分帯電ナノ粒子雲の輸送

    日本地球惑星科学連合年会  2010年5月 

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    開催年月日: 2010年5月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:千葉幕張メッセ国際会議場   国名:日本国  

  • Effects of gas residence time and H2 dilution on electron density in multi-hollow discharges of SiH4+ H2

    K. Koga, H. Sato, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    2010年2月 

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    開催年月日: 2010年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • LHDの第一壁へのダストフラックスの評価

    古閑一憲, 岩下伸也, 宮田大嗣, 山田泰之, 白谷正治, 芦川直子, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    第2回PWI合同研究会  2009年12月 

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    開催年月日: 2009年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:核融合科学研究所, 岐阜   国名:日本国  

  • シランホロ―放電に対する水素希釈の効果

    古閑一憲, 佐藤宙, 中村ウィリアム誠, 宮原弘臣, 松崎秀文, 白谷正治

    プラズマ・核融合学会 九州・沖縄・山口支部 第12回支部大会  2009年12月 

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    開催年月日: 2009年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • マルチホロ―放電を用いたa-Si:H製膜中の基板温度

    古閑一憲, 川嶋勇毅, 佐藤宙, 白谷正治

    2009年12月 

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    開催年月日: 2009年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:横浜   国名:日本国  

  • High Rate Deposition of Cluster-suppressed Amorphous Silicon Films Deposited Using a Multi-hollow Discharge Plasma CVD 国際会議

    K. Koga, H. Sato, Y. Kawashima, M. Shiratani

    2009 MRS Fall Meeting  2009年12月 

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    開催年月日: 2009年11月 - 2009年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Plasma Treatment of Indium Compounds to Reduce Their Adverse Health Effects 国際会議

    K. Koga, S. Iwashita, H. Miyata, M. Shiratani, M. Hirata, Y. Kiyohara, A. Tanaka

    2009 MRS Fall Meeting  2009年12月 

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    開催年月日: 2009年11月 - 2009年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Synthesis of crystalline Si nanoparticles for third generation solar cells (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, Y. Kawashima, K. Nakahara, H. Sato, M. Shiratani, M. Kondo

    10th Workshop on Fine Particle Plasmas  2009年11月 

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    開催年月日: 2009年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Plasma treatment of CIGS to reduce toxicity 国際会議

    K. Koga, S. Iwashita, H. Miyata, M. Shiratani, M. Hirata, Y. Kiyohara, A. Tanaka

    Seventh Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE 2009)  2009年9月 

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    開催年月日: 2009年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • マイクロ波共振プローブを用いたH2+SiH4マルチホロー放電の電子密度計測

    古閑一憲, 佐藤 宙, 川嶋勇毅, 白谷正治

    第70回応用物理学会学術講演会  2009年9月 

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    開催年月日: 2009年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:富山大学   国名:日本国  

  • プラズマCVDを用いた微細構造への製膜形状制御(招待講演) 招待

    古閑一憲, 白谷正治

    西日本放電懇談会  2009年8月 

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    開催年月日: 2009年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:ホテル万松楼, 長崎   国名:日本国  

  • プラズマCVDの基礎 (Invited) 招待

    古閑一憲

    2009年7月 

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    開催年月日: 2009年7月

    記述言語:日本語   会議種別:公開講演,セミナー,チュートリアル,講習,講義等  

    開催地:東京エレクトロン韮崎   国名:日本国  

  • LHDとモデル実験装置のダストの比較

    古閑一憲, 岩下伸也, 宮田大嗣, 白谷正治, 芦川直子, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    第7回LHDにおけるPWI共同研究・検討会  2009年6月 

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    開催年月日: 2009年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:核融合科学研究所, 岐阜   国名:日本国  

  • 高品質光安定a-Si:H薄膜作製用マルチホロー放電における電子密度の空間分布

    古閑一憲, 佐藤宙, 川嶋勇毅, 中村誠ウィリアム, 白谷正治

    電気学会プラズマ研究会  2009年6月 

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    開催年月日: 2009年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:佐賀大学   国名:日本国  

  • Anisotropic deposition in narrow trenches using hydrogen assisted plasma CVD method 国際会議

    K. Koga, T. Nomura, M. Shiratani, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Hori

    2009年5月 

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    開催年月日: 2009年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Deposition profile control of carbon films in trenches using a plasma CVD method (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga

    The 7th EU-Japan Joint Symposium on Plasma Processing  2009年4月 

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    開催年月日: 2009年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • 高品質a-Si堆積用マルチホロー放電プラズマ

    古閑一憲

    太陽電池製造用新規プラズマ源に関する研究会  2009年3月 

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    開催年月日: 2009年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学西新プラザ   国名:日本国  

  • Conductivity of nc-Si films depsited using multi-hollow discharge plasma CVD method

    K. Koga, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, H. Sato, M. Tanaka, M. Shiratani, M. Kondo

    2009年2月 

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    開催年月日: 2009年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • High Rate Deposition of a-Si:H Depositied using a Low Gas Pressure Multi-hollow Discharge Plasma CVD Method

    K. Koga, W. M. Nakamura, H. Sato, M. Tanaka, H. Miyahara, M. Shiratani

    2009年2月 

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    開催年月日: 2009年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラズマプロセスにおける揺らぎの抑制と増幅 (招待講演) 招待

    古閑一憲

    プラズマ・核融合学会「プラズマ-バイオ融合科学への新展開」第2回専門委員会  2009年1月 

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    開催年月日: 2009年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東北大学   国名:日本国  

  • シランホロー放電に対する水素希釈の効果

    古閑一憲, 佐藤宙, 中村ウィリアム誠, 宮原弘臣, 松崎秀文, 白谷正治

    プラズマ・核融合学会 第12回九州・沖縄・山口支部大会  2008年12月 

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    開催年月日: 2008年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:九州大学   国名:日本国  

  • Dust Particles in Size Range from 1 nm to 10 μm Sampled in LHD 国際会議

    2008年12月 

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    開催年月日: 2008年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:NIFS   国名:日本国  

  • Improvement in deposition rate of a-Si:H films using a low pressure multi-hollow discharge plasma CVD method 国際会議

    K. Koga, H. Sato, W. M. Nakamura, H. Miyahara, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    ICPP2008 Satellite Meeting on Plasma Physics, Advanced Applications in Aso  2008年9月 

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    開催年月日: 2008年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 水素希釈シラン有磁場マルチホロー放電を用いた高光安定a-Si:H膜の堆積

    古閑一憲, 中村ウィリアム誠, 佐藤 宙, 宮原弘臣, 白谷正治

    2008年秋季第69回応用物理学会学術講演会  2008年9月 

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    開催年月日: 2008年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:中部大学   国名:日本国  

  • プラズマCVDを用いたナノ粒子含有多孔質低誘電率膜の作製

    古閑一憲

    平成20年度西日本放電懇談会  2008年8月 

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    開催年月日: 2008年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:門司港ホテル   国名:日本国  

  • Deposition of highly stable a-Si:H films using hydrogen diluted silane hollow discharge 国際会議

    K. Koga, H. Sato, W. M. Nakamura, H. Miyahara, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    The 3rd International School of Advanced Plasma Technology  2008年7月 

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    開催年月日: 2008年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

  • Nano-structure formation using Plasma (Invited) 招待

    K. Koga

    2008年4月 

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    開催年月日: 2008年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Effects of hydrogen dilution on a-Si:H deposition using silane hollow discharges

    K. Koga, H. Sato, W. M. Nakamura, H. Miyahara, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    2008年1月 

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    開催年月日: 2008年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Control of deposition profile of Cu in trenches using ion-enhanced surface reaction (Invited) 招待 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani

    The 5th International Symposium on Advanced Plasma Processing, Diagnostics, The 1st International Symposium on Flexible Electronics Technology  2007年4月 

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    開催年月日: 2007年4月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Cluster-suppressed plasma CVD method employing VHF discharges 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Fine Particle Plasmas: Basis, Applications - Third Workshop on Fine Particle Plasmas  2002年12月 

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    開催年月日: 2002年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • プラズマスパッタリングによるSiナノ構造の自己組織的形成

    古閑 一憲, 甲斐 幹英, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    電気学会 プラズマ研究会  2002年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2002年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Correlation between cluster amount, qualities of a-Si:H films for SiH4 plasma CVD 国際会議

    K. Koga, K. Imabeppu, M. Kai, A. Harikai, M. Shiratani, Y. Watanabe

    American Vaccum Society 49th International Symposium  2002年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2002年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • クラスタ抑制プラズマCVD法を用いて堆積したa-Si:H膜の膜質に及ぼす放電周波数の影響

    古閑 一憲, 今別府 謙吾, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    平成14年度応用物理学会九州支部講演会  2002年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2002年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • クラスター抑制プラズマCVD法による高品質a-Si:H堆積

    古閑 一憲, 白谷 正治, 古閑 一憲, 渡辺 征夫

    第18回九州・山口プラズマ研究会  2002年11月 

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    開催年月日: 2002年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シラン高周波放電を用いたナノ結晶シリコンクラスタの生成

    古閑 一憲, 甲斐 幹英, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第62回応用物理学学術講演会  2002年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2002年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • アモルファスシリコン作製になぜ放電周波数を高周波化するか?

    古閑 一憲, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    西日本放電懇談会  2002年8月 

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    開催年月日: 2002年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Carbon nano-particles due to interaction between H2 plasmas, carbon wall 国際会議

    K. Koga, R. Ueharaa, M. Shiratani, Y. Watanabe, A. Komori

    Joint Meeting of 16th European Conference on Atomic, Molecular Physics of Ionized Gases, 5th International Conference on Reactive Plasmas  2002年7月 

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    開催年月日: 2002年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • Suppression methods of cluster growth in silane discharges, their application to deposition of super high quality a-Si:H films 国際会議

    K. Koga, K. Imabeppu, M. Kai, A. Harikai, M. Shiratani, Y. Watanabe

    International Workshop on Information, Electrical Engineering (IWIE2002)  2002年5月 

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    開催年月日: 2002年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • クラスタ抑制PECVD法により作製したa-Si:H薄膜の膜質とクラスタ量の相関

    古閑 一憲, 甲斐 幹英, 今別府 謙吾, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第49回応用物理学関係連合講演会  2002年3月 

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    開催年月日: 2002年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 水素プラズマとカーボン壁の相互作用による微粒子形成

    古閑 一憲, 上原 龍児, 白谷 正治, 渡辺 征夫, 小森 彰夫

    第49回応用物理学関係連合講演会  2002年3月 

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    開催年月日: 2002年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シランプラズマ中のクラスタ量と電子エネルギー分布への放電周波数の影響

    古閑 一憲, 針貝 篤史, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第49回応用物理学関係連合講演会  2002年3月 

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    開催年月日: 2002年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • In situ mesurement of size, density of particles in sub-nm size range 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Seminar of Particle Technology Division of Korean Chemical Engineering  2002年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2002年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • In situ mesurement of size, density of particles in subnm size range (Invited) 招待

    K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    The Seminar of Particle Technology Division of Korean Chemical Engineering  2002年2月 

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    開催年月日: 2002年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Preliminary experiments on dust particles formation due to interaction between plasma, graphite wall 国際会議

    K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Fine Particle Plasmas: Basis, Applications - Second Workshop on Fine Particle Plasmas  2001年12月 

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    開催年月日: 2001年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • LSI内微細銅配線形用プラズマCVD

    古閑 一憲, 白谷 正治, 古閑 一憲, 渡辺 征夫

    第17回九州・山口プラズマ研究会  2001年11月 

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    開催年月日: 2001年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • ダイバータ壁とプラズマの相互作用による微粒子形成機構研究用装置の試作

    古閑 一憲, 徳安 達郎, 上原 龍児, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第18回プラズマ・核融合学会年会  2001年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2001年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シラン高周波放電中のクラスタ成長に関する水素希釈と励起周波数の効果

    古閑 一憲, 針貝 篤史, 白谷 正治, 渡辺 征夫, 渡邉 剛

    第62回応用物理学学術講演会  2001年9月 

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    開催年月日: 2001年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Deposition of super high quality a-Si:H thin films using cluster-suppressed plasma CVD reactor 国際会議

    K. Koga, T. Sonoda, N. Shikatani, M. Shiratani, Y. Watanabe

    International Conference on Phenomena in Ionized Gases  2001年7月 

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    開催年月日: 2001年7月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • クラスタ抑制プラズマCVD装置による高品質a-Si:H作製

    古閑 一憲, 園田 剛士, 鹿谷 昇, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第48回応用物理学関係連合講演会  2001年3月 

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    開催年月日: 2001年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 水素希釈シラン高周波放電中の電子密度及びイオン密度

    古閑 一憲, 田中 健一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第48回応用物理学関係連合講演会  2001年3月 

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    開催年月日: 2001年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Effects of H2 dilution, excitation frequency on initial growth of clusters in silane plasmas 国際会議

    K. Koga, K. Tanaka, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Plasma Science Symposium 2001/ 18th Symposium on Plasma Processing  2001年1月 

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    開催年月日: 2001年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • シランプラズマ中に発生する微粒子の表面付着確率

    古閑 一憲, 徳安 達郎, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    平成12年度応用物理学会九州支部講演会  2000年12月 

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    開催年月日: 2000年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シランプラズマ中のSinHxクラスタ核のその場計測と成長制御

    古閑 一憲, 田中 健一, 徳安 達郎, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    プラズマ・核融合学会九州地区第4回研究発表講演会  2000年12月 

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    開催年月日: 2000年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Initial growth of clusters in silane rf discharges 国際会議

    K. Koga, K. Tanaka, T. Tokuyasu, M. Shiratani, Y. Watanabe

    53rd Annual Gaseous Electronics Conference  2000年10月 

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    開催年月日: 2000年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • シランプラズマ中のクラスタ成長に対する水素希釈・放電周波数の効果

    古閑 一憲, 田中 健一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第61回応用物理学学術講演会  2000年9月 

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    開催年月日: 2000年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シラン高周波放電中クラスタの表面付着確率

    古閑 一憲, 徳安 達郎, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第61回応用物理学学術講演会  2000年9月 

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    開催年月日: 2000年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シラン高周波放電中のクラスタのサイズ・密度測定

    古閑 一憲, 松岡 泰弘, 田中 健一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第47回応用物理学関係連合講演会  2000年3月 

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    開催年月日: 2000年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラズマ中のクラスタの新計測法

    古閑 一憲, 松岡 泰弘, 田中 健一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第17回プラズマプロセシング研究会  2000年1月 

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    開催年月日: 2000年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シランプラズマ中の微粒子成長の基板材料依存性

    古閑 一憲, 前田 真一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    平成11年度応用物理学会九州支部講演会  1999年12月 

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    開催年月日: 1999年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 反応性プラズマにおける微粒子発生

    古閑 一憲, 前田 真一, 松岡 泰弘, 田中 健一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    プラズマ・核融合学会九州地区第3回研究発表講演会  1999年12月 

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    開催年月日: 1999年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • 水素希釈によるシラン高周波放電中微小微粒子の抑制効果

    古閑 一憲, 松岡 泰弘, 田中 健一, 白谷 正治, 渡辺 征夫

    第60回応用物理学学術講演会  1999年9月 

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    開催年月日: 1999年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • シラン高周波放電における微小微粒子の抑制

    古閑 一憲

    西日本放電懇談会  1999年8月 

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    開催年月日: 1999年8月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Characteristics of Asymmetric Ion Sheath in a Negative Ion Plasma 国際会議

    K. Koga, H. Naitou, Y. Kawai

    2nd International Conference on the Physics of Dusty Plasmas  1999年5月 

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    開催年月日: 1999年5月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:その他  

  • イオンシース不安定性と非対称イオンシース構造

    古閑 一憲, 内藤 裕志, 河合 良信

    プラズマ・核融合学会九州地区第2回研究発表講演会  1999年2月 

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    開催年月日: 1999年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラズマスパッタによる高移動度アモルファスITO成膜におけるハイブリッド機械学習モデル

    鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 古閑一憲, 白谷正治

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • Large-Scale Fabrication of Tm3 Fe5 O12 Film with Perpendicular Magnetic Anisotropy Using Magnetron Sputtering 国際会議

    A. M. Nurut, S. Obinata, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Yamashita

    ISPlasma  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • イネ種皮のプラズマ起因化学種透過性の二次元分布解析

    史合平, 奥村賢直, P. Attri, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • プラズマ照射によるシロイヌナズナ種皮の物質透過性変化

    奥村賢直, 古閑一憲, アタリパンカジ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治, 南原英司

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • モデル植物ゼニゴケを用いた低温プラズマ照射の初発反応と成長に対する影響の解析

    坪山祥子, 奥村賢直, 古閑一憲, 白谷正治, 朽津和幸

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • 大気圧プラズマを用いた窒素固定における電極温度の効果

    中尾匠, 奥村賢直, パンカジアタリ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治, 古閑一憲

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • ソルガム種子への空気プラズマ照射による発芽・生育促進効果

    柳川由紀, 蒔田由布子, 奥村賢直, 藤田美紀, 栗山朋子, 河内正治, 松井南, 古閑一憲

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • プラズマを用いた CO2 のメタン化におけるモレキュラーシーブの活用

    都甲将, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 竹中弘祐, 古閑一憲, 白谷正治, 節原裕一

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • CxHy+ArプラズマCVDを用いた水素化アモルファスカーボン膜の堆積特性に対するガス圧力の効果

    小野晋次郎, 恵利眞人, 奥村賢直, 山下尚人, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

    第71回応用物理学会 春季学術講演会  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京都市大学   国名:日本国  

  • Sputtering deposition of low resistive 30-nm-thick ZnO:Al films on seed layers grown via solid phase crystallization of fractionally crystallized ZnON films 国際会議

    Y. Wada, S. Zhiyuan, H. Yabuta, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    ISPlasma  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Nitrogen Fixation to Leaf Mold Using Air Plasma and Evaluation of Phenotype Response of Sugarcane to Nitrogen-Fixed Fertilizer 国際会議

    T.Nakao, T. Okumura, P. Attri, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Koga

    ISPlasma  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Deposition of carbon nanoparticles fabricated by multi-hollow discharge plasma CVD on DC biased substrates 国際会議

    K. Koga, S. Ono, M. Eri, S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M.Shiratani

    ISPlasma  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Molecular structure analysis of DBD plasma irradiated DMPO by LC-MS 国際会議

    T. Okumura, H. Shi, P.Attri, D. Yamasita, K. Kamataki, N.Yamasita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratan

    ISPlasma  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Influence of CO and H2O2 in plasma agriculture 国際会議

    P. Attri, T. Okumura, K. Koga, K. Kamataki, M. Shiratani

    ISPlasma  2024年3月 

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    開催年月日: 2024年3月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • プラネタリバウンダリに貢献するプラズマ農業(招待講演) 招待

    古閑一憲

    2024年1月 

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京工業大学   国名:日本国  

  • プラズマスパッタによる高品質アモルファスITO薄膜形成のためのハイブリッド機械学習モデル 招待

    鎌滝晋礼,板垣 奈穂,山下 大輔, 奥村 賢直,山下 尚人, 古閑 一憲, 白谷 正治

    2024年1月 

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京工業大学   国名:日本国  

  • Predictions for High Quality Amorphous ITO(In2O3:Sn) Film Formation via Hybrid Machine Learning Model 招待 国際会議

    K. Kamataki, N. Itagaki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

    ICTS  2024年1月 

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Induction of plant responses by plasma irradiation to seeds and their quantitative evaluation 招待 国際会議

    T. Okumura, P. Attri, Y. Ishibashi, K.Koga, M. Shiratani

    ICTS  2024年1月 

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Understanding Plant Molecular Response to Low-temperature Plasma Irradiation(Invited) 招待 国際会議

    K. Koga

    ICMAP2024  2024年1月 

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    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:大韓民国  

  • Effects of Carbon Nanoparticle Interposed between Two Hydrogenated Amorphous Carbon Films on Surface Morphology of a-C:H Film

    S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    2023年12月 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Enhancement of The Coercivity and Blocking Temperature of Co doped ZnO films by RF sputtering Using Nitrogen 国際会議

    M. N. Agusutrisno, K. Kamataki, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Yamashita

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Evaluation of Elastic Parameters of a-C:H Film with Carbon Nanoparticles Using Nanoindentation Method 国際会議

    K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Hybrid machine learning model prediction for high mobility amorphous ITO films fabricated by RF plasma sputtering 国際会議

    K. Kamataki, N. Itagaki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Fabrication of ZnO Based Transparent Conducting Oxide as an Alternative to In2O3:Sn by Sputtering Combined with Solid Phase Crystallization 国際会議

    N. Itagaki, Z. Shen, Y. Wada, H. Yabuta, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Catalytic ability of Cu and Ni in methanation with plasma catalysis 国際会議

    S. Toko, T. Okumura, K. Kamataki, K. Takenaka, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023年12月 

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    開催年月日: 2023年12月

    記述言語:英語   会議種別:<