2024/10/31 更新

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シラタニ マサハル
白谷 正治
SHIRATANI MASAHARU
所属
システム情報科学研究院 情報エレクトロニクス部門 教授
プラズマナノ界面工学センター (併任)
工学部 電気情報工学科(併任)
システム情報科学府 電気電子工学専攻(併任)
マス・フォア・イノベーション連係学府 (併任)
職名
教授
連絡先
メールアドレス
電話番号
0928023734
プロフィール
1)研究活動概要 プラズマプロセスは,半導体産業をはじめ様々な分野で広く使われている.今後さらに,有機,無機の様々な機能性薄膜材料や新しいデバイスの作製に応用されると考えられており,高精度のプロセス制御技術が求められている.当研究室では,新しいプラズマプロセス技術の開発とその応用について研究している.特に,長期的視野で重要なものを研究課題として選定している.主な課題として,次のような研究を行っている. 1.太陽光発電材料製造技術の研究 経済の発展と人口増加に伴う,エネルギー消費の増大と環境破壊の問題の解決が21世紀の最重要課題である.この解決には,クリーンな発電技術である太陽光発電が大きな役割を果たすと期待されており,太陽電池の高効率化と低コスト化が求められている.当研究室では,21世紀に主流となると考えられるアモルファスシリコン太陽電池の高効率化と低コスト化を実現する製造技術の研究を行っている.これまでに,種々の新しい製造技術の提案を行ってきており,その成果は国内外の研究者から注目されている. 2.微粒子を用いた新しいナノ構造デバイスの研究  ナノメートルサイズの微粒子は,サイズ効果,量子効果の発現が可能なため,これらの効果を利用した新しいナノ構造デバイスの創製が期待されている.この課題に対して,微粒子の結晶性・サイズ・位置の制御技術の開発を行っている.これまでに,青色発光を示すナノシリコン結晶微粒子の作製に成功している. 3.次世代大規模集積回路内配線技術の開発  高集積化が進むにつれて,集積回路内の配線長は長くなり21世紀初頭には,配線総延長は数kmを越えると予想されている.このため今後は,トランジスタより配線が集積回路の性能,歩留まり,信頼性を決めるようになる.このような観点から,プラズマCVD法による銅配線形成技術を開発中であり,既に高純度の銅をサブミクロン幅の溝に埋め込むことに成功している. これまでの研究成果に対して,1991,1996年度に電気学会優秀論文発表賞を,1998年度には日本学術振興会プラズマ材料科学賞を受賞した. 2)教育活動  学内においては学部では,プラズマエレクトロニクス,電磁気学I,電気情報工学卒業研究を,大学院では,プラズマプロセス基礎特論,ナノ集積システム工学演習,電子デバイス工学演習第一,電子デバイス工学演習第二,電子デバイス工学演習第三,電子デバイス工学特別研究を担当している.また,学外においてはサマースクール,講習会等の講師として,全国の大学院生,および社会人を対象とした教育も行っている.

研究分野

  • ものづくり技術(機械・電気電子・化学工学) / 電気電子材料工学

  • ナノテク・材料 / 薄膜、表面界面物性

  • ナノテク・材料 / 応用物理一般

  • エネルギー / プラズマ科学

  • エネルギー / プラズマ応用科学

学位

  • 工学博士(九州大学,日本)

経歴

  • - Kyushu University, Professor

    2006年

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  • - 九州大学 教授

    2006年

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学歴

  • 九州大学

    - 1988年

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  • 九州大学   工学研究科   電気工学

    - 1988年

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    国名: 日本国

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  • 九州大学

    - 1983年

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  • 九州大学   工学部   電気工学

    - 1983年

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    国名: 日本国

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研究テーマ・研究キーワード

  • 研究テーマ:電子・電気材料工学

    研究キーワード:電子・電気材料工学

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:表面界面物性

    研究キーワード:表面界面物性

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:微粒子

    研究キーワード:微粒子

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:プラズマ理工学

    研究キーワード:プラズマ理工学

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:plasma process

    研究キーワード:plasma process

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:plasma CVD

    研究キーワード:plasma CVD

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:dusty plasma

    研究キーワード:dusty plasma

    研究期間: 2024年

  • 研究テーマ:プラズマ農業

    研究キーワード:低温プラズマ,発芽率向上,成長促進

    研究期間: 2010年4月 - 2028年6月

  • 研究テーマ:第三世代超高効率太陽電池の研究

    研究キーワード:第三世代太陽電池, 多重励起子

    研究期間: 2008年10月

  • 研究テーマ:次世代LSI用低誘電率層間絶縁膜形成技術の開発

    研究キーワード:低誘電率層間絶縁膜

    研究期間: 2002年1月

  • 研究テーマ:プラズマ・カーボン壁相互作用による微粒子形成機構の研究

    研究キーワード:プラズマ・壁相互作用,核融合

    研究期間: 2001年1月

  • 研究テーマ:次世代LSI用銅配線技術の開発

    研究キーワード:銅配線

    研究期間: 1998年1月

  • 研究テーマ:プロセスプラズマ中の微粒子成長機構の解明と成長制御の研究

    研究キーワード:プロセスプラズマ,微粒子

    研究期間: 1987年1月

  • 研究テーマ:高品質太陽光発電材料の高速製造技術の研究

    研究キーワード:アモルファスシリコン

    研究期間: 1987年1月

受賞

  • 2023 Plasma Materials Science Hall of Fame Prize

    2023年3月  

  • ICRP Most Cited Paper Award

    2022年10月  

  • 第12回 シリコンテクノロジー分科会論文賞

    2021年3月   応用物理学会シリコンテクノロジー分科会   Real-time monitoring of surface passivationof crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer

  • MRS-J貢献賞

    2019年11月   日本MRS   日本MRSに多大な貢献した人を顕彰.

  • TOP DOWNLOADED ARTICLE 2017-2018

    2019年6月   Plasma Processes and Polymers  

  • 応用物理学会支部貢献賞

    2018年12月   応用物理学会九州支部   応用物理学会九州支部への顕著な貢献

  • 大阪大学接合科学共同利用・共同研究賞

    2017年6月   大阪大学接合科学研究所   KI-デンプン試薬を用いた大気圧非平衡プラズマジェット照射による酸化反応の可視化研究(世界初)を共同研究で実施した.

  • 第14回プラズマエレクトロニクス賞

    2016年3月   応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会   "Synthesis and characterization of ZnInON semiconductor: a ZnO-based compound with tunable band gap" N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

  • 第17回プラズマ材料科学賞基礎部門賞

    2015年12月   日本学術振興会プラズマ材料科学第153委員会   新学術領域研究「プラズマとナノ界面の相 互作用に関する学術基盤の創成」を始めとするプラズマ材料科学に関する基礎研究の推進

  • ICMAP2014 Best Poster Presentation Award

    2014年7月   International Conference of Microelectronics ans Plasma Technology 2014 (ICMAP2014)  

  • 第7回(2013年度)応用物理学会フェロー表彰

    2013年9月   応用物理学会   プロセスプラズマの制御による新機能ナノ材料の合成に関する研究

  • The 9th Asian-European International Conference of Plasma Surface Engineering(AEPSE2013)/ Outstanding Poster Award

    2013年8月   "Time evolution of spatial profile of nanoparticle amount in reactive plasmas" Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

  • 平成24年度九州大学研究活動表彰

    2012年11月   九州大学   研究活動に対する表彰

  • Advanced Plasma Application Award

    2012年10月   11th Asia Pacific Conference on Plasma Science adn Technology (APCPST) & 25th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM)  

  • ISPlasma2012 "Best Presentation Award"

    2012年3月   ISPlasma2012  

  • 平成23年度高温学会論文賞

    2011年3月   社団法人高温学会   フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ−ソフトマテリアル相互作用の解析 趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝

  • 平成22年九州大学研究活動表彰

    2010年5月   九州大学   研究活動に対する表彰

  • 応用物理学会第8回APEX/JJAP編集貢献賞

    2010年4月   応用物理学会   APEX/JJAP編集への貢献により受賞

  • 平成21年九州大学産学連携活動表彰

    2009年5月   九州大学   産学連携活動に対する表彰

  • Invited Presentation Award at Interfinish 2008

    2008年6月   Interfinish 2008 World Congress and Exposition   In recognition of your distinguished invited presentation entitled "Deposition profile control of plasma CVD films on nano-patterned substrates", the Intefinish 2008 Committee presents you with this Invited Presentation Award.

  • 応用物理学会第3回プラズマエレクトロニクス賞

    2005年3月   応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会   高光安定性を示すアモルファスシリコンの作製に成功した.

  • 応用物理学会第2回プラズマエレクトロニクス賞

    2004年3月   応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会  

  • 日本学術振興会第1回プラズマ材料科学賞

    1998年1月   日本学術振興会  

  • 平成7年度電気学会論文発表賞A

    1996年3月   電気学会  

  • 平成3年度電気学会論文発表賞B

    1992年4月   電気学会  

  • 九州大学工学部電気工学教室宮崎賞

    1983年3月   九州大学  

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論文

  • Growth control of <i>Marchantia polymorpha</i> gemmae using nonthermal plasma irradiation 査読 国際誌

    Tsuboyama, S; Okumura, T; Attri, P; Koga, K; Shiratani, M; Kuchitsu, K

    SCIENTIFIC REPORTS   14 ( 1 )   3172   2024年2月   ISSN:2045-2322 eISSN:2045-2322

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Scientific Reports  

    Several studies have documented that treatment by cold atmospheric pressure plasma (CAPP) on plants foster seed germination and growth in recent years. However, the molecular processes that underlie the action of CAPP on the seeds and plants remain mostly enigmatic. We here introduce gemmae of Marchantia polymorpha, a basal liverwort, as a novel model plant material suitable for CAPP research. Treating the gemmae with CAPP for a constant time interval at low power resulted in consistent growth enhancement, while growth inhibition at higher power in a dose-dependent manner. These results distinctly demonstrate that CAPP irradiation can positively and negatively regulate plant growth depending on the plasma intensity of irradiation, offering a suitable experimental system for understanding the molecular mechanisms underlying the action of CAPP in plants.

    DOI: 10.1038/s41598-024-53104-1

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    その他リンク: https://www.nature.com/articles/s41598-024-53104-1

  • Improving the efficiency of CO2 methanation using a combination of plasma and molecular sieves 査読 国際誌

    Toko, S; Okumura, T; Kamataki, K; Takenaka, K; Koga, K; Shiratani, M; Setsuhara, Y

    RESULTS IN SURFACES AND INTERFACES   14   100204 - 100204   2024年2月   ISSN:2666-8459 eISSN:2666-8459

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Results in Surfaces and Interfaces  

    In recent years, the chemical reactions with plasma catalysis have been attracted attention. The interaction between plasma ant catalyst can wide the process window, realizing the low pressure and low temperature processes with various catalysts. However, the wide process range make it difficult to optimization for social implement. The key lies in elucidating the reaction mechanism, predicting reactions through numerical simulations, and deriving optimal conditions. On the other hand, recent research has suggested that the use of molecular sieves (MS) can improve methanation efficiency. This can be combined with catalysts, offering new potential applications of MS in chemical reactions. Here, we investigated the more efficient combination of plasma and MS and their reaction mechanisms. As a result, it was found that: 1. The use of MS reduces the oxidation source in the gas phase, leading to an increase in methanation efficiency by suppressing reverse reactions. 2. The adsorption effect of MS, which suppress the reverse reaction, increases with higher pressure. 3. MS in plasma decrease the energy in plasma decrease the energy within the plasma, reducing the CO2 decomposition rate due to electron impact.

    DOI: 10.1016/j.rsurfi.2024.100204

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  • On-axis sputtering fabrication of Tm3Fe5O12 film with perpendicular magnetic anisotropy 査読 国際誌

    Agusutrisno, MN; Marrows, CH; Kamataki, K; Okumura, T; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

    THIN SOLID FILMS   788 ( 15 )   140176 - 140176   2024年1月   ISSN:0040-6090 eISSN:1879-2731

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Thin Solid Films  

    Thulium iron garnet, Tm3Fe5O12 with perpendicular magnetic anisotropy is fabricated using an on-axis sputtering technique followed by annealing, whereas previous reports have used unusual off-axis geometries. Stoichiometric Tm3Fe5O12 is obtained after the modification of the deposition conditions involving the position of the substrate relative to the cathode, which affects both the chemical and structural properties. The effective perpendicular magnetic anisotropy of 8.6 kJ/m3 is well in line with the results of previous studies using pulse laser deposition and off-axis sputtering. A maze domain pattern is observed, and the domain-wall energy is evaluated as 0.69 mJ/m2.

    DOI: 10.1016/j.tsf.2023.140176

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  • Ion Trajectory Control in Processing Plasmas for Nano-Fabrication 査読 国際誌

    H. Otomo, I. Nagao, K. Kamataki, M. Shiratani

    Key eng. mater   967   2023年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/p-6v9abP

  • Prediction by a hybrid machine learning model for high-mobility amorphous In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>: Sn films fabricated by RF plasma sputtering deposition using a nitrogen-mediated amorphization method 査読 国際誌

    Kamataki, K; Ohtomo, H; Itagaki, N; Lesly, CF; Yamashita, D; Okumura, T; Yamashita, N; Koga, K; Shiratani, M

    JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   134 ( 16 )   2023年10月   ISSN:0021-8979 eISSN:1089-7550

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Journal of Applied Physics  

    In this study, we developed a hybrid machine learning technique by combining appropriate classification and regression models to address challenges in producing high-mobility amorphous In2O3:Sn (a-ITO) films, which were fabricated by radio-frequency magnetron sputtering with a nitrogen-mediated amorphization method. To overcome this challenge, this hybrid model that was consisted of a support vector machine as a classification model and a gradient boosting regression tree as a regression model predicted the boundary conditions of crystallinity and experimental conditions with high mobility for a-ITO films. Based on this model, we were able to identify the boundary conditions between amorphous and crystalline crystallinity and thin film deposition conditions that resulted in a-ITO films with 27% higher mobility near the boundary than previous research results. Thus, this prediction model identified key parameters and optimal sputtering conditions necessary for producing high-mobility a-ITO films. The identification of such boundary conditions through machine learning is crucial in the exploration of thin film properties and enables the development of high-throughput experimental designs.

    DOI: 10.1063/5.0160228

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  • Influence of humidity on the plasma-assisted CO<sub>2</sub> conversion 査読 国際誌

    Attri, P; Okumura, T; Takeuchi, N; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M

    PLASMA PROCESSES AND POLYMERS   21 ( 1 )   2023年10月   ISSN:1612-8850 eISSN:1612-8869

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Plasma Processes and Polymers  

    The current research focuses on carbon dioxide (CO2) conversion at ambient conditions using streamer plasma. In this study, treatment time and humidity have been found to influence CO2 conversion. Our findings reveal a maximum CO2 conversion rate of 35.2%, achieved with a remarkably high energy efficiency of CO2 conversion at 135% and a low energy cost of 2.17 eV/molecule. We employed optical emission and fourier-transform infrared spectroscopy spectroscopy to analyze the different dissociation products of CO2 and determine the percentage of CO2 conversion. Furthermore, we utilized a two-dimensional (2D) fluid dynamics model and a zero-dimensional (0D) chemistry model to gain insights into the reactor mechanism.

    DOI: 10.1002/ppap.202300141

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  • Evaluation of Interaction Between Substrate and Nanoparticles Deposited by Plasma Chemical Vapor Deposition 査読

    K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2023年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Health assessment of rice cultivated and harvested from plasma-irradiated seeds 査読 国際誌

    Okumura, T; Tanaka, H; Nakao, T; Anan, T; Arita, R; Shiraki, M; Shiraki, K; Miyabe, T; Yamashita, D; Matsuo, K; Attri, P; Kamataki, K; Yamashita, N; Itagaki, N; Shiratani, M; Hosoda, S; Tanaka, A; Ishibashi, Y; Koga, K

    SCIENTIFIC REPORTS   13 ( 1 )   17450   2023年10月   ISSN:2045-2322 eISSN:2045-2322

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Scientific Reports  

    This study provides the health effects assessment of rice cultivated from plasma-irradiated seeds. The rice (Oryza sativa L.) cultivated from seeds with plasma irradiation showed a growth improvement (slope-ratios of with plasma to without plasma were 1.066, 1.042, and 1.255 for tiller, and earing, and ripening periods, respectively) and an 4% increase in yield. The cultivated rice was used for repeated oral administrations to mice for 4-week period. Distilled water and rice cultivated from seeds without plasma irradiation were also used as control. The weights of the lung, kidney, liver, and spleen, with corresponding average values of 0.22 g, 0.72 g, 2.1 g, and 0.17 g for w/ plasma group and 0.22 g, 0.68 g, 2.16 g, and 0.14 g for w/o plasma group, respectively, showing no effect due to the administration of rice cultivated from plasma-irradiated seeds. Nutritional status, liver function, kidney function, and lipid, neutral fat profiles, and glucose metabolism have no significant difference between with and without plasma groups. These results show no obvious subacute effects were observed on rice grains cultivated and harvested from the mother plant that experienced growth improvement by plasma irradiation. This study provides a new finding that there is no apparent adverse health effect on the grains harvested from the plasma-irradiated seeds.

    DOI: 10.1038/s41598-023-43897-y

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  • Influence of electric potential-induced by atmospheric pressure plasma on cell response 査読 国際誌

    Okumura, T; Chang, CH; Koga, K; Shiratani, M; Sato, T

    SCIENTIFIC REPORTS   13 ( 1 )   15960   2023年9月   ISSN:2045-2322 eISSN:2045-2322

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Scientific Reports  

    Plasma irradiation leads not only active species, but also reactive chemical species, ultraviolet light, electric fields, magnetic fields, and shock waves. To date the effects of reactive chemical species have been mainly discussed. To understand the biological effect caused by an electric potential induced with an atmospheric-pressure plasma, the behavior of cell stimulated by electric potential was investigated using HeLa cell. The cell concentration assay revealed that less than 20% of cells inactivated by potential stimulation and the remained cells proliferate afterward. Fluorescent microscopic observation revealed that potential stimulation is appreciable to transport the molecules through membrane. These results show that potential stimulation induces intracellular and extracellular molecular transport, while the stimulation has a low lethal effect. A possible mechanism for this molecular transport by potential stimulation was also shown using numerical simulation based on an equivalent circuit of the experimental system including adhered HeLa cell. The potential formation caused by plasma generation is decisive in the contribution of plasma science to molecular biology and the elucidation of the mechanism underlying a biological response induction by plasma irradiation.

    DOI: 10.1038/s41598-023-42976-4

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    その他リンク: https://www.nature.com/articles/s41598-023-42976-4

  • Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    Kamataki, K; Sasaki, Y; Nagao, I; Yamashita, D; Okumura, T; Yamashita, N; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   164   2023年9月   ISSN:1369-8001 eISSN:1873-4081

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Materials Science in Semiconductor Processing  

    High-quality amorphous silicon nitride (SiNx) thin films were fabricated by the controlled growth of nanoparticles during SiH4+N2 multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition (CVD) at low substrate temperature 100 °C. Measurements from quartz crystal microbalances showed that a higher amount of nanoparticle incorporation in the SiNx film corresponded to a higher ratio of N/Si in the film, implying that the nanoparticles were nitrided in the plasma phase. We controlled the size of the nanoparticles by tuning the gas flow ratio of N2/SiH4 and the total gas flow rate. Transmission electron microscopy and energy-dispersive X-ray spectroscopy showed that smaller nanoparticles in the plasma led to a higher ratio of N/Si in the film and a lower hydrogen content. We attribute these results to the low heat capacity and large specific surface area of the nanoparticles, which enabled active chemical reactions on their surface in the plasma.

    DOI: 10.1016/j.mssp.2023.107613

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  • Reaction kinetics studies for phenol degradation under the impact of different gas bubbles and pH using gas–liquid discharge plasma 査読 国際誌

    El-Tayeb, A; Okumura, T; Attri, P; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SN )   2023年8月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    A gas-liquid discharge plasma (GLDP) reactor is used to degrade organic pollutants such as phenol. GLDP contains a 7-pin plate system used to enhance phenol degradation in the presence of various pH, and gas bubbles produced from air, O2, O3, CO2, and Ar gases. Experimental outcomes show the impact of solution pH, as phenol degradation efficiencies of 85%, 90%, 96%, and 98% were obtained for pH of 12, 9, 3, and 1, respectively, after 60 min of treatment. This shows that the optimum pH for phenol degradation lies between 1 and 3. Moreover, we explored the influence of gas bubbles generated using various gases, such as air, O2, O3, CO2, and Ar, on phenol degradation. In the presence of O3 gas bubbles, the rate and degree of phenol degradation were significantly increased compared to gas bubbles produced from other gases (O2, CO2, Ar, and air). The degradation competence of phenol by added oxygen remained higher than argon. The performance of the GLDP system at various pH values and gas bubbles was evaluated using kinetic models. Pseudo-zero, first and second reaction kinetics models were used to examine the degradation of phenol. The rate of degradation at different pH and in the presence of gas bubbles follows pseudo-zero-order kinetics. Our GLDP reactor consumed energy of 127.5 J l-1 for phenol degradation under the influence of air bubbles and pH 5. The outcome of this research can help in the design of new reactors for industrial wastewater treatment.

    DOI: 10.35848/1347-4065/acebfb

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  • Control of inhomogeneity and magnetic properties of ZnO:Co films grown by magnetron sputtering using nitrogen 査読 国際誌

    Agusutrisno, MN; Narishige, R; Kamataki, K; Okumura, T; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

    MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING   162   2023年8月   ISSN:1369-8001 eISSN:1873-4081

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Materials Science in Semiconductor Processing  

    We experimentally report the control of structural inhomogeneity and magnetic properties of Co-doped ZnO films using nitrogen mediated-crystallization. The ZnO:CoN were grown on a silicon substrate at room temperature by RF-magnetron sputtering using nitrogen and followed by a post-annealing treatment for 3 hours at 400 °C, 600 °C, 800 °C and 1000 °C in the air. This method induces changes in inhomogeneity properties comprised by microstructure and stoichiometry of each film, which are confirmed by X-ray diffraction, thermal desorption, and X-ray fluorescence measurements. The difference in inhomogeneity has led to the transformation in the magnetic properties. Films annealed at 400 °C, which showed the highest inhomogeneity, exhibited superparamagnetic-ferromagnetic properties. In contrast, all the other films exhibited diamagnetic properties. Increasing the post-annealing temperature above 400 °C reduces inhomogeneities indicated by improved grain size, decreased impurities, and lattice parameters and stoichiometry of ZnO:CoN films approached those of pure ZnO. Our present results will contribute to control the inhomogeneity of ZnO:Co films to improve magnetic properties at room temperature.

    DOI: 10.1016/j.mssp.2023.107503

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  • Silicon surface passivation with a-Si:H by PECVD: growth temperature effects on defects and band offset 査読 国際誌

    Nunomura, S; Sakata, I; Misawa, T; Kawai, S; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SL )   2023年8月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    The surface passivation of crystalline silicon (c-Si) is studied during growth of hydrogenated amorphous silicon (a-Si:H) by means of plasma-enhanced CVD. The surface passivation is characterized by an in situ method of the photocurrent measurement of c-Si during the growth of an a-Si:H passivation layer at various growth temperatures. The passivation is also characterized by an ex situ method of the carrier lifetime measurement performed at RT in air. According to both the in situ and ex situ characterization results, the surface passivation is optimized around a growth temperate of 200 °C, where the defect reduction and the band offset formation at the a-Si:H/c-Si interface play important roles.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ace118

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  • Improving the efficiency of Sabatier reaction through H<sub>2</sub>O removal with low-pressure plasma catalysis 査読 国際誌

    Hasegawa, T; Toko, S; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SL )   SL1028 - SL1028   2023年8月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    This study aimed to realize in situ resource utilization in deep-space missions. The Sabatier reaction is used to generate CH4 from CO2, which accounts for 95% of the Martian atmosphere, and H2 from H2O on Mars. In general, thermal catalysis at temperatures above 250 °C drives the process. This high-temperature process, however, causes catalyst deactivation due to overheating. Plasma catalysis drives low-temperature reactions by excitation and decomposition of source gases via electron impact. We investigated the effect of removing H2O from gas phase in the reaction with Cu and Ni catalysts using molecular sieves in this study. The reverse reaction can be aided by OH radicals derived from H2O. Therefore, CO2 conversion increased from 49.4% to 69.1% for Cu catalysts with molecular sieves, and CH4 selectivity increased from 3.49% to 6.33%. These findings imply that removing H2O can suppress the reverse reactions.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ace831

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    その他リンク: https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ace831/pdf

  • Highly selective Si<sub>3</sub>N<sub>4</sub> etching on Si using pulsed-microwave CH<sub>3</sub>F/O<sub>2</sub>/Ar plasma 査読 国際誌

    Morimoto, M; Matsui, M; Ikeda, N; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SN )   2023年7月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    Highly selective Si3N4 etching on Si was achieved in a CH3F/O2/Ar plasma using pulsed-microwave plasma and time-modulation bias. The Si3N4/Si selectivity reached infinity at a peak-to-peak voltage (V pp) of 240 V. The effect of pulsed-microwave on CH3F gas dissociation for highly selective Si3N4 etching was investigated by deposited film analysis, optical emission spectroscopy, and ion current flux measurements. As the duty cycle of the pulsed-microwave was decreased, the plasma density during the pulse on period decreased and the CH/H ratio increased. The pulsed-microwave plasma produced low-dissociation radicals by providing a low plasma density. The low-dissociation radicals in the CH3F plasma formed a fluorine (F)-rich hydrofluorocarbon (HFC) layer on the Si3N4 wafer surface. The F-rich HFC layer promotes Si3N4 etching even at low ion energy, where Si etching does not proceed, and enables highly selective Si3N4 etching on Si.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ace0ca

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  • Contribution of active species generated in plasma to CO<sub>2</sub> methanation 査読 国際誌

    Toko, S; Hasegawa, T; Okumura, T; Kamataki, K; Takenaka, K; Koga, K; Shiratani, M; Setsuhara, Y

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SL )   2023年7月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    CO2 methanation is an effective technology for CO2 reduction. Generally, methanation reactions are accelerated using thermal catalysts. However, the temperature control is difficult because CO2 methanation is an exothermic reaction, and the catalyst is deactivated by overheating. Plasma catalysis can solve this problem by driving this reaction at lower temperatures. Therefore, in this study, we investigated the contribution of the active species generated in the plasma to CO2 methanation. We found that the density of active species is linearly related to the power density, and in particular, the CH4 generation rate is determined by the CO-derived active species, not the H-derived active species. Furthermore, with an increase in the catalyst temperature, a new reaction pathway for CH4 production is added. The results of this study contribute to the understanding of the relationship between the active species produced in plasma and CO2 methanation.

    DOI: 10.35848/1347-4065/acdad9

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  • Plasma-assisted CO<sub>2</sub> and N<sub>2</sub> conversion to plant nutrient 査読 国際誌

    Attri, P; Okumura, T; Takeuchi, N; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M

    FRONTIERS IN PHYSICS   11   2023年7月   ISSN:2296-424X eISSN:2296-424X

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Frontiers in Physics  

    Colossal research on CO2 and N2 conversion using non-thermal plasma (NTP) technology has been ongoing since many years. The primary focus is on CO and NH3 production through CO2 and N2 conversion, respectively, with high conversion efficiency and low energy consumption with or without catalysts. Although in the present study, we propose that the NTP can assist in converting CO2 and N2 to plant nutrients in the form of plasma-treated/activated water. We used a homemade streamer plasma device and produced plasma-activated water (PAW) using CO2 and N2 feed gas, CO2-activated water (CAW) and N2-activated water (NAW). Later, we used CAW and NAW to treat the radish seeds and evaluate the germination rate, germination percentage, and seeding growth. To understand the chemical changes in PAW after the NTP treatment, we performed a chemical analysis to detect NO2¯, NO3¯, NH4+, and H2O2 along with the PAW pH and temperature shift. Additionally, to understand the other species produced in the gas phase, we simulated chemical reactions using COMSOL Multiphysics® software. Our results show that NOx and NHx species are less produced in CAW than in NAW, but CO2-generated PAW offers a significantly more substantial effect on enhancing the germination rate and seeding growth than NAW. Therefore, we suggested that CO and H2O2 formed during CAW production trigger early germination and growth enhancement. Furthermore, the total plasma reactor energy consumption, NO3¯ and NH4+ selective production percentage, and N2 conversion percentage were calculated. To our best knowledge, this is the first study that uses plasma-assisted CO2 conversion as a nutrient for plant growth.

    DOI: 10.3389/fphy.2023.1211166

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  • Unraveling the Transport Properties of RONS across Nitro-Oxidized Membranes 査読 国際誌

    Abduvokhidov, D; Yusupov, M; Shahzad, A; Attri, P; Shiratani, M; Oliveira, MC; Razzokov, J

    BIOMOLECULES   13 ( 7 )   2023年6月   eISSN:2218-273X

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Biomolecules  

    The potential of cold atmospheric plasma (CAP) in biomedical applications has received significant interest, due to its ability to generate reactive oxygen and nitrogen species (RONS). Upon exposure to living cells, CAP triggers alterations in various cellular components, such as the cell membrane. However, the permeation of RONS across nitrated and oxidized membranes remains understudied. To address this gap, we conducted molecular dynamics simulations, to investigate the permeation capabilities of RONS across modified cell membranes. This computational study investigated the translocation processes of less hydrophilic and hydrophilic RONS across the phospholipid bilayer (PLB), with various degrees of oxidation and nitration, and elucidated the impact of RONS on PLB permeability. The simulation results showed that less hydrophilic species, i.e., NO, NO2, N2O4, and O3, have a higher penetration ability through nitro-oxidized PLB compared to hydrophilic RONS, i.e., HNO3, s-cis-HONO, s-trans-HONO, H2O2, HO2, and OH. In particular, nitro-oxidation of PLB, induced by, e.g., cold atmospheric plasma, has minimal impact on the penetration of free energy barriers of less hydrophilic species, while it lowers these barriers for hydrophilic RONS, thereby enhancing their translocation across nitro-oxidized PLB. This research contributes to a better understanding of the translocation abilities of RONS in the field of plasma biomedical applications and highlights the need for further analysis of their role in intracellular signaling pathways.

    DOI: 10.3390/biom13071043

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  • Instant switching control between two types of plasma-driven liquid flows 査読 国際誌

    Kawasaki, T; Shen, KC; Shi, HP; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( 6 )   060904-1 - 060904-4   2023年6月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    Plasma-driven liquid flows that are generated in bulk liquid by plasma irradiation are one of the key factors in understanding the interaction between plasma and liquid. In this work, the direction of the plasma-driven liquid flow was successfully switched and controlled only by changing the frequency of argon plasma jet generation. The liquid flow could switch in the opposite direction within 3 s after the frequency change. Changes in the emission spectra with frequency have an important effect on the liquid flows, with results from current waveforms indicating that the frequency also changes the characteristics of the plasma jet.

    DOI: 10.35848/1347-4065/acde29

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  • Effect of time-modulation bias on polysilicon gate etching 査読 国際誌

    Morimoto, M; Tanaka, M; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SI )   2023年5月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    The etching characteristics were studied via time-modulation bias (bias pulsing) by varying the pulsing parameters. The etch profiles were verified using polysilicon gate structures with dense and isolated patterns. Ion energy was defined as the peak-to-peak voltage (V pp) controlled by the RF bias power. The durations of the on period and off period (off time) of bias pulsing were adjusted by the pulse frequency and duty cycle. Profile evolution was observed in the variations in V pp and off time. Increasing the ion energy induced vertical profiles of dense patterns and the tapered profiles of isolated patterns. Extending the off time of bias pulsing induced tapered profiles of dense patterns and vertical profiles of isolated patterns. These results indicated that increasing the ion energy and pulse off time simultaneously was the direction to achieve anisotropic etch profiles for both the isolated and dense patterns.

    DOI: 10.35848/1347-4065/acc7ab

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  • Optical emission spectroscopy study in CO<sub>2</sub> methanation with plasma 査読 国際誌

    Toko, S; Hasegawa, T; Okumura, T; Kamataki, K; Takenaka, K; Koga, K; Shiratani, M; Setsuhara, Y

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   62 ( SI )   2023年4月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    Methanation of CO2 is a key technology to realize a sustainable society. The reactions should be driven at a lower temperatures from the viewpoint of catalyst stability. Methanation with plasma catalysis can drive reactions at lower temperature than thermal catalysis. However, the reaction mechanism is little understood due to the complexity of the interactions. In this study, we investigated the power and pressure dependence of the methanation efficiency when only plasma is used as a fundamental research. We discuss how these parameters change the vibrational temperature and active species density and affect the methanation efficiency using optical emission spectroscopy.

    DOI: 10.35848/1347-4065/acc66a

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  • Cold Plasma-Induced Changes in <i>Stevia rebaudiana</i> Morphometric and Biochemical Parameter Correlations 査読 国際誌

    A. Judickaitė, J. Venckus, K. Koga, M. Shiratani, V. Mildažienė, R. Žūkienė

    PLANTS-BASEL   12 ( 8 )   2023年4月   ISSN:2223-7747

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Plants  

    Stevia rebaudiana Bertoni is an economically important source of natural low-calorie sweeteners, steviol glycosides (SGs), with stevioside (Stev) and rebaudioside A (RebA) being the most abundant. Pre-sowing seed treatment with cold plasma (CP) was shown to stimulate SGs biosynthesis/accumulation up to several fold. This study aimed to evaluate the possibility to predict CP-induced biochemical changes in plants from morphometric parameters. Principle component analysis (PCA) was applied to two different sets of data: morphometric parameters versus SGs concentrations and ratio, and morphometric parameters versus other secondary metabolites (total phenolic content (TPC), total flavonoid content (TFC)) and antioxidant activity (AA). Seeds were treated for 2, 5 and 7 min with CP (CP2, CP5 and CP7 groups) before sowing. CP treatment stimulated SGs production. CP5 induced the highest increase of RebA, Stev and RebA+Stev concentrations (2.5-, 1.6-, and 1.8-fold, respectively). CP did not affect TPC, TFC or AA and had a duration-dependent tendency to decrease leaf dry mass and plant height. The correlation analysis of individual plant traits revealed that at least one morphometric parameter negatively correlates with Stev orRebA+Stev concentration after CP treatment.

    DOI: 10.3390/plants12081585

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  • Effects of plasma-activated Ringer’s lactate solution on cancer cells: evaluation of genotoxicity 査読 国際誌

    Liu, Y; Nakatsu, Y; Tanaka, H; Koga, K; Ishikawa, K; Shiratani, M; Hori, M

    GENES AND ENVIRONMENT   45 ( 1 )   3   2023年1月   ISSN:1880-7046 eISSN:1880-7062

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Genes and Environment  

    Background: Non-thermal atmospheric pressure plasma technologies form the core of many scientific advances, including in the electronic, industrial, and biotechnological fields. The use of plasma as a cancer therapy has recently attracted significant attention due to its cancer cell killing activity. Plasma-activated Ringer’s lactate solution (PAL) exhibits such activity. In addition to ROS, PAL contains active compounds or species that cause cancer cell death, but the potential mutagenic risks of PAL have not been studied. Results: PAL has a low pH value and a high concentration of H2O2. H2O2 was removed from PAL using catalase and catalase-treated PAL with a pH of 5.9 retained a killing effect on HeLa cells whereas this effect was not observed if the PAL was adjusted to pH 7.2. Catalase-treated PAL at pH 5.9 had no significant effect on mutation frequency, the expression of γH2AX, or G2 arrest in HeLa cells. Conclusion: PAL contains one or more active compounds or species in addition to H2O2 that have a killing effect on HeLa cells. The compound(s) is active at lower pH conditions and apparently exhibits no genotoxicity. This study suggested that identification of the active compound(s) in PAL could lead to the development of novel anticancer drugs for future cancer therapy.

    DOI: 10.1186/s41021-023-00260-x

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  • Role of insoluble atoms in the formation of a three-dimensional buffer layer in inverted Stranski–Krastanov mode 査読 国際誌

    Yamashita, N; Mitsuishi, R; Nakamura, Y; Takeda, K; Hori, M; Kamataki, K; Okumura, T; Koga, K; Shiratani, M

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH   38 ( 5 )   1178 - 1185   2023年1月   ISSN:0884-2914 eISSN:2044-5326

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Journal of Materials Research  

    The inverted Stranski–Krastanov (SK) mode is useful for heteroepitaxial growth of single-crystalline ZnO films on 18% lattice-mismatched sapphire substrates. We studied the role of nitrogen atoms during fabrication of a three-dimensional island-shaped buffer layer. We found an unprecedented maximum in the substrate temperature dependence of the density of the crystal grains, which facilitated the growth of flat ZnO layers. To reveal the mechanism of the aforementioned maximum, we measured the absolute N atom density in Ar/N2 sputtering plasma [N]plasma by vacuum-ultraviolet absorption spectroscopy. At [N]plasma = 2.2 × 1010 cm−3, we fabricated a ZnO film with a pit-free surface, attributable to the large surface reaction probability and small incorporation ratio of N atoms into the ZnO films. To describe these results, we applied an Ising model. The analytical calculations provide insights for inverted SK mode and clearly reveal the critical effects of the flux densities. Graphical abstract: [Figure not available: see fulltext.]

    DOI: 10.1557/s43578-022-00886-7

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1557/s43578-022-00886-7/fulltext.html

  • Editorial: Prospects of plasma generated species interaction with organic and inorganic materials 査読 国際誌

    Attri, P; Koga, K; Kurita, H; Ishikawa, K; Shiratani, M

    FRONTIERS IN PHYSICS   10   2023年1月   ISSN:2296-424X eISSN:2296-424X

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Frontiers in Physics  

    DOI: 10.3389/fphy.2022.1118018

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  • Near-infrared light harvesting of upconverting Y2O3:Er3+nanoparticles and their photovoltaic application 査読 国際誌

    Sakamoto, D; Shiratani, M; Seo, H

    ELECTROCHIMICA ACTA   436   2022年12月   ISSN:0013-4686 eISSN:1873-3859

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Electrochimica Acta  

    Light harvesting plays a significant role in the enhancement on photovoltaic performance. It is closely associated with the photocurrent of solar cells. It is possible to improve light harvesting by material substitution as well as expansion of absorptive edge. Therefore, upconversion characteristics is one of promising solutions for better light harvesting. Upconverting materials emit visible light which is available for photoconversion after they absorb invisible near-infrared (NIR) light. In this study, Er3+ doped Y2O3 (Y2O3:Er3+) nanoparticles were used as upconverting material. Its strong emissions of green and red light corresponding to 2H11/2 and 4S3/2 → 4I15/2 and 4F9/2 → 4I15/2 transitions were clearly demonstrated under NIR irradiation of 975 nm wavelength. These emissions were apparently absorbed by dye-sensitized electrode. Based on these results, Y2O3:Er3+ nanoparticles were introduced into dye-sensitized solar cells (DSCs). After incorporating Y2O3:Er3+ nanoparticles, photovoltage was increased due to its high band-gap energy of about 5 eV. On the other hand, the photocurrent was decreased because of the decrease in adsorbed dye amount and electron paths. However, the photoconversion edge was obviously expanded. As a result, DSC performance was enhanced with optimum upconverting particles. It exhibited an efficiency of 8.03%, which was higher than that of a conventional DSC.

    DOI: 10.1016/j.electacta.2022.141407

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  • One-dimensional particle-in-cell/Monte Carlo collision simulation for investigation of amplitude modulation effects in RF capacitive discharges 査読 国際誌

    Nagao, I; Kamataki, K; Yamamoto, A; Otaka, M; Yamamoto, Y; Yamashita, D; Yamashita, N; Okumura, T; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M

    MRS ADVANCES   7 ( 31 )   911 - 917   2022年12月   ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:MRS Advances  

    We have investigated the effects of amplitude modulation (AM) discharges especially in differences of AM frequency on plasma parameters such as electric field, electron density, electron temperature, ion energy distribution function (IEDF), and ion angular distribution function (IADF) of capacitively coupled AM discharge Ar plasma using a Particle-in-cell/Monte Carlo collision (PIC-MCC) model. The electron density and the kinetic energy of ions incident on the grounded electrode oscillate periodically with the AM frequency. The oscillation amplitude of the electron density in the central plasma region between the electrodes decreases with increasing the AM frequency above 5 kHz. On the other hand, the peak energy of IEDF decreases with increasing the AM frequency above 500 kHz. Thus, the AM frequency is a good tuning knob to control such plasma parameters.

    DOI: 10.1557/s43580-022-00417-w

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1557/s43580-022-00417-w/fulltext.html

  • Guest Editorial: Emerging Plasma Nanotechnologies 査読 国際誌

    Shiratani, M; Verboncoeur, JP; Wu, JS

    IEEE OPEN JOURNAL OF NANOTECHNOLOGY   3   131 - 132   2022年12月   eISSN:2644-1292

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:IEEE Open Journal of Nanotechnology  

    DOI: 10.1109/OJNANO.2022.3224346

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  • Effects of substrate surface polarity on heteroepitaxial growth of pseudobinary ZnO–InN alloy films on ZnO substrates(Invited) 査読 国際誌

    Narishige, R; Yamashita, N; Kamataki, K; Okumura, T; Koga, K; Shiratani, M; Yabuta, H; Itagaki, N

    JOURNAL OF MATERIALS RESEARCH   38 ( 7 )   1803 - 1812   2022年11月   ISSN:0884-2914 eISSN:2044-5326

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Journal of Materials Research  

    (ZnO)X(InN)1-X films have been epitaxially grown on 0.9%-lattice-mismatched ZnO substrates at 450 °C by sputtering. Films fabricated on O-polar substrates exhibit higher crystal quality and smoother surface. The full width at half-maximum of (0002) rocking curve and the root-mean-square roughness (Rq) of a 30-nm-thick film on O-polar surface are 0.21° and 2.71 nm, respectively, whereas those on Zn-polar one are 0.32° and 4.30 nm, respectively. Rq on O-polar surface further decreases to 0.73 nm as the thickness decreases to 10 nm, where we successfully obtained atomically flat single-crystalline films having atomically sharp interface with the substrates. High-resolution transmission electron microscopy revealed the Stranski–Krastanov (layer plus island) growth for O-polar case and just 3D islanding mode growth for Zn-polar one. All the results indicate the much longer migration length of adatoms on O-polar surface during the film growth, enabling adatoms to reach their thermodynamically favored positions even at low substrate temperature. Graphical abstract: [Figure not available: see fulltext.]

    DOI: 10.1557/s43578-022-00827-4

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1557/s43578-022-00827-4/fulltext.html

  • Plasma irradiation-introduced RONS amount into plant seeds and their response analysis 査読

    T. Okumura, T. Anan, P. Attri, Y. Tsukada, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Ishibashi

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Role of short-lived nitrogen species generated at low-pressure RF plasma on the germination and seedling growth 査読

    K. Koga, P. Attri, T. Okumura, T. Anan, T. Nakao, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Measurements of strength and fluctuation of 2D electric fields in plasmas using a fine particle trapped with laser tweezers 査読

    K. Kamataki, T. Sato, K. Tomita, P. Yimin, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Relationship between vibrational temperature and CO2 methanation with plasma catalysis 査読

    S. Toko, T. Hasegawa, T. Okumura, K. Kamataki, K. Takenaka, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Effects of amplitude modulation discharge on behavior of oxygen ions in Ar/O2 capacitively coupled plasma studied by particle-in-cell/Monte Carlo collision model 査読

    I. Nagao, A. Yamamoto, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Control of magnetic transition of ZnO:Co grown by RF-sputter using post-Annealing 査読 国際誌

    Nurut A.M., Yamashita N., Kamataki K., Koga K., Itagaki N., Shiratani M.

    2022 International Conference on Informatics Electrical and Electronics, ICIEE 2022 - Proceedings   2022年10月   ISBN:9781665486224

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)   出版者・発行元:2022 International Conference on Informatics Electrical and Electronics, ICIEE 2022 - Proceedings  

    Ferromagnetic semiconductor has attracted much attention for the application of spintronic devices, which will bring next generation of the information technology. Cobalt-doped Zinc Oxides (ZnO: Co) is strong candidate of this material group. The ZnO: Co films were grown on a silicon substrate (100) at room temperature by radio-frequency (rf) sputtering deposition and followed by post-Annealing treatment for 3 hours at 400°C and 800°C in the air. The transition from paramagnetic to ferromagnetic occurs after annealing at 400°C, and the properties return to paramagnetic like as-deposition when the temperature rises to 800°C. The XRD measurement of ZnO: Co films exhibited a wurtzite structure in the (002) plane and was free from secondary phases. Then, post-Annealing at 400°C due to shift peak and decrease oxygen element, meanwhile the crystallinity significantly up to 800°C.

    DOI: 10.1109/ICIEE55596.2022.10010108

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  • Pressure dependence on spatio-temporal distribution of excitation rates of Ar 2p1 and Ne 2p1 in Ar and Ar/Ne capacitively coupled plasmas 査読

    M. Otaka, T. Arima, J. Lai, K. Ikeda, K. Kamataki, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Reproducibility in plasma agriculture 査読

    M. Shiratani, T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, K. Koga

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Effect of plasma irradiation on germination of lettuce seeds with fluctuating dormancy 査読

    T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Plasma induced conversion of CO2 with water to useful compounds 査読

    P. Attri, T. Okumura, K. Koga, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Takeuchi

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Sputter epitaxy of Mg-doped ZnO films on sapphire substrates using inverted Stranski-Krastanov mode 査読

    M. Shiratani, D. Takahashi, N. Yamashita, N. Itagaki

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Process analysis of cracking aC: H/CNP/aC: H sandwich films under stress using nanoindentation 査読

    S. Ono, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Effects of amplitude modulated capacitively coupled discharge Ar plasma on kinetic energy and angular distribution function of ions impinging on electrodes: particle-in-cell/Monte Carlo collision model simulation 査読 国際誌

    Abe, K; Kamataki, K; Yamamoto, A; Nagao, I; Otaka, M; Yamashita, D; Okumura, T; Yamashita, N; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 ( 10 )   106003 - 106003   2022年9月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    We investigated the effects of amplitude modulated (AM) capacitively coupled Ar discharge plasma on the ion energy distribution function (IEDF) and the ion angular distribution function (IADF) incident on electrodes using the particle-in-cell/Monte Carlo collision model. For AM discharge, the electron density and electron temperature and the kinetic energy and angle of ions incident on the ground electrode change periodically with AM frequency, whereas ones for continuous wave discharge are almost constant. For AM discharge, the plasma had hysteresis characteristics. The peak energy of IEDF varies from 53 to 135 eV and the FWHM of IADF varies from 1.82 to 3.34 degrees for gas pressure 10mTorr, the peak-to-peak input voltage 400 V and AM level of 50%. The variation width of the peak energy of IEDF and FWHM of IADF increases with the AM level. These effects of AM method discharge are more noticeable at lower pressures. Thus, the AM discharge offers a way to control simultaneously IEDF and IADF, which opens a new avenue for plasma processes such as an ALD-like PECVD.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac7626

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    その他リンク: https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ac7626/pdf

  • Effects of amplitude modulated discharge on growth of nanoparticles in TEOS/O2/Ar capacitively coupled plasma 査読 国際誌

    K. Kamataki, D. Nagamatsu, T. Yang, K. Abe, A. Yamamoto, I. Nagao, T. Arima, M. Otaka, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    AIP Adv.   12   2022年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0097691

  • Effects of amplitude modulated discharge on growth of nanoparticles in TEOS/O2/Ar capacitively coupled plasma 査読 国際誌

    K. Kamataki, D. Nagamatsu, T. Yang, K. Abe, A. Yamamoto, I. Nagao, T. Arima, M. Otaka, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    AIP Adv   12 ( 8 )   2022年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0097691

  • Changes in Content of Bioactive Compounds and Antioxidant Activity Induced in Needles of Different Half-Sib Families of Norway Spruce (<i>Picea abies</i> (L.) H. Karst) by Seed Treatment with Cold Plasma 査読 国際誌

    V. Sirgedaitė-Šėžienė, I. Lučinskaitė, V. Mildažienė, A. Ivankov, K. Koga, M. Shiratani, K. Laužikė, V. Baliuckas

    ANTIOXIDANTS   11 ( 8 )   2022年8月   ISSN:2076-3921 eISSN:2076-3921

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Antioxidants  

    In order to ensure sufficient food resources for a constantly growing human population, new technologies (e.g., cold plasma technologies) are being developed for increasing the germination and seedling growth without negative effects on the environment. Pinaceae species are considered a natural source of antioxidant compounds and are valued for their pharmaceutical and nutraceutical properties. In this study, the seeds of seven different Norway spruce half-sib families were processed for one or two minutes with cold plasma (CP) using dielectric barrier discharge (DBD) plasma equipment. At the end of the second vegetation season, the total flavonoid content (TFC), DPPH (2,2- diphenyl-1-picryl-hydrazyl-hydrate), and ABTS (2,2’-azino-bis (3-ethylbenzothiazoline-6-sulfonic acid)) antioxidant activity, and the amounts of six organic acids (folic, malic, citric, oxalic, succinic, and ascorbic) were determined in the needles of different half-sib families of Norway spruce seedlings. The results show that the TFC, antioxidant activity, and amounts of organic acids in the seedling needles depended on both the treatment duration and the genetic family. The strongest positive effect on the TFC was determined in the seedlings of the 477, 599, and 541 half-sib families after seed treatment with CP for 1 min (CP1). The TFC in these families increased from 118.06 mg g−1 to 312.6 mg g−1 compared to the control. Moreover, seed treatment with CP1 resulted in the strongest increase in the antioxidant activity of the needles of the 541 half-sib family seedlings; the antioxidant activity, determined by DPPH and ABTS tests, increased by 30 and 23%, respectively, compared to the control. The obtained results indicate that the CP effect on the amount of organic acids in the needles was dependent on the half-sib family. It was determined that treatment with CP1 increased the amount of five organic acids in the needles of the 541 half-sib family seedlings. The presented results show future possibilities for using cold plasma seed treatment in the food and pharmacy industries.

    DOI: 10.3390/antiox11081558

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  • Detection of NO3− introduced in plasma-irradiated dry lettuce seeds using liquid chromatography-electrospray ionization quantum mass spectrometry (LC-ESI QMS) 査読 国際誌

    Okumura, T; Attri, P; Kamataki, K; Yamashita, N; Tsukada, Y; Itagaki, N; Shiratani, M; Ishibashi, Y; Kuchitsu, K; Koga, K

    SCIENTIFIC REPORTS   12 ( 1 )   12525   2022年7月   ISSN:2045-2322 eISSN:20452322

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Springer Science and Business Media LLC  

    <jats:title>Abstract</jats:title><jats:p>Discharge plasma irradiates seeds with reactive oxygen and nitrogen species (RONS). However, RONS introduced in seeds by plasma irradiation have not been successfully detected thus far. This study provides experimental evidence that nitrate ion NO<jats:sub>3</jats:sub><jats:sup>−</jats:sup> is introduced in lettuce seeds as RONS upon irradiation with atmospheric-pressure air dielectric barrier discharge plasma. Plasma irradiation for 5 min promotes seed germination. The components of the plasma-irradiated seeds were examined using electrospray ionization quantum mass spectrometry (ESI QMS), which revealed that the plasma irradiation introduced an ion with a mass of 62 m/z in detectable amounts. This ion was identified as NO<jats:sub>3</jats:sub><jats:sup>−</jats:sup> by liquid chromatography (LC), multiple wavelength detector (MWD), and LC-ESI QMS. A one-dimensional simulation at electron temperature T<jats:sub>e</jats:sub> = 1 eV, electron density N<jats:sub>e</jats:sub> = 10<jats:sup>13</jats:sup>/m<jats:sup>3</jats:sup>, and gas temperature T<jats:sub>g</jats:sub> = 300 K indicated the introduction of NO<jats:sub>3</jats:sub><jats:sup>−</jats:sup>, involving nitric oxide NO. NO<jats:sub>3</jats:sub><jats:sup>−</jats:sup> is one of the most important ions that trigger signal transduction for germination when introduced in seeds. The scanning electron microscopy (SEM) images revealed that there was no change on the surface of the seeds after plasma irradiation. Plasma irradiation is an effective method of introducing NO<jats:sub>3</jats:sub><jats:sup>−</jats:sup> in seeds in a dry process without causing damage.</jats:p>

    DOI: 10.1038/s41598-022-16641-1

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    その他リンク: https://www.nature.com/articles/s41598-022-16641-1

  • The 2022 Plasma Roadmap: low temperature plasma science and technology 査読 国際誌

    I. Adamovich, S. Agarwal, E. Ahedo, L. L. Alves, S. Baalrud, N. Babaeva, A. Bogaert, A. Bourdon, P. J. Bruggeman, C. Canal, E. H. Choi, S. Coulombe, Z. Donkó, D. B. Graves, S. Hamaguchi, D. Hegemann, M. Hori, H-H. Kim, G. M. W. Kroesen, M. J. Kushner, A. Laricchiuta, X. Li, T. E. Magin, S. Mededovic Thagard, V. Miller, A. B. Murphy, G. S. Oehrlein, N. Puac, R. M. Sankaran, S. Samukawa, M. Shiratani, M. Šimek, N. Tarasenko, K. Terashima, E. Thomas. Jr, J. Trieschmann, S. Tsikata, M. M. Turne, I. J. van der Walt, M C M van de Sanden, T. von Woedtke

    JOURNAL OF PHYSICS D-APPLIED PHYSICS   55 ( 37 )   2022年7月   ISSN:0022-3727 eISSN:1361-6463

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Journal of Physics D: Applied Physics  

    The 2022 Roadmap is the next update in the series of Plasma Roadmaps published by Journal of Physics D with the intent to identify important outstanding challenges in the field of low-temperature plasma (LTP) physics and technology. The format of the Roadmap is the same as the previous Roadmaps representing the visions of 41 leading experts representing 21 countries and five continents in the various sub-fields of LTP science and technology. In recognition of the evolution in the field, several new topics have been introduced or given more prominence. These new topics and emphasis highlight increased interests in plasma-enabled additive manufacturing, soft materials, electrification of chemical conversions, plasma propulsion, extreme plasma regimes, plasmas in hypersonics, data-driven plasma science and technology and the contribution of LTP to combat COVID-19. In the last few decades, LTP science and technology has made a tremendously positive impact on our society. It is our hope that this roadmap will help continue this excellent track record over the next 5-10 years.

    DOI: 10.1088/1361-6463/ac5e1c

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  • Spatio-temporal measurements Ar 2p<sub>1</sub> excitation rates and optical emission spectroscopy by capacitively coupled Ar and Ne mixed gas plasma 査読 国際誌

    Otaka, M; Arima, T; Lai, J; Ikeda, K; Kamataki, K; Yamashita, N; Okumura, T; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M

    MRS ADVANCES   7 ( 31 )   918 - 922   2022年7月   ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:MRS Advances  

    We investigated the Ar mixture ratio dependence of the high-energy electron behaviors in capacitively coupled Ar+Ne plasmas using Optical Emission Spectroscopy (OES) and Phase-Resolved Optical Emission Spectroscopy (PROES) methods. OES measurements showed that optical emission intensities of Ar and Ne decreased as Ar mixture ratio increased, which implied decreases in the excitation rates of Ar and Ne. The spatio-temporal distribution of the Ar I 2p1 excitation rate was measured using the PROES method. These measurements showed the Ar I 2p1 excitation rate decreased as the Ar mixture ratio increased, which was consistent with the OES results. These results implied that the collision frequency between electrons and neutral particles increased with increase in Ar mixture ratio. In addition, the sheath expansion width in one RF cycle became small with increasing Ar mixture ratio, which led to a weakening of the effect of stochastic heating and a decrease of the electron temperature.

    DOI: 10.1557/s43580-022-00306-2

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1557/s43580-022-00306-2/fulltext.html

  • Treatment of organic wastewater by a combination of non-thermal plasma and catalyst: a review 査読 国際誌

    Attri, P; Koga, K; Okumura, T; Chawarambwa, FL; Putri, TE; Tsukada, Y; Kamataki, K; Itagaki, N; Shiratani, M

    REVIEWS OF MODERN PLASMA PHYSICS   6 ( 1 )   2022年7月   ISSN:2367-3192 eISSN:2367-3192

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Reviews of Modern Plasma Physics  

    Recently, non-thermal plasma technology has been frequently used for wastewater treatment. Plasma technology uses the effect of high-energy electrons, reactive species, ultraviolet light, free radicals, and pyrolysis to treat wastewater. Although in many cases, only the use of non-thermal plasma alone is not successful in degrading the complex organic wastes. This might be because of complexity in wastewater or not appropriate plasma device for wastewater treatment, or improper use of plasma-generated species that plays a critical role in organic waste degradation. To increase the degradation efficiency and reduce treatment time, the combination of non-thermal plasma and catalysts (homogeneous and heterogeneous) improves pollutant removal. This review includes the different non-thermal plasma systems and their action on decolorizing or degradation of dyes, degradation of phenolic pollutants, and degradation of pharmaceutical products, including antibiotics and other volatile organic solvents (VOC’s) with and without catalyst. Finally, probable mechanisms and suggestions to improve the wastewater treatment using non-thermal plasma were put forward. This review aims to help researchers understand the role of treatment time, feed gases, and catalysts on the degradation of organic wastes and looks forward to all possible developments in this field.

    DOI: 10.1007/s41614-022-00077-1

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1007/s41614-022-00077-1/fulltext.html

  • Raman spectral analysis of the as-deposited a-C:H films prepared by CH<sub>4</sub>+ Ar plasma CVD 査読 国際誌

    Ono, S; Hwang, SH; Okumura, T; Kamataki, K; Yamashita, N; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Oh, JS; Takabayashi, S; Nakatani, T

    MRS ADVANCES   7 ( 30 )   718 - 722   2022年7月   ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:MRS Advances  

    Applicability of precise Raman spectral analysis of a-C:H films deposited using a plasma chemical vapor deposition (CVD) method has been discussed based on the sensitivity to initial conditions in peak separation. The spectral analysis offers to deconvolute the spectra into five peaks, while the as-deposited films prepared by plasma CVD is difficult to the five-peak separation. We found the peak position and the peak height ratio of the D-band to the G+-band can be employed to discuss the structure of the as-deposited films. We examined the structural difference between the films deposited at the powered electrode and that at grounded electrode. We found graphene nanoribbon-like structures may be formed in the films deposited on the grounded substrate. This result suggests that the substrate position is an important factor to form the graphene nanoribbon-like structure. Graphical abstract: [Figure not available: see fulltext.]

    DOI: 10.1557/s43580-022-00310-6

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  • Mechanistic Insight into Permeation of Plasma-Generated Species from Vacuum into Water Bulk 査読 国際誌

    Razzokov, J; Fazliev, S; Kodirov, A; AttrI, P; Chen, ZT; Shiratani, M

    INTERNATIONAL JOURNAL OF MOLECULAR SCIENCES   23 ( 11 )   2022年6月   ISSN:1661-6596 eISSN:1422-0067

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:International Journal of Molecular Sciences  

    Due to their potential benefits, cold atmospheric plasmas (CAPs), as biotechnological tools, have been used for various purposes, especially in medical and agricultural applications. The main effect of CAP is associated with reactive oxygen and nitrogen species (RONS). In order to deliver these RONS to the target, direct or indirect treatment approaches have been employed. The indirect method is put into practice via plasma-activated water (PAW). Despite many studies being available in the field, the permeation mechanisms of RONS into water at the molecular level still remain elusive. Here, we performed molecular dynamics simulations to study the permeation of RONS from vacuum into the water interface and bulk. The calculated free energy profiles unravel the most favourable accumulation positions of RONS. Our results, therefore, provide fundamental insights into PAW and RONS chemistry to increase the efficiency of PAW in biological applications.

    DOI: 10.3390/ijms23116330

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  • Growth of Single-Crystalline ZnO Films on 18%-Lattice-Mismatched Sapphire Substrates Using Buffer Layers with Three-Dimensional Islands 査読 国際誌

    Nakamura, Y; Yamashita, N; Kamataki, K; Okumura, T; Koga, K; Shiratani, M; Itagaki, N

    CRYSTAL GROWTH & DESIGN   22 ( 6 )   3770 - 3777   2022年5月   ISSN:1528-7483 eISSN:1528-7505

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Crystal Growth and Design  

    Heteroepitaxial growth of single-crystalline zinc oxide (ZnO) films on a c-plane sapphire substrate is an important technology for electronics and optoelectronic devices. Recently, the inverted Stranski-Krastanov (SK) mode has been demonstrated, and it has realized the heteroepitaxial growth of ZnO films on a sapphire substrate by sputtering. In this mode, a 10 nm-thick buffer layer consisting of three-dimensional islands (3D buffer layers) initially forms and relaxes the strain, and then, a two-dimensional ZnO film (2D layer) grows involving small strain. To clarify the correlation between the structural properties of the 3D buffer layers and the 2D layer, we introduce a figure of merit (FOM) of ZnO films: the reciprocal of the product of the full width at half-maximum (FWHM) of the (002) and (101) planes of X-ray rocking curves (XRCs) and root-mean-square (RMS) roughness. We find that the FOM of the 2D layers correlates with the RMS roughness, the in-plane orientation, and the lateral correlation length ζ of the surfaces of the buffer layers. We observe a surprisingly high correlation coefficient of 0.97. Our results imply that on the buffer layers with larger ζ, adatoms more easily reach the thermodynamically favored lattice positions. Thus, high-quality single-crystalline ZnO films, where the (002) plane XRC-FWHM and the RMS roughness are 0.05° and 1.5 nm, respectively, are grown on the buffer layers with a large ζ of 13.7 nm. This finding provides a useful tool for understanding the mechanism of the inverted SK mode.

    DOI: 10.1021/acs.cgd.2c00145

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  • Performance comparison of nitrile-based liquid electrolytes on bifacial dye-sensitized solar cells under low-concentrated light 査読 国際誌

    Putri, TE; Chawarambwa, FL; Attri, P; Kamataki, K; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M

    MRS ADVANCES   7 ( 21 )   427 - 432   2022年4月   ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:MRS Advances  

    Abstract: Dye-sensitized solar cell (DSSC) has low power output and efficiency. Even though the low-concentrated light can increase the POUT and power conversion efficiency (PCE) of DSSC, the effect of increase in the cell temperature, particularly electrolyte evaporation, becomes a major concern. In this study, we compared and investigated the performance of acetonitrile (AN-50), propionitrile (PN-50), and 3-metoxy propionitrile (Z-100) as nitrile-based electrolyte under low-concentrated light. The results showed 4–8 times increase in JSC and POUT in all electrolytes. AN-50 demonstrated an improved performance under influence of 2 cm distance concave mirror concentrated light with the highest JSC = 74.21 mA/cm2, POUT = 24.53 mW/cm2, and η = 7.99%. However, the performance of cell with AN-50 and PN-50 started to degrade within 3 h of measurement. In contrast, Z-100 displayed performance stability during 4 days measurement even with the lowest JSC= 49.98 mA/cm2, POUT = 19.50 mW/cm2, and η = 6.35%. Graphical abstract: [Figure not available: see fulltext.]

    DOI: 10.1557/s43580-022-00270-x

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  • The Effects of Spin-Coating Rate on Surface Roughness, Thickness, and Electrochemical Properties of a Pt Polymer Counter Electrode 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Advanced Engineering Forum   45   2022年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/p-6l16rl

  • Epitaxial growth of Zn<sub>1-<i>x</i></sub>Mg<i><sub>x</sub></i>O films on sapphire substrates via inverted Stranski-Krastanov mode using magnetron sputtering 査読 国際誌

    Takahashi, D; Yamashita, N; Yamashita, D; Okumura, T; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M; Itagaki, N

    MRS ADVANCES   7 ( 20 )   415 - 419   2022年2月   ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:MRS Advances  

    We have succeeded in epitaxial growth of high-quality Zn1−xMgxO films of x = 0.04–0.33 on 18%-lattice mismatched sapphire substrates using magnetron sputtering. The films have grown in inverted Stranski-Krastanov (inverted SK) mode, where a buffer layer consisting of three-dimensional islands initially forms and a relaxed two-dimensional layer subsequently grows on the buffer layer. The resultant films have flat surfaces with root-mean-square roughness of 0.43–0.75 nm and are of high-crystal qualities even for large Mg contents; the full widths at half maximum of (0002) x-ray rocking curves are 0.05° (x = 0.33) and 0.07° (x = 0.14). Furthermore, we observed that the optical absorption edge shifts continuously toward the shorter wavelength with increasing x, and the band gap has been tuned from 3.5 to 4.3 eV. These results show that the inverted SK mode is useful for fabricating high-quality Zn1−xMgxO films with wide-range tunability of band gaps. Graphical abstract: [Figure not available: see fulltext.]

    DOI: 10.1557/s43580-022-00234-1

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1557/s43580-022-00234-1/fulltext.html

  • 農業応用のための大気圧プラズマ源とその植物への効果

    白谷正治

    化学工業   73 ( 2 )   2022年2月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Nanostructured Ge and GeSn films by high-pressure He plasma sputtering for high-capacity Li ion battery anodes 査読 国際誌

    Uchida, G; Nagai, K; Habu, Y; Hayashi, J; Ikebe, Y; Hiramatsu, M; Narishige, R; Itagaki, N; Shiratani, M; Setsuhara, Y

    SCIENTIFIC REPORTS   12 ( 1 )   1742   2022年2月   ISSN:2045-2322 eISSN:2045-2322

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Scientific Reports  

    We fabricated nanostructured Ge and GeSn films using He radio-frequency magnetron plasma sputtering deposition. Monodisperse amorphous Ge and GeSn nanoparticles of 30–40 nm size were arranged without aggregation by off-axis sputtering deposition in the high He-gas-pressure range of 0.1 Torr. The Ge film porosity was over 30%. We tested the charge/discharge cycle performance of Li-ion batteries with nanostructured Ge and GeSn anodes. The Ge anode with a dispersed arrangement of nanoparticles showed a Li-storage capacity of 565 mAh/g after the 60th cycle. The capacity retention was markedly improved by the addition of 3 at% Sn in Ge anode. The GeSn anode (3 at% Sn) achieved a higher capacity of 1128 mAh/g after 60 cycles with 92% capacity retention. Precise control of the nano-morphology and electrical characteristics by a single step procedure using low temperature plasma is effective for stable cycling of high-capacity Ge anodes.

    DOI: 10.1038/s41598-022-05579-z

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    その他リンク: https://www.nature.com/articles/s41598-022-05579-z

  • Outcomes of Pulsed Electric Fields and Nonthermal Plasma Treatments on Seed Germination and Protein Functions 査読 国際誌

    Attri, P; Okumura, T; Koga, K; Shiratani, M; Wang, DY; Takahashi, K; Takaki, K

    AGRONOMY-BASEL   12 ( 2 )   2022年2月   eISSN:2073-4395

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Agronomy  

    To meet the needs of the hungry population, it is critical to boost agricultural product production while minimizing contaminated waste. The use of two nonthermal technologies, pulsed electric field (PEF) and nonthermal plasma (NTP), is increasing every day. As both PEF and NTP are relatively newer areas, there is limited knowledge about these two technologies and their modes of action. Studies showed that PEF treatment on the plant seeds helps germination and seedling growth. The positive impact of PEF intensity is highly dependent on the seed coat type and plant species. Another nonthermal technology, NTP, affects seed germination, seedling growth, yield, and resilience to abiotic stress when generated at varying pressures with and without different feed gases. Early germination, germination rate, and germination percentage were all improved when the seedlings were treated with NTP. Similarly to the PEF treatment, NTP had a negative or no effect on germination. This review examined the effects of PEF and NTP on seed germination and ana-lyzed the situation and mechanism behind the positive or negative effect. Deactivation of proteins and enzymes to extend the shelf life of beverages is another prominent application of PEF and NTP. The interaction of PEF and NTP with proteins aids in understanding the microscopic mechanism of these technologies. Therefore, we covered in this review the potential structural and functional changes in proteins/enzymes as a result of PEF and NTP, as well as a comparison of the benefits and drawbacks of these two technologies.

    DOI: 10.3390/agronomy12020482

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  • Effect of gas flow rate and discharge volume on CO<sub>2</sub> methanation with plasma catalysis 査読 国際誌

    Toko, S; Ideguchi, M; Hasegawa, T; Okumura, T; Kamataki, K; Takenaka, K; Koga, K; Shiratani, M; Setsuhara, Y

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 ( SI )   2022年1月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    CO2 methanation can be a key technology for realizing a sustainable society. CH4 is used as an energy carrier and raw material for chemical products, thereby contributing to the reduction of CO2 emissions. Methanation with plasma catalysis lowers the process temperature, which can improve the throughput and stability. In this study, we investigated the effect of the gas flow rate and the discharge volume on CO2 methanation, using a low-pressure capacitively coupled plasma reactor. Higher gas flow rates can increase the rate of CO2 throughput, but the CH4 selectivity decreases owing to the reduced transportation rate of the reactants to the catalyst surface. Increasing the discharge volume is effective in improving the transportation rate. This study suggested that the structure of the reactor significantly affects the CH4 generation rate.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac4822

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  • Performances of Carbon Black-Titanium nitrate and Carbon Black-Titanium/Triton X-100 Composite Polymer Counter Electrodes for Dye-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, A. Pankaj, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Adv. Mater. Res.   1168   2022年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/AMR.1168.35

  • Improved luminescence performance of Yb<SUP>3+</SUP>-Er<SUP>3+</SUP>-Zn<SUP>2+</SUP>: Y<sub>2</sub>O<sub>3</sub> phosphor and its application to solar cells 査読 国際誌

    Chawarambwa, FL; Putri, TE; Hwang, SH; Attri, P; Kamataki, K; Itagaki, N; Koga, K; Nakamura, D; Shiratani, M

    OPTICAL MATERIALS   123   2022年1月   ISSN:0925-3467 eISSN:1873-1252

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Optical Materials  

    Upconversion materials (UC) can convert low-energy photons into visible light and, therefore, can be incorporated in solar cells to increase the absorption of visible light. This study synthesized UC nanophosphors Yb3+, Er3+: Y2O3 and Yb3+, Er3+, Zn2+: Y2O3 by a simple co-precipitation method for application in dye-sensitized solar cells (DSSCs). The impact of the enhancement in the concentration of Zn2+ on the photoluminescence (PL) and color point of the synthesized nanophosphors was also investigated. The synthesized nanophosphors emitted intense red and weaker green emissions upon excitation at 980 nm. The incorporation of Zn2+ to the Yb3+, Er3+: Y2O3 nanophosphors leads to color tunability in the red and yellow regions. Furthermore, the synthesized nanophosphors were incorporated into the DSSC photoanode to form a TiO2-UC-based DSSC for converting near-infrared (NIR) into visible light. We observed that the TiO2-UC-based DSSC showed an enhancement ratio in current density and power conversion efficiency of 17.4% and 16.6%, respectively, compared to the bare TiO2-based DSSC. These results reveal that UC-based Yb3+, Er3+, Zn2+: Y2O3 nanophosphors are useful in improving the efficiency of DSSCs and in color tunability applications.

    DOI: 10.1016/j.optmat.2021.111928

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  • Morphological control of nanostructured Ge films in high Ar-gas-pressure plasma sputtering process for Li ion batteries 査読 国際誌

    Hayashi, J; Nagai, K; Habu, Y; Ikebe, Y; Hiramatsu, M; Narishige, R; Itagaki, N; Shiratani, M; Setsuhara, Y; Uchida, G

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   61 ( SA )   2021年12月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics  

    We present a study on morphological control of nanostructured Ge films by the Ar gas pressure in plasma sputtering deposition. In the low Ar-gas-pressure range, aggregated islands of amorphous grains are formed on the film surface, while in the high-pressure range of 500 mTorr monodisperse nano-grains of about 30 nm in size are orderly arranged without aggregation. The film porosity shows a high value of over 10%. We tested the charge/discharge cycle performance of Li-ion batteries with nanostructured Ge films as anodes. The battery cell with an ordered arrangement structure maintained a high capacity of 434 mAh g-1 after 40 charge/discharge cycles, while that with an aggregated structure exhibited a rapid degradation of capacity to 5.08-183 mAh g-1. An ordered arrangement of Ge nano-grains with a high porosity, which is realized in a simple one-step procedure using high Ar-gas-pressure plasma sputtering, is effective for the stable cycling of high-capacity metal anodes.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ac2b7b

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  • Plasma Treatment Effect on the Paramagnetic Species of Barley Seed Radical’s Intensity: An EPR study 査読 国際誌

    10 ( 3 )   2021年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1615/PlasmaMed.2020036353

  • Performance Characteristics of Bifacial Dye-Sensitized Solar Cells with a V-Shaped Low-Concentrating Light System 査読 国際誌

    T. E. Putri, F. L Chawarambwa, M. K. Son, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    ACS Appl. Energy Mater.   4 ( 12 )   2021年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsaem.1c02774

  • Effects of concentrated light on the performance and stability of a quasi-solid electrolyte in dye-sensitized solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Chem. Phys. Lett.   781   2021年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cplett.2021.138986

  • Transport of Nanoparticles in Afterglow Region Using Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 査読 国際誌

    K. Koga, S. H. Hwang, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Bull. Am. Phys. Soc.   66 ( 7 )   2021年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Synergetic effect of a polymer and metalloid composite on the electrocatalytic improvement of dye-sensitized solar cells 査読 国際誌

    D. Sakamoto, M. Shiratani, H. Seo

    New J. Chem.   45 ( 38 )   2021年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/D1NJ03643B

  • Passivating antireflection coating of crystalline silicon using i/n a-Si:H/SiN trilayer 査読 国際誌

    J Phys Chem Solids   156   2021年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jpcs.2021.110127

  • Passivating antireflection coating of crystalline silicon using i/n a-Si:H/SiN trilayer 査読 国際誌

    J Phys Chem Solids   156   2021年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jpcs.2021.110127

  • Impact of Reactive Oxygen and Nitrogen Species Produced by Plasma on Mdm2–p53 Complex 査読 国際誌

    22 ( 17 )   2021年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/ijms22179585

  • Green route for ammonium nitrate synthesis: fertilizer for plant growth enhancement 査読 国際誌

    P.Attri, K. Koga, T. Okumura, N. Takeuchi, M. Shiratani

    RSC Adv.   11 ( 46 )   2021年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/D1RA04441A

  • Comparison between Ar+CH4 Cathode and Anode Coupled Capacitively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon Films 査読 国際誌

    S. H. Hwang, R. Iwamoto, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, T. Nakatani, M. Shiratani

    Thin Solid Films   729   2021年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2021.138701

  • Plasma treatment causes structural modifications in lysozyme, and increases cytotoxicity towards cancer cells 査読 国際誌

    P.Attri, N. KumarKaushik, N. Kaushik, D. Hammerschmid, A. Privat-Maldonado, J. Backer, M. Shiratani, E. H. Choi, A. Bogaerts

    Int. J. Biol. Macromol.   182   2021年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.ijbiomac.2021.05.146

  • Sputtering Growth of Metal Oxynitride Semiconductors for Excitonic Devices 査読 国際誌

    R. Narishige, N. Itagaki, M. Shiratani

    5th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM)   2021年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/EDTM50988.2021.9420921

  • Highly efficient and transparent counter electrode for application in bifacial solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Chem. Phys. Lett.   768   2021年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cplett.2021.138369

  • Impact of atmospheric pressure plasma treated seeds on germination, morphology, gene expression and biochemical responses 査読 国際誌

    P.Attri, K. Koga, T.Okumura, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   60 ( 4 )   2021年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abe47d

  • Synthesis of Yb3+/Ho3+ co-doped Y2O3 nanoparticles and its application to dye sensitized solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, K. Kamataki, M. Shiratani, K. Koga, N. Itagaki, D. Nakamura

    J. Mol. Struct.   1228   2021年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.molstruc.2020.129479

  • Alterations of DNA Methylation Caused by Cold Plasma Treatment Restore Delayed Germination of Heat-Stressed Rice (Oryza sativa L.) Seeds 査読 国際誌

    C. Suriyasak, K. Hatanaka, H. Tanaka, T. Okumura, D. Yamashita, P. Attri, K. Koga, M. Shiratani, N. Hamaoka, Y. Ishibashi

    ACS Agric. Sci. Technol.   1 ( 1 )   2021年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsagscitech.0c00070

  • Impact of seed color and storage time on the radish seed germination and sprout growth in plasma agriculture 査読 国際誌

    P. Attri, K. Ishikawa, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, V. Mildaziene

    Sci. Rep.   11 ( 1 )   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-021-81175-x

  • Effects of Activated Carbon Counter Electrode On Bifacial Dye Sensitized Solar Cells (DSSCs) 査読 国際誌

    T. E. Putri, Y. Hao, F. L. Chawarambwa, H. Seo, Min-Kyu Son, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mater. Sci. Forum   1016   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.1016.863

  • Possible impact of plasma oxidation on the structure of C-terminal domain of SARS-CoV-2 spike protein: a computational study 査読 国際誌

    P. Attri, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   14 ( 2 )   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/abd717

  • Long-term response of Norway spruce to seed treatment with cold plasma: dependence of the effects on the genotype 査読 国際誌

    Plasma Process Polym   2020年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.202000159

  • Time of Flight Size Control of Carbon Nanoparticles Using Ar+CH4 Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition Method 査読 国際誌

    S. H. Hwang, K. Koga, Y. Hao, P. Attri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, J-S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

    Processes   9 ( 1 )   2020年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/pr9010002

  • Structural modification of NADPH oxidase activator (Noxa 1) by oxidative stress: An experimental and computational study 査読 国際誌

    P. Attri, J. H. Park, J. D. Backer, M. Kim, J. H. Yun, Y. Heo, S. Dewilde, M. Shiratani, E. H. Choi, W. Lee, A. Bogaerts

    Int. J. Biol. Macromol.   163   2020年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.ijbiomac.2020.09.120

  • Size and flux of carbon nanoparticles synthesized by Ar+CH4 multi-hollow plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Diam Relat Mater   109   2020年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.diamond.2020.108050

  • Graphene-Si3N4 nanocomposite blended polymer counter electrode for low-cost dye-sensitized solar cells 査読 国際誌

    F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, M. K. Son, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Chem. Phys. Lett.   758   2020年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cplett.2020.137920

  • Experimental identification of the reactive oxygen species transported into a liquid by plasma irradiation 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( 11 )   2020年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abc3a1

  • Impact of surface morphologies of substrates on the epitaxial growth of magnetron sputtered (ZnO)x(InN)1-x films 査読 国際誌

    R. Narishige, K. Kaneshima, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Jpn. J. Appl. Phys.   60 ( SA )   2020年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abba0c

  • Low stress diamond-like carbon films containing carbon nanoparticles fabricated by combining rf sputtering and plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, T. Nakatani, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( 10 )   2020年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/abbb20

  • Cold plasma treatment of sunflower seeds modulates plant-associated microbiome and stimulates root and lateral organ growth 査読 国際誌

    Front. Plant Sci.   11   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3389/fpls.2020.568924

  • Plasma agriculture from laboratory to farm: A review 査読 国際誌

    P. Attri, K. Ishikawa, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani

    Processes   8 ( 8 )   2020年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.3390/pr8081002

  • Real-time monitoring of surface passivationof crystalline silicon during growth of amorphous and epitaxial silicon layer 査読 国際誌

    S. Nunomura, I. Sakata, H. Sakakita, K. Koga, M. Shiratani

    J. Appl. Phys.   128 ( 3 )   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/5.0011563

  • Influence of alkyl chain substitution of ammonium ionic liquids on the activity and stability of tobacco etch virus protease 査読 国際誌

    P. Attri, S. Choi, M. Kim, M. Shiratani, A. E. Cho, W. Lee

    International Journal of Biological Macromolecules   155   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab656c

  • Cold plasma treatment of Arabidopsis thaliana (L.) seeds modulates plant-associated microbiome composition 査読 国際誌

    Applied Physics Express   13   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1882-0786/ab9712

  • Characteristics of crystalline sputtered LaFeO3 thin films as photoelectrochemical water splitting photocathodes 査読 国際誌

    M.K. Son, H. Seo, M. Watanabe, M. Shiratani, T. Ishihara

    Nanoscale   12 ( 17 )   2020年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/d0nr01762k

  • Influence of osmolytes and ionic liquids on the Bacteriorhodopsin structure in the absence and presence of oxidative stress: A combined experimental and computational study 査読 国際誌

    P. Attri, J. Razzokov, M. Yusupov, K. Koga, M. Shiratani, A. Bogaerts

    International Journal of Biological Macromolecules   148   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.ijbiomac.2020.01.179

  • Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition 査読 国際誌

    N. Itagaki, Y. Nakamura, R. Narishige, K. Takeda, K. Kamataki, K. Koga, M. Hori, M. Shiratani

    Sci. Rep.   10   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-020-61596-w

  • Effects of surrounding gas on plasma-induced downward liquid flow 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Nishida, G. Uchida, F. Mitsugi, K. Takenaka, K. Koga, Y. Setsuhara, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( SH )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab71dc

  • Impact of radish sprouts seeds coat color on the electron paramagnetic resonance signals after plasma treatment 査読 国際誌

    K. Koga, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, V. Mildaziene

    Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( SH )   2020年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.35848/1347-4065/ab7698

  • Relationship between cold plasma treatment-induced changes in radish seed germination and phytohormone balance 査読 国際誌

    L. D. Fomins, G. Pauzaite, R. Zukiene, V. Mildaziene, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   59   2020年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1347-4065/ab656c

  • Improved Nanoscale Al-doped ZnO with a ZnO Buffer Layer Fabricated by Nitrogen-mediated Crystallization for Flexible Optoelectronic Devices 査読 国際誌

    I. Suhariadi, N. Itagaki, M. Shiratani

    ACS Appl. Nano Mater.   3   2020年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/acsanm.9b02571

  • Effect of hydrogen dilution on the silicon cluster volume fraction of a hydrogenated amorphous silicon film prepared using plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Koga, M. Shiratani

    Curr. Appl. Phys.   20 ( 1 )   2020年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2019.11.001

  • Effect of hydrogen dilution on the silicon cluster volume fraction of a hydrogenated amorphous silicon film prepared using plasma-enhanced chemical vapor deposition 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Koga, M. Shiratani

    Curr. Appl. Phys.   20 ( 1 )   2020年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2019.11.001

  • Dielectric barrier discharge plasma treatment-induced changes in sunflower seed germination, phytohormone balance, and seedling growth 査読 国際誌

    R. Zukiene, Z. Nauciene, I. Januskaitiene, G. Pauzaite, V. Mildaziene, K. Koga, M. Shiratani

    Appl. Phys. Express   12 ( 12 )   2019年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/ab5491

  • Dielectric barrier discharge plasma treatment-induced changes in sunflower seed germination, phytohormone balance, and seedling growth 査読 国際誌

    R. Zukiene, Z. Nauciene, I. Januskaitiene, G. Pauzaite, V. Mildaziene, K. Koga, M. Shiratani

    Appl. Phys. Express   12 ( 12 )   2019年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/1882-0786/ab5491

  • Identification and Suppression of Si-H2 Bond Formation at P/I Interface in a-Si:H Films Deposited by SiH4 Plasma CVD 査読 国際誌

    K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, L. Shi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406141

  • Impact of heterointerface properties of crystalline germanium heterojunction solar cells 査読 国際誌

    S. Nakano, M. Shiratani

    Thin Solid Films   685   2019年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2019.06.028

  • Spatial-Structure of Fluctuation of Amount of Nanoparticles in Amplitude-Modulated VHF Discharge Reactive Plasma 査読 国際誌

    R. Zhou, K. Kamataki, H. Ohtomo, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406120

  • Effects of Gas Pressure on the Size Distribution and Structure of Carbon Nanoparticles Using Ar + CH4 Multi-Hollow Discharged Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    S. H. Hwang, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406115

  • Effect of Higher-Order Silane Deposition on Spatial Profile of Si-H2/Si-H Bond Density Ratio of a-Si:H Films 査読 国際誌

    L. Shi, K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.14.4406144

  • Local supply of reactive oxygen species into a tissue model by atmospheric-pressure plasma-jet exposure 査読 国際誌

    T. Kawasaki, F. Mitsugi, K. Koga, M. Shiratani

    J. Appl. Phys.   125 ( 21 )   2019年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.5091740

  • Sputter Epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films on Lattice-mismatched Sapphire Substrate 査読 国際誌

    N. Miyahara, S. Urakawa, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Adv.   4 ( 27 )   1551 - 1556   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2019.17

  • Effects of nitrogen impurity on zno crystal growth on Si substrates 査読 国際誌

    S. Muraoka, L. Jiahao, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Adv.   4 ( 27 )   1557 - 1563   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2019.28

  • Photoluminescence of (ZnO)0.82 (InN)0.18 films: Incident light angle dependence 査読 国際誌

    N. Miyahara, K. Iwasaki, D. Yamashita, D. Nakamura, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mater. Sci. Forum   941   2099 - 2103   2018年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2099

  • Impact of Gamma rays and DBD plasma treatments on wastewater treatment 査読 国際誌

    P. Attri, F. Tochikubo, J. H. Park, E. H. Choi, K. Koga, M. Shiratani

    Scientific reports   8 ( 1 )   2018年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-018-21001-z

  • Cross-correlation analysis of fluctuations of interactions between nanoparticles and low pressure reactive plasmas 査読 国際誌

    R. Zhou, K. Mori, H. Ohtomo, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mater. Sci. Forum   941   2104 - 2108   2018年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2104

  • Effects of sputtering pressure on (ZnO)x(InN)1-x crystal film growth at 450ºC 査読 国際誌

    941   2093 - 2098   2018年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.941.2093

  • Particle behavior and its contribution to film growth in a remote silane plasma 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Koga, M. Shiratani

    Journal of Vacuum Science and Technology A: Vacuum, Surfaces and Films   36 ( 5 )   2018年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.5037539

  • The effect of the H2/(H2+Ar) flow-rate ratio on hydrogenated amorphous carbon films grown using Ar/H2/C7H8 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    T. Fang, K. Yamaki, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka,Y. Setsuhara

    Thin Solid Films   660   891 - 898   2018年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2018.02.035

  • Effects of gas velocity on deposition rate and amount of cluster incorporation into a-Si:H films fabricated by SiH4 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    T. Kojima, S. Toko, K. Tanaka, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Fusion Res.   13   1406082   2018年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.13.1406082

  • Dependence of CO2 Conversion to CH4 on CO2 Flow Rate in Helicon Discharge Plasma 査読 国際誌

    S. Toko, R. Katayama, K. Koga, E. Leal-Quiros, M. Shiratani

    Sci. Adv. Mater.   10 ( 5 )   2018年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/sam.2018.3141

  • Special issue: Plasma and agriculture 査読 国際誌

    Plasma Processes & Polymers   15 ( 2 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201877002

  • Progress in photovoltaic performance of organic/inorganic hybrid solar cell based on optimal resistive Si and solvent modified poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate) junction 査読 国際誌

    H. Seo, D. Sakamoto, H. Chou, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Progress in Photovoltaics: Research and Applications   26 ( 2 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pip.2961

  • Current Status and Future Prospect of Agricultural Applications using Atmospheric-Pressure Plasma Technologies 査読 国際誌

    M. Ito, Jun-Seok Oh, T. Ohta, M. Shiratani, M. Hori

    Plasma Processes & Polymers   15 ( 2 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201700073

  • Plasma agriculture: A rapidly emerging field 査読 国際誌

    Plasma Processes & Polymers   15 ( 2 )   2018年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/ppap.201700174

  • 色素増感太陽電池のポリマー対向電極における触媒反応の活性化 招待

    徐鉉雄, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

    信学技報 (IEICE Technical Report)   117 ( 334 )   2017年12月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • プラズマ融合CMPによる大型ダイヤモンド基板の高効率加工とその加工メカニズム

    武田秀俊, 土肥俊郎, 金聖祐, 會田英雄, 白谷正治

    信学技報 (IEICE Technical Report)   117 ( 334 )   2017年12月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Transportation of reactive oxygen species in a tissue phantom after plasma irradiation 査読 国際誌

    T. Kawasaki, G. Kuroeda, R. Sei, M. Yamaguchi, R. Yoshinaga, R. Yamashita, H. Tasaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   57 ( 1S )   2017年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.57.01AG01

  • Low temperature rapid formation of Au-induced crystalline Ge films using sputtering deposition 査読 国際誌

    S. Tanami, D. Ichida, S. Hashimoto, H. Seo, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Thin Solid Films   641   2017年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2017.02.067

  • Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH4 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    S. Toko, K. Keya, Y. Torigoe, T. Kojima, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Surf. Coat. Technol.   326 ( Part B )   2017年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2017.01.034

  • Impact of an ionic liquid on protein thermodynamics in the presence of cold atmospheric plasma and gamma rays 査読 国際誌

    P. Attri, M. Kim, E. H. Choi, A. E. Cho, K. Koga, M. Shiratani

    Phys. Chem. Chem. Phys.   19 ( 37 )   2017年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/c7cp04083k

  • Preface - Surface Engineering at the International Vacuum Congress-20 査読 国際誌

    J. G. Han, L. Martinu, M. Shiratani

    Surf. Coat. Technol.   326 ( Part B )   2017年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2017.08.029

  • Performance enhancement of quantum dot-sensitized solar cells based on polymer nano-composite catalyst 査読 国際誌

    H. Seo, C. V.V.M. Gopi, H.-J. Kim, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Electrochimica Acta   249   2017年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2017.08.030

  • The protective action of osmolytes on the deleterious effects of gamma rays and atmospheric pressure plasma on protein conformational changes 査読 国際誌

    P. Attri, M. Kim, T. Sarinont, E. H. Choi, H. Seo, A. E. Cho, K. Koga, M. Shiratani

    Scientific Reports   7   2017年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/s41598-017-08643-1

  • Synthesis of Nanoparticles using Low Temperature Plasmas and Its Application to Solar Cells and Tracers in Living Body 査読 国際誌

    K. Koga, H. Seo, A. Tanaka, N. Itagaki, M. Shiratani

    ECS Transactions   77 ( 3 )   2017年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1149/07703.0017ecst

  • 低温プラズマによるナノ粒子の合成と太陽電池への応用

    古閑一憲, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

    信学技報 (IEICE Technical Report)   117 ( 8 )   2017年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • GaN基板のプラズマ融合CMP技術 : エタノールバブリング・Arプラズマを用いたプラズマ融合CMP特性とその評価

    山崎直樹, 土肥俊郎, 曾田英雄, 金聖祐, 大山幸希, 黒河周平, 佐野泰久, 白谷正治, 山西陽子

    信学技報 (IEICE Technical Report)   117 ( 7 )   2017年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Enhanced light harvesting and charge recombination control with TiO2/PbCdS/CdS based quantum dot-sensitized solar cells 査読 国際誌

    H.-J. Kim, G.-C. Xu, C. V.V.M. Gopi, H. Seo, M. Venkata-Haritha, M. Shiratani

    Journal of Electroanalytical Chemistry   788   2017年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jelechem.2017.02.005

  • Densities and surface reaction probabilities of oxygen and nitrogen atoms during sputter deposition of ZnInON on ZnO 査読 国際誌

    K. Matsushima, T. Ide, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    IEEE Trans. Plasma Science   45 ( 2 )   2017年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2016.2632124

  • Plant Growth Enhancement of Seeds Immersed in Plasma Activated Water 査読 国際誌

    T. Sarinont, R. Katayama, Y. Wada, K. Koga, M. Shiratani

    MRS Adv.   2 ( 18 )   2017年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2017.178

  • Response of Silkworm Larvae to Atmospheric Pressure Non-thermal Plasma Irradiation 査読 国際誌

    T. Sarinont, Y. Wada, K. Koga, M. Shiratani

    Plasma Medicine   6 ( 3-4 )   2017年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1615/PlasmaMed.2017019137

  • 難加工材料のプラズマ融合CMPプロセスの開発

    山崎直樹, 土肥俊郎, 曾田英雄, 金聖祐, 大山幸希, 白谷正治, 山西陽子

    精密工学会学術講演会講演論文集   2017S   2017年1月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Biogenic reductive preparation of magnetic inverse spinel iron oxide nanoparticles for the adsorption removal of heavy metals 査読 国際誌

    L. P. Lingamdinne, Y. Chang, J.-K. Yang, J. Singh, E. H. Choi, M. Shiratani, J. R. Koduru, P. Attri

    Chemical Engineering Journal   307   2017年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cej.2016.08.067

  • Effects of sputtering gas pressure dependence of surface morphology of ZnO films fabricated via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    K. Iwasaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Adv.   2 ( 5 )   2016年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.617

  • Blue Photoluminescence of (ZnO)0.92(InN)0.08 査読 国際誌

    K. Matsushima, K. Iwasaki, N. Miyahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Adv.   2 ( 5 )   2016年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.625

  • Effects of nonthermal plasma jet irradiation on the selective production of H2O2 and NO2- in liquid water 査読 国際誌

    G. Uchida, A. Nakajima, T. Ito, K. Takenaka, T. Kawasaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    J. Appl. Phys.   120 ( 20 )   2016年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4968568

  • Fluctuation of Position and Energy of a Fine Particle in Plasma Nanofabrication 査読 国際誌

    M. Shiratani, M. Soejima, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

    Materials Science Forum   879   2016年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.879.1772

  • Variation in structure of proteins by adjusting reactive oxygen and nitrogen species generated from dielectric barrier discharge jet 査読 国際誌

    J. H. Park, M. Kim, M. Shiratani, Art. E. Cho, E. Choi & P. Attri

    Scientific Reports   6   2016年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep35883

  • Optical Bandgap Energy of Si Nanoparticle Composite Films Deposited by a Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition Method 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Kanemitsu, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Nanosci. Nanotechnol.   16 ( 10 )   2016年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2016.13233

  • Mechanism and comparison of needle-type non-thermal direct and indirect atmospheric pressure plasma jets on the degradation of dyes 査読 国際誌

    P. Attri, M. Yusupov, J. H. Park, L. P. Lingamdinne, J. R. Koduru, M. Shiratani, E. Choi & A. Bogaerts

    Scientific Reports   6   2016年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep34419

  • Effects of plasma irradiation using various feeding gases on growth of Raphanus sativus L. 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, P. Attri, K. Koga, N. Hayashi, M. Shiratani

    Arch. Biochem. Biophys.   605   2016年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.abb.2016.03.024

  • Surface Modification of Polymer Counter Electrode for Low Cost Dye-sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    H. Seo, M. K. Son, S. Hashimoto, T. Takasaki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Electrochimica Acta   210   2016年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2016.06.020

  • Effect of Sulfur Doped TiO2 on Photovoltaic Properties of Dye-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    H. Seo, S. H. Nam, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, and J.-H. Boo

    Electron. Mater. Lett.   12 ( 4 )   2016年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s13391-016-4018-8

  • Correlation between SiH2/SiH and light-induced degradation of p–i–n hydrogenated amorphous silicon solar cells 査読 国際誌

    55 ( 7S2 )   2016年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.07LE03

  • Low temperature synthesis of silicon quantum dots with plasma chemistry control in dual frequency non-thermal plasmas 査読 国際誌

    B. B. Sahu, Y. Yin, J. G. Han, M. Shiratani

    Phys. Chem. Chem. Phys.   18 ( 23 )   2016年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/c6cp01856d

  • Improving the performance of quantum dot sensitized solar cells through CdNiS quantum dots with reduced recombination and enhanced electron life time 査読 国際誌

    C. V. V. M. Gopi, M. V. Haritha, H. Seo, S. Singh, S.-K. Kim, M. Shiratani, H. Kim

    Dalton Trans.   45 ( 20 )   2016年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/C6DT00283H

  • Effects of irradiation distance on supply of reactive oxygen species to the bottom of a Petri dish filled with liquid by an atmospheric O2/He plasma jet 査読 国際誌

    T. Kawasaki, S. Kusumegi, A. Kudo, T. Sakanoshita, T. Tsurumaru, A. Sato, G. Uchida, K. Koga and M. Shiratani

    J. Appl. Phys.   119   2016年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4948430

  • Improvement of Charge Transportation in Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells Using Vanadium Doped TiO2 査読 国際誌

    H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, S. H. Nam and J. H. Boo

    J. Nanosci. Nanotechnol.   16 ( 5 )   2016年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2016.12210

  • Reduced recombination with an optimized barrier layer on TiO2 in PbS/CdS core shell quantum dot sensitized solar cells 査読 国際誌

    D. Punnoose, CH. S. S. P. Kumar, A. E. Reddy, S. S. Rao, C. V. Tulasivarma, S.-K. Kim, H. Seo, M. Shiratani, S.-H. Chung, H. Kim

    New J. Chem.   4 ( 40 )   2016年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/C5NJ02947C

  • R&D status of agricultural applications of high voltage and plasma in Japan 招待 国際誌

    M. Shiratani, T. Sarinont, K. Koga and N. Hayashi

    Proc. Workshop on Application of Advanced Plasma Technologies in CE Agriculture   2016年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • プラズマ加工の現状と将来動向 (特集 プラズマ(加工)とその応用技術の現状と将来動向)

    白谷正治

    光技術コンタクト = Optical and electro-optical engineering contact   54 ( 4 )   2016年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Catalytic Improvement on Counter Electrode of Dye-Sensitized Solar Cells Using Electrospun Pt Nano-Fibers 査読 国際誌

    H. Seo, M. Shiratani, K. Seneekatima, R. Pornprasertsuk

    J. Nanosci. Nanotechnol.   16 ( 4 )   2016年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2016.12294

  • Quantum Characterization of Si Nano-Particles Fabricated by Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    Sci. Adv. Mater.   8 ( 3 )   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/sam.2016.2520

  • Polymer Counter Electrode of Poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(4-styrenesulfonate) Containing TiO2 Nano-particles for Dye-sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    H. Seo, M.-K. Son, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Journal of Power Sources   307   2016年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jpowsour.2015.12.112

  • Room Temperature Fabrication of (ZnO)x(InN)1-x films with Step-Terrace Structure by RF Magnetron Sputtering 査読 国際誌

    K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    MRS Advances   1 ( 2 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2015.59

  • Plant Growth Response to Atmospheric Air Plasma Treatments of Seeds of 5 Plant Species 査読 国際誌

    M. Shiratani, T. Sarinont, T. Amano, N. Hayashi, K. Koga

    MRS Adv.   1 ( 18 )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.37

  • Production of In, Au, and Pt nanoparticles by discharge plasmas in water for assessment of their bio-compatibility and toxicity 査読 国際誌

    T. Amano, T. Sarinont, K. Koga, M. Hirata, A. Tanaka, M. Shiratani

    MRS Adv.   1 ( 18 )   2016年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/adv.2016.41

  • Effects of deposition rate and ion bombardment on properties of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD method 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   55 ( 1S )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.01AA11

  • Effects of Gas Flow Rate on Deposition Rate and Amount of Si Clusters Incorporated into a-Si:H Films 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   55 ( 1S )   2016年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.55.01AA19

  • Simple method of improving harvest by nonthermal air plasma irradiation of seeds of Arabidopsis thaliana (L.) 査読 国際誌

    K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, N. Hayashi, M. Shiratani

    Appl. Phys. Express   9 ( 1 )   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/APEX.9.016201

  • Gas flow rate dependence of the discharge characteristics of a plasma jet impinging onto the liquid surface 査読 国際誌

    G. Uchida, A. Nakajima, K. Takenaka, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    IEEE Trans. Plasma Science   43 ( 12 )   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2015.2488619

  • Influence of ionic liquid and ionic salt on protein against the reactive species generated using dielectric barrier discharge plasma 査読 国際誌

    P. Attri, T. Sarinont, M. Kim, T. Amano, K. Koga, A. E. Cho, E. Choi, M. Shiratani

    Scientific Reports   5   2015年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1038/srep17781

  • 水素プラズマとカーボン壁の相互作用で発生したダストに対するダスト除去フィルタのダスト除去性能評価

    白谷正治, 古閑一憲, 立石瑞樹, 片山龍, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 芦川直子, 時谷政行, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

    九州大学超顕微解析研究センター報告   39   2015年12月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Synthesis of Indium-Containing Nanoparticles in Aqueous Suspension Using Plasmas in Water for Evaluating Their Kinetics in Living Body 査読 国際誌

    T. Amano, T. Sarinont, K. Koga, M. Hirata, A. Tanaka, M. Shiratani

    J. Nanosci. Nanotechnol.   15 ( 11 )   2015年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1166/jnn.2015.11427

  • Synthesis of indium-containing nanoparticles using plasmas in water to study their effects on living body 査読 国際誌

    T. Amano, K. Koga, T. Sarinont, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, S. Kitazaki, M. Hirata, Y. Nakatsu, A. Tanaka

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Discharge characteristics and hydrodynamics behaviors of atmospheric plasma jets produced in various gas flow patterns 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, G. Uchida, A. Nakajima, K. Takenaka, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Gas flow rate dependence of the production of reactive oxygen species in liquid by a plasma-jet irradiation 査読 国際誌

    G. Uchida, A. Nakajima, T. Kawasaki, K. Koga, K. Takenaka, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Attraction during binary collision of fine particles in Ar plasma 査読 国際誌

    M. Soejima, T. Ito, D. Yamashita, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Cross correlation analysis of plasma perturbation in amplitude modulated reactive dusty plasmas 査読 国際誌

    T. Ito, M. Soejima, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Kobayashi, S. Inagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition rate and etching rate due to neutral radicals and dust particles measured using QCMs together with a dust eliminating filter 査読 国際誌

    R. Katayama, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, M. Tokitani, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD Experimental Group

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of Ambient Humidity on Plant Growth Enhancement by Atmospheric Air Plasma Irradiation to Plant Seeds 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, S. Kitazaki, N. Hayashi, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of electrode structure on characteristics of multi-hollow discharges 査読 国際誌

    Y. Torigoe, K. Keya, S. Toko, H. Seo, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of N2 dilution on fabrication of Ge nanoparticles by rf sputtering 査読 国際誌

    S. Hashimoto, S. Tanami, H. Seo, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Laser trapped single fine particle as a probe of plasma parameters 査読 国際誌

    D. Yamashita, M. Soejima, T. Ito, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurement of absolute density of N atom in sputtering plasma for epitaxial growth ZnO films via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    T. Ide, K. Matsushima, T. Takasaki, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of absolute densities of nitrogen and oxygen atoms in sputtering plasma for fabrication of ZnInON films 査読 国際誌

    K. Matsushima, T. Ide, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of nitrogen atom density in N2/Ar sputtering plasma for fabrication of high-mobility amorphous In2O3:Sn films 査読 国際誌

    T. Takasaki, T. Ide, K. Matsushima, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Raman Spectroscopy of a-C:H Films Deposited Using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Raman spectroscopy of PIN hydrogenated amorphous silicon solar cells 査読 国際誌

    K. Keya, Y. Torigoe, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Simple Evaluation Method of Atmospheric Plasma Irradiation Dose using pH of Water 査読 国際誌

    K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, Y. Nakatsu, A. Tanaka, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Structural alternation of tandem dye-sensitized solar cells based on mesh-type of counter electrode 査読 国際誌

    H. Seo, S. Hashimoto, D. Ichida, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    Electrochimica Acta   179   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2015.04.105

  • Substrate temperature dependence of Au-induced crystalline Ge film formation using sputtering deposition 査読 国際誌

    S. Tanami, D. Ichida, D. Hashimoto, G. Uchida, H. Seo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Real-time mass measurement of dust particles deposited on vessel wall in a divertor simulator using quartz crystal microbalances 査読 国際誌

    M. Tateishi, K. Koga, R. Katayama, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experiment Group

    J. Nucl. Mater.   463   2015年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jnucmat.2014.10.049

  • Fabrication of ZnInON/ZnO multi-quantum well solar cells 査読 国際誌

    K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Thin Solid Films   587   2015年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2015.01.012

  • Effects of gas flow on oxidation reaction in liquid induced by He/O2 plasma-jet irradiation 査読 国際誌

    A. Nakajima, G. Uchida, T. Kawasaki, K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, K. Takenaka, M. Shiratani, Y. Setsuhara

    J. Appl. Phys.   118 ( 4 )   2015年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.4927217

  • Effects of cluster incorporation into hydrogenated amorphous silicon films in initial discharge phase on film stability 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Torigoe, W. Chen, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Thin Solid Films   587   2015年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2015.02.052

  • Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    40 ( 2 )   2015年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.14723/tmrsj.40.123

  • Antioxidative activity and growth regulation of Brassicaceae induced by oxygen radical irradiation 査読 国際誌

    N. Hayashi, R. Ono, M. Shiratani, A. Yonesu

    Jpn. J. Appl. Phys.   54 ( 6S2 )   2015年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.06GD01

  • Fabrication of p-i-n solar cells utilizing ZnInON by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

    K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1741   2015年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.248

  • ZnO-based semiconductors with tunable band gap for solar sell applications 招待 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. SPIE photonics west 2015   9364   2015年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1117/12.2078114

  • Effects of morphology of buffer layers on ZnO/sapphire heteroepitaxial growth by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

    T. Ide, K. Matsushima, R. Shimizu, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1741   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.87

  • Effects of Atmospheric Air Plasma Irradiation to Seeds of Radish Sprouts on Chlorophyll and Carotenoids Concentrations in their Leaves 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1723   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.39

  • Comparative Study on the Pulmonary Toxicity of Indium Hydroxide, Indium-Tin Oxide, and Indium Oxide Following Intratracheal Instillations into the Lungs of Rats 査読 国際誌

    A. Tanaka, M. Hirata, N. Matsumura, K. Koga, M. Shiratani, Y. Kiyohara

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1723   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.21

  • Multigeneration Effects of Plasma Irradiation to Seeds of Arabidopsis Thaliana and Zinnia on Their Growth 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1723   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2015.12

  • 反応性微粒子プラズマプロセスを用いたゲルマニウム結晶ナノ粒子含有膜の堆積と量子ドット太陽電池への応用 査読

    内田儀一郎, 市田大樹, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治

    スマートプロセス学会誌   4 ( 1 )   2015年1月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Photovoltaic application of Si nanoparticles fabricated by multihollow plasma discharge CVD: Dye and Si co-sensitized solar cells 査読 国際誌

    H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   54 ( 1S )   2015年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.54.01AD02

  • Synthesis and characterization of ZnInON semiconductor: a ZnO-based compound with tunable band gap 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashia, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Mater. Res. Express   1 ( 3 )   2014年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/2053-1591/1/3/036405

  • Growth mechanism of ZnO deposited by nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    I. Suhariadi, M. Shiratani, N. Itagaki

    Mater. Res. Express   1 ( 3 )   2014年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/2053-1591/1/3/036403

  • Performance enhancement of dye and Si quantum dot hybrid nanostructured solar cell with TiO2 barrier 査読 国際誌

    H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    39 ( 3 )   2014年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.14723/tmrsj.39.321

  • Off-axis sputter deposition of ZnO films on c-sapphire substrates by utilizing nitrogen-mediated crystallization method 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Opt. Engineering   53 ( 8 )   2014年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1117/1.OE.53.8.087109

  • Dust Hour Glass in a Capacitive RF Discharge 査読 国際誌

    S. Iwashita, E. Schungel, J. Schulze, P. Hartmann, Z. Donko, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    IEEE Trans. Plasma Science   42 ( 10 )   2014年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2014.2343975

  • SiC Nanoparticle Composite Anode for Li-Ion Batteries 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, H. Seo, N. Itagaki, T. Ishihara

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1678   2014年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2014.742

  • Plasma induced long-term growth enhancement of Raphanus sativus L. using combinatorial atmospheric air dielectric barrier discharge plasmas 査読 国際誌

    S. Kitazaki, T. Sarinont, K. Koga, N. Hayashi, M. Shiratani

    Curr. Appl. Phys.   14 ( 2 )   2014年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2013.11.056

  • Plasma etching of single fine particle trapped in Ar plasma by optical tweezers 査読 国際誌

    T. Ito, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012014

  • Control of the area irradiated by the sheet-type plasma jet in atmospheric pressure 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Kawano, H. Mizoguchi, Y. Yano, K. Yamashita, M. Sakai, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012016

  • Development and Progress in Thin Film Si Photovoltaic Technologies by Photovoltaic Power Generation Technology Research Association 査読 国際誌

    I. Yoshida, T. Matsui, H. Sai, T. Suezaki, H. Katayama, M. Matsumoto, S. Sugiyama, T. Masuda, M. Ushijima, S. Nonomura, M. Shiratani, M. Konagai, K. Saito, M. Kondo, M. Tanaka, S. Niki

    Proc. 40th IEEE PVSC   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2014.6925520

  • Formation of carbon nanoparticle using Ar+CH4 high pressure nanosecond discharges 査読 国際誌

    K. Koga, X. Dong, S. Iwashita, U. Czarnetzki and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012020

  • Growth enhancement effects of radish sprouts: atmospheric pressure plasma irradiation vs. heat shock 査読 国際誌

    T. Sarinont, T. Amano, S. Kitazaki, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani and N. Hayashi

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012017

  • Preparation of Si nanoparticles by laser ablation in liquid and their application as photovoltaic material in quantum dot sensitized solar cell 査読 国際誌

    P. Chewchinda, K. Hayashi, D. Ichida, H. Seo, G. Uchida, M. Shiratani, O. Odawara and H. Wada

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012023

  • Visualization of the Distribution of Oxidizing Substances in an Atmospheric Pressure Plasma Jet 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Kawano, H. Mizoguchi, Y. Yano, K. Yamashita, M. Sakai, T. Shimizu, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    IEEE Trans. Plasma Science   42 ( 10 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1109/TPS.2014.2325038

  • Contribution of H2 plasma etching to radial profile of amount of dust particles in a divertor simulator 査読 国際誌

    M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura and A. Sagara, the LHD Experimental Group

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012009

  • Contribution of ionic precursors to deposition rate of a-Si:H films fabricated by plasma CVD 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, Y. Torigoe, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012008

  • Deposition of crystalline Ge nanoparticle films by high-pressure RF magnetron sputtering method 査読 国際誌

    D. Ichida, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012002

  • Effects of filter gap of cluster-eliminating filter on cluster eliminating efficiency 査読 国際誌

    Y. Hashimoto, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012007

  • Emission spectroscopy of Ar + H-2+ C7H8 plasmas: C7H8 flow rate dependence and pressure dependence 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine and M. Hori

    J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012010

  • スパッタリング成膜法による高品質酸化亜鉛薄膜の形成 査読

    板垣奈穂、古閑一憲、白谷正治

    応用物理   83 ( 5 )   2014年5月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Sterilization characteristics of the surfaces of agricultural products using active oxygen species generated by atmospheric plasma and UV light 査読 国際誌

    N. Hayashi, Y, Yagyu, A. Yonesu, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   53 ( 5S1 )   2014年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.05FR03

  • Nanostructure Control of Si and Ge Quantum Dots Based Solar Cells Using Plasma Processes 査読 国際誌

    M. Shiratani, G. Uchida, H. Seo, D. Ichida, K. Koga, N. Itagaki, and K. Kamataki

    Materials Science Forum   783-786   2014年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/MSF.783-786.2022

  • Performance dependence of Si quantum dot-sensitized solar cells on counter electrode 査読 国際誌

    H. Seo, D. Ichida, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   53 ( 5S1 )   2014年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.05FZ01

  • Study on the Crystal Growth Mechanism of ZnO Films Fabricated Via Nitrogen Mediated Crystallization 査読 国際誌

    I. Suhariadi, K. Oshikawa, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, and N. Itagaki

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015064

  • Effects of Atmospheric Air Plasma Irradiation on pH of Water 査読 国際誌

    T. Sarinont, K. Koga, S. Kitazaki, G. Uchida, N. Hayashi, M. Shiratani

    JPS Conf. Proc.   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015078

  • The enhancement of dye adsorption in dye-sensitized solar module by an electrical adsorption method 査読 国際誌

    H. Seo, M. Son, H. Kim, M. Shiratani

    Thin Solid Films   554   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.05.153

  • Combinatorial Plasma CVD of Si Nanoparticle Composite Films for Band Gap Control 査読 国際誌

    G. Uchida, Y. Kanemitsu, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015080

  • Correlation between nanoparticle growth and plasma parameters in low pressure reactive VHF discharge plasmas 査読 国際誌

    M. Shiratani, Y. Morita, K. Kamataki, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015083

  • Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD 査読 国際誌

    X. Dong, R. Torigoe, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani, N. Itagaki, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Sekine, .M. Hori

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015072

  • Effects of Grid DC Bias on Incorporation of Si Clusters into Amorphous Silicon Thin Films in Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Kim, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015069

  • Effects of H2 Gas Addition on Structure of Ge Nanoparticle Films Deposited by High-pressure RF Magnetron Sputtering Method 査読 国際誌

    G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015082

  • Electrochemical impedance analysis on the additional layers for the enhancement on the performance of dye-sensitized solar cell 査読 国際誌

    H. Seo, M. Son, S. Park, M. Jeong, H. Kim, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Thin Solid Films   554   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.08.103

  • Off-axis sputter deposition of ZnO films on c-sapphire substrates with buffer layers prepared via nitrogen-mediated crystallization 招待 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. SPIE photonics west 2014   8987   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1117/12.2041081

  • Spatial Profile of Flux of Dust Particles Generated due to Interaction between Hydrogen Plasmas and Graphite Target 査読 国際誌

    M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experimental Group

    Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.7566/JPSCP.1.015020

  • Substrate temperature dependence of hydrogen content of a-Si:H film deposited with a cluster-eliminating filter 査読 国際誌

    Y. Hashimoto, S. Toko, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of growth enhancement by plasma irradiation to seeds in water 査読 国際誌

    T. Sarinont, K. Koga, S. Kitazaki, M. Shiratani, N. Hayashi

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Fluctuation and Nanotechology 査読 国際誌

    M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Formation of microcones accompanied with ripple patterns in laser-activated plasma CVD of sp(3)-bonded BN films 査読 国際誌

    S. Komatsu and M. Shiratani

    J. Mater. Res.   29 ( 4 )   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1557/jmr.2014.7

  • Long term growth of radish sprouts after atmospheric pressure DBD plasma irradiation to seeds 査読 国際誌

    T. Amano, T. Sarinont, S. Kitazaki, N. Hayashi, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Multi-generation evaluation of plasma growth enhancement to arabidopsis thaliana (Invited) 招待 査読 国際誌

    K. Koga, T. Sarinont, S. Kitazaki, N. Hayashi, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Sterilization characteristics of agricultural products using active oxygen species generated by plasma and UV light (Invited) 招待 査読 国際誌

    N. Hayashi, Y. Yagyu, A. Yonesu, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Visualization of oxidizing substances generated by atmospheric pressure non-thermal plasma jet with water 査読 国際誌

    T. Kawasaki, K. Kawano, H. Mizoguchi, Y. Yano, K. Yamashita, M. Sakai, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • A model for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, K. Kamataki, S. Iwashita, Y. Morita, H. Seo, N. Itagaki, G. Uchida

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Analysis of fluctuation of Ar metastable density and nanoparticle amount in capacitively coupled discharges with amplitude modulation 査読 国際誌

    Y. Morita, T. Ito, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Analysis on the photovoltaic property of Si quantum dot-sensitized solar cells 査読 国際誌

    H. Seo, D. Ichida, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Int. J. Precision Eng. Manuf.   15 ( 2 )   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1007/s12541-014-0343-8

  • Combinatorial evaluation of optical properties of crystalline Si nanoparticle embedded Si films deposited by a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    Y. Kanemitsu, G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Coupling between radicals and nanoparticles in initial growth phase in reactive plasmas with amplitude modulation (Invited) 招待 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Morita, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Itagaki, G. Uchida, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of Crystalline Ge Nanoparticle Films Varying H2 Dilution Ratio Using High Pressure rf Magnetron Sputtering 査読 国際誌

    S. Hashimoto, D. Ichida, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of amplitude modulation on deposition of hydrogenated amorphous silicon films using multi-Hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    Y. Torigoe, Y. Hashimoto, S. Toko, Y. Kim, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Epitaxial growth of ZnO films on sapphire substrates by magnetron sputtering: Effects of buffer layers prepared via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    T. Ide, K. Matsushima, R. Shimizu, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Fabrication of In-rich ZnInON filmswith narrow band gap by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

    K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Fabrication of SiC nanoparticles as high capacity electrodes for Li-ion batteries 査読 国際誌

    G. Uchida, K. Kamataki, D. Ichida, Y. Morita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, T. Ishihara, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Fabrication of size-controlled Ge nanoparticle films varying gas flow rate using high pressure rf magnetron sputtering method 査読 国際誌

    D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, H. Seo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Fine response of deposition rate of Si films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD with amplitude modulation 査読 国際誌

    S. Toko, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, Y. Torigoe, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Magnetron sputtering of low-resistive In2O3:Sn films with buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

    K. Oshikawa, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Nanoparticle amount in reactive plasmas with amplitude modulation detected by twodimensional laser light scattering method 査読 国際誌

    T. Ito, Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Pressure dependence of carbon film deposition using H-assisted plasma CVD 査読 国際誌

    X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Quantum characterization and photovoltaic application of Si nano-particles fabricated by multi-hollow plasma discharge chemical vapor deposition 査読 国際誌

    H. Seo, D. Ichida, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Raman spectroscopy of a fine particle optically trapped in plasma 査読 国際誌

    D. Yamashita, K. Koga, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Spatial profile of flux of dust particles in hydrogen helicon plasmas 査読 国際誌

    M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Sputter Deposition of Ga-doped Zinc Oxide (GZO) Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization 査読 国際誌

    T. Nakanishi, K. Oshikawa, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Sputtering fabrication of a novel widegap semiconductor ZnGaON for optoelectronic devices with wide bandgap for optical device 査読 国際誌

    R. Shimizu, K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Study on nitrogen desorption behavior of sputtered ZnO for transparent conducting oxide 査読 国際誌

    I. Suhariadi, K. Oshikawa, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Subacute toxicity of gallium arsenide, indium arsenide and arsenic trioxide following intermittent intrantracheal instillations to the lung of rats 査読 国際誌

    A. Tanaka, M. Hirata, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Hayashi, G. Uchida

    Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Theory for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, K. Kamataki, S. Iwashita, G. Uchida, H. Seo, and N. Itagaki

    Jpn. J. Appl. Phys.   53 ( 1 )   2014年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.010201

  • Self-organized formation of hierarchically-ordered structures in laser-activated plasma CVD of sp(3)-bonded BN films 査読 国際誌

    S. Komatsu, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   53 ( 1 )   2014年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.53.010202

  • The improvement on the performance of quantum dot-sensitized solar cells with functionalized Si 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, M. Sato, G. Uchida, K. Koga, N. Itagaki, K. Kamataki, M. Shiratani

    Thin Solid Films   546   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.04.073

  • Correlation between Volume Fraction of Silicon Clusters in Amorphous Silicon Films and Optical Emission Properties of Si and SiH 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, and M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NA07

  • Effects of Nitrogen on Crystal Growth of Sputter-Deposited ZnO Films for Transparent Conducting Oxide 査読 国際誌

    I. Suhariadi, K. Oshikawa, K. Kuwahara, K. Matsushima, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NB03

  • Epitaxial Growth of ZnInON Films with Tunable Band Gap from 1.7 eV to 3.3 eV on ZnO Templates 査読 国際誌

    K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NM06

  • Flux Control of Carbon Nanoparticles Generated due to Interactions between Hydrogen Plasmas and Graphite Using DC-Biased Substrates 査読 国際誌

    K. Koga, M. Tateishi, K. Nishiyama, G. Uchida, K. Kamataki, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, Akiko Sagara, the LHD Experimental Group

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NA08

  • Improvement on the Electron Transfer of Dye-Sensitized Solar Cell Using Vanadium Doped TiO2 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, D. Ichida, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, S. Nam, J. Boo

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NM02

  • Characteristics of Crystalline Silicon/Si Quantum Dot/Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Hybrid Solar Cells 査読 国際誌

    G. Uchida, Y. Wang, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.11NA05

  • Study on the Fabrication of Paint-Type Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    H. Seo, M. Son, H. Kim, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 10S )   2013年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.10MB07

  • 研究生産性の向上

    白谷正治

    表面科学   34 ( 10 )   2013年10月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Extension of operation regimes and investigation of three-dimensional currentless plasmas in the Large Helical Device 査読 国際誌

    O. Kaneko, H. Yamada, S. Inagaki, M. Jakubowski, S. Kajita, S. Kitajima, Kobayashi, K. Koga, T. Morisaki, S. Morita, T. Mutoh, S. Sakakibara, Y. Suzuki, H. Takahashi, K. Tanaka, K. Toi, Y. Yoshimura, T. Akiyama, Y. Asahi, N. Ashikawa, H. Chikaraishi, A. Cooper, D.S. Darrow, E. Drapiko, P. Drewelow, X. Du, A. Ejiri, M. Emoto, T. Evans N. Ezumi, K. Fujii, T. Fukuda, H. Funaba, M. Furukawa, D.A. Gates, M. Goto, T. Goto, W. Guttenfelder, S. Hamaguchi, M. Hasuo, T. Hino, Y. Hirooka, K. Ichiguchi, K. Ida, H. Idei, T. Ido, H. Igami, K. Ikeda, S. Imagawa, T. Imai, M. Isobe, M. Itagaki, T. Ito, K. Itoh, S. Itoh, A. Iwamoto, K. Kamiya, T. Kariya, H. Kasahara, N. Kasuya, D. Kato, T. Kato, K. Kawahata, F. Koike, S. Kubo, R. Kumazawa, D. Kuwahara, S. Lazerson, H. Lee, S. Masuzaki, S. Matsuoka, H. Matsuura, A. Matsuyama, C. Michael, D. Mikkelsen, O. Mitarai, T. Mito, J. Miyazawa, G. Motojima, K. Mukai, A. Murakami, I. Murakami, S. Murakami, T. Muroga, S. Muto, K. Nagaoka, K. Nagasaki, Y. Nagayama, N. Nakajima, H. Nakamura, Y. Nakamura, H. Nakanishi, H. Nakano, T. Nakano, K. Narihara, Y. Narushima, K. Nishimura, S. Nishimura, M. Nishiura, Y.M. Nunami, T. Obana, K. Ogawa, S. Ohdachi, N. Ohno, N. Ohyabu, T. Oishi, M. Okamoto, A. Okamoto, M. Osakabe, Y. Oya1, T. Ozaki, N. Pablant, B.J. Peterson, A. Sagara, K. Saito, R. Sakamoto, H. Sakaue, M. Sasao2, K. Sato, M. Sato, K. Sawada, R. Seki, T. Seki, V. Sergeev, S. Sharapov, I. Sharov, A. Shimizu, T. Shimozuma, M. Shiratani, M. Shoji, S. Sudo, H. Sugama, C. Suzuki, K. Takahata, Y. Takeiri, Y. Takemura, M. Takeuchi9, H. Tamura, N. Tamura, H. Tanaka, T. Tanaka, M. Tingfeng, Y. Todo, M. Tokitani, K. Tokunaga, T. Tokuzawa, H. Tsuchiya, K. Tsumori, Y. Ueda, L. Vyacheslavov, K.Y. Watanabe, T. Watanabe, T.H. Watanabe, B. Wieland, I. Yamada, S. Yamada, S. Yamamoto, N. Yanagi, R. Yasuhara, M. Yokoyama, N. Yoshida, S. Yoshimura, T. Yoshinaga, M. Yoshinuma and A. Komori

    Nuclear Fusion   53 ( 10 )   2013年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0029-5515/53/10/104015

  • ナノ材料のプラズマプロセシングの研究の現状と将来

    白谷正治, 古閑一憲, 内田儀一郎, Hyunwoong Seo, 板垣奈穂, 岩下伸也

    表面科学   34 ( 10 )   2013年10月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Characteristics of photocurrent generation in the near-ultraviolet region in Si quantum-dot sensitized solar cells 査読 国際誌

    G. Uchida, M. Sato, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Thin Solid Films   544   2013年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2013.04.111

  • Effects of nanoparticle incorporation on properties of microcrystalline films deposited using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    Y. Kim, T. Matsunaga, K. Nakahara, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Surf. Coat. Technol.   228 ( 1 )   2013年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2012.04.029

  • Mass density control of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD method 査読 国際誌

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Surf. Coat. Technol.   228 ( 1 )   2013年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2012.10.002

  • Effects of DC Substrate Bias Voltage on Dust Flux in the Large Helical Device 査読 国際誌

    K. Koga, K. Nishiyama, Y. Morita, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experimental Group

    J. Nucl. Mater.   438   2013年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jnucmat.2013.01.154

  • Observation of nanoparticle growth process using a high speed camera 国際誌

    Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

    ISPC 21 Proceedings   2013年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Discharge power dependence of carbon dust flux in a divertor simulator 査読 国際誌

    K. Nishiyama, Y. Morita, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group, S. Bornholdt, and H. Kersten

    J. Nucl. Mater.   438   2013年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jnucmat.2013.01.169

  • Growth control of ZnO nano-rod with various seeds and photovoltaic application 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series (11th APCPST)   441 ( 1 )   2013年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/441/1/012029

  • Investigations on Plasma-Biomolecules Interactions as Fundamental Process for Plasma Medicine 査読 国際誌

    K. Takenaka, K. Cho, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine and M. Hori

    J. Phys. : Conference Series (11th APCPST)   441 ( 1 )   2013年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/441/1/012001

  • Transport control of dust particles via the Electrical Asymmetry Effect: experiment, simulation, and modeling 査読 国際誌

    S. Iwashita, E. Schungel, J. Schulze, P. Hartmann, Z. Donko, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    J. Phys. D: Appl. Phys.   46   2013年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Characterization of the energy flux toward the substrate during magnetron sputter deposition of ZnO thin films 査読 国際誌

    S. Bornholdt, N. Itagaki, K. Kuwahara, H. Wulff, M. Shiratani and H. Kersten

    Plasma Sources Sci. Technol.   22 ( 2 )   2013年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/22/2/025019

  • Analysis on the effect of polysulfide electrolyte composition for higher performance of Si quantum dot-sensitized solar cells 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Electrochimica Acta   95 ( 1 )   2013年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2013.02.026

  • Crystallinity control of sputtered ZnO films by utilizing buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization: Effects of nitrogen flow rate 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Oshikawa, K. Matsushima, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Plasma interactions with aminoacid (L-alanine) as a basis of fundamental processes in plasma medicine 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Current Applied Physics   13 ( 1 )   2013年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cap.2013.01.030

  • Control of Deposition Profile and Properties of Plasma CVD Carbon Films 査読 国際誌

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Control of nanoparticle formation in reactive plasmas and its application to fabrication of green energy devices 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

    Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • The reduction of charge recombination and performance enhancement by the surface modification of Si quantum dot-sensitized solar cell 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Electrochimica Acta   87 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.electacta.2012.09.087

  • H-2/N-2 plasma etching rate of carbon films deposited by H-assisted plasma CVD 査読 国際誌

    T. Urakawa, R. Torigoe, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, K. Takeda, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AB01

  • Dust particle formation due to interaction between graphite and helicon deuterium plasmas 査読 国際誌

    S. Iwashita, K. Nishiyama, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Fusion Engineering and Design   88 ( 1 )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.fusengdes.2012.10.002

  • Effects of Hydrogen Dilution on ZnO Thin Films Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization 査読 国際誌

    I. Suhariadi, K. Matsushima, K. Kuwahara, K. Oshikawa, D. Yamashita, H. Seo, G. Uchida, K. Kamtaki, K. Koga, M. Shiratani, S. Bornholdt, H. Kersten, Harm Wulff, N. Itagaki

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1S )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AC08

  • High Amount Cluster Incorporation in Initial Si Film Deposition by SiH4 Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1S )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AD01

  • Improvement of Si Adhesion and Reduction of Electron Recombination for Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, M. Sato, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1S )   2013年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7567/JJAP.52.01AD05

  • Sputter deposition of Epitaxial Zinc-Indium Oxynitride Films for Excitonic Transistors (Invited) 招待 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. International Symposium on Dry Process   34   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Growth Control of Dry Yeast Using Scalable Atmospheric Pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma Irradiation 査読 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 11 )   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.11PJ02

  • Investigation of chemical bonding states at interface of Zn/organic materials for analysis of early stage of inorganic/organic hybrid multi-layer formation 査読 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   523   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2012.05.061

  • The 24th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-24) Preface 査読 国際誌

    T. Shirafuji, Y. Setsuhara, M. Shiratani, T. Kaneko, T. Watanabe, N. Ohtake

    Thin Solid Films   523   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2012.10.002

  • The Blocking Effect of Charge Recombination by sputtered and acid-treated ZnO Thin Film in Dye-sensitized Solar Cells 査読 国際誌

    H. Seo, Min-Kyu Son, Songyi Park, Hee-Je Kim, M. Shiratani

    J. Photochem. Photobiol., A : Chemistry   248   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.jphotochem.2012.08.016

  • Control of radial density profile of nano-particle produced in reactive plasma by amplitude modulation of rf discharge voltage 査読 国際誌

    K. Kamataki, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    Thin Solid Films   523   2012年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2012.07.059

  • Effects of crystalline nanoparticle incorporation on growth, structure, and properties of microcrystalline silicon films deposited by plasma CVD 査読 国際誌

    Y. Kim, T. Matsunaga, K. Nakahara ,G. Uchida, K. Kamataki , N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

    Thin Solid Films   523   2012年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2012.06.023

  • Improvement on the long-term stability of dye-sensitized solar module by structural alternation 査読 国際誌

    H. Seo, M. K. Son, M. Shiratani, H. J. Kim

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 10 )   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.10NE21

  • Evaluation of Crystal Orientation for (K, Na)NbO3 Films Using X-ray Diffraction Reciprocal Space Map and Relationship between Crystal Orientation and Piezoelectric Coefficient 査読 国際誌

    K. Shibata, K. Suenaga, K. Watanabe, F. Horikiri, T. Mishima, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 7 )   2012年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.075502

  • ZnO:Al Thin Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization: Effects of N2/Ar Gas Flow Rate Ratio 査読 国際誌

    I. Suhariadi, N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Oshikawa, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, K. Nakahara, M. Shiratani

    37 ( 2 )   2012年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.14723/tmrsj.37.165

  • Sheath-to-sheath transport of dust particles in a capacitively coupled discharge 査読 国際誌

    Plasma Sources Sci. Technol.   21 ( 3 )   2012年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/21/3/032001

  • Subacute pulmonary toxicity of copper indium gallium diselenide following intratracheal instillations into the lungs of rats 査読 国際誌

    A. Tanaka, M. Hirata, M. Shiratani, K. Koga, Y. Kiyohara

    Journal of Occupational Health   54 ( 3 )   2012年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1539/joh.11-0164-OA

  • High quality epitaxial ZnO films grown on solid-phase crystallized buffer layers 査読 国際誌

    K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Thin Solid Films   520 ( 14 )   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2011.10.136

  • The Optical Analysis and Application of Size-controllable Si Quantum Dots Fabricated by Multi-hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.890

  • Effects of Atmospheric Pressure Dielectric Barrier Discharge Plasma Irradiation on Yeast Growth 査読 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1469   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.969

  • Influence of Atmospheric Pressure Torch Plasma Irradiation on Plant Growth 査読 国際誌

    Y. Akiyoshi, N. Hayashi, S. Kitazaki, K. Koga and M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1469   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.970

  • Rapid Growth of Radish Sprouts Using Low Pressure O2 Radio Frequency Plasma Irradiation 査読 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1469   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.966

  • Characteristics of stable a-Si:H Schottoky cells fabricated by suppressing cluster deposition 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, Y. Kim, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.1245

  • In situ analysis of size dispersion of nano-particles in reactive plasma using two dimentional laser light scattering method 査読 国際誌

    K. Kamataki, Y. Morita, M. Shiratani, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki

    Journal of Instrumentation   7 ( 4 )   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1748-0221/7/04/C04017

  • In-situ Measurements of Cluster Volume Fraction in Silicon Thin Films Using Quartz Crystal Microbalances 査読 国際誌

    Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/opl.2012.839

  • Effect of nitridation of Si nano-particles on the performance of quantum-dot sensitized solar cells 査読 国際誌

    G. Uchida, K. Yamamoto, M. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AD01

  • Effects of Irradiations with Ions and Photons in UV-VUV Regions on Nano-Surface of Polymers Exposed to Plasma 査読 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Jpn. J. Appl. Phys,   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AJ02

  • Electron field emission from SP3-bonded bn microcones as a nonlinear cooperative phenomenon 査読 国際誌

    S. Komatsu, M. Shiratani

    Far East Journal of Dynamical Systems   18 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Growth Enhancement of Radish Sprouts Induced by Low Pressure O2 Radio Frequency Discharge Plasma Irradiation 査読 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AE01

  • Combinatorial Deposition of Microcrystalline Silicon Films Using Multihollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    K. Koga, T. Matsunaga, Y. Kim, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, and M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AD02

  • Deposition of cluster-free B-doped a-Si:H films using SiH4+B10H14 multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    K. Koga, K. Nakahara, Y. Kim, T. Matsunaga, D.Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.51.01AD03

  • Zno films with buffer layers crystallized via nitrogen mediation: Effects of deposition temperature of buffer layers 査読 国際誌

    K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of FeSi2 nano-particle film 国際誌

    M. Sato, Y. Wang, K. Nakahara, T. Matsunaga, H. Seo, G. Uchida, K. Koga and M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of substrate bias voltage on plasma anisotropic CVD of carbon using H-assisted plasma CVD reactor 国際誌

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Growth promotion characteristics of bread yeast by atmospheric pressure dielectric barrier discharge plasma irradiation 国際誌

    S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Hayashi

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Production Process of Carbon Nanotube Coagulates 国際誌

    T. Mieno, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Transport of dust particles in multi-frequency capacitively coupled radio frequency discharges 国際誌

    G. Uchida, S. Iwashita, J. Schungel, M. Shiratani, U. Czarnetzki

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Influence of active oxygen species produced by atmospheric torch plasma on plant growth 査読 国際誌

    N. Hayashi, Y. Akiyoshi, S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Investigation of plasma interactions with organic semiconductors for fabrication of flexible electronics devices 査読 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Optical emission spectroscopy of Ar+H2+ C7H8 discharges for anisotropic plasma CVD of carbon 査読 国際誌

    T. Urakawa, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Quantum dot-sensitized solar cells using nitridated si nanoparticles produced by double multi-hollow discharges 査読 国際誌

    M. Sato, Y. Wang, K. Nakahara, T. Matsunaga, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Stable schottky solar cells using cluster-free a-si:h prepared by multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    K. Hatozaki, K. Nakahara, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • The improvement on the long-term stability of dye-sensitized solar module by structural alternation 査読 国際誌

    H. Seo, Min-Kyu Son, M. Shiratani, Hee-Je Kim

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • フレキシブルデバイス創製に向けたプラズマ—ソフトマテリアル相互作用の解析 査読

    趙研, 節原裕一, 竹中弘祐, 白谷正治, 関根誠, 堀勝

    高温学会誌   37 ( 6 )   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.7791/jhts.37.289

  • Collection of carbon dust particles formed due to plasma-wall interactions between high density H2 plasma and carbon wall onto substrates by applying local DC bias voltage 国際誌

    K. Nishiyama, Y. Morita, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group, S. Bornholdt, H. Kersten

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of cluster-free a-Si:H films using cluster eliminating filter 国際誌

    K. Nakahara, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, T. Matsunaga, M. Sato, D. Yamashita, H. Matsuzaki, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of highly stable cluster-free a-Si:H films using fast gas flow multi-hollow discharge plasma CVD method 国際誌

    K. Hatozaki, K. Nakahara, T. Matsunaga, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of electrolyte on performance of quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles synthesized by multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    Y. Wang, M. Sato, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of N2 gas addition to sputtering plasma on properties of epitaxial ZnO films 国際誌

    K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, Seo H., G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of nanoparticle incorporation on Si thin films deposited by plasma CVD 国際誌

    M. Shiratani, Y. Kim, T. Matsunaga, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Influence of nano-particles on multi-hollow discharge plasma for microcrystalline silicon thin films deposition 国際誌

    T. Matsunaga, Y. Kim, K. Koga, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Low resistive ZnO:Al films with ZnO buffer layers fabricated by Ar/N2 magnetron sputtering 国際誌

    N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Performance enhancement of Si quantum dot-sensitized solar cells by surface modification using ZnO barrier layer 国際誌

    Y. Wang, M. Sato, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Radical Flux Evaluation to Microcrystalline Silicon Films Deposited by Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 国際誌

    Y. Kim, T. Matsunaga, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Self-organized carbon Mk formation on the top surface of fine trenches using a low temperature plasma anisotropic CVD for depositing fine organic structure 国際誌

    K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Study of interaction between plasma fluctuation and nucleation of nanoparticle in plasma CVD 国際誌

    K. Kamataki, K. Koga, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Combinatorial study on effects of substatrate temperature of silicon film deposition using multi-hollow discharge plasma cvd 査読 国際誌

    Y. Kim, T. Matsunaga, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Defect density of cluster-free a-si:h films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    K. Nakahara, K. Hatozaki, M. Sato, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of nano-particles on (220) crystal orientation of microcrystallite silicon thin films 査読 国際誌

    T. Matsunaga, Y. Kim, K. Koga, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Properties and performance of si quantum dot-sensitized solar cells with low temperature titania paste 査読 国際誌

    Y. Wang, M. Sato, T. Matsunaga, N. Itagaki, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Zinc oxide-based transparent conducting films with buffer layers fabricated via nitrogen-mediated crystallization 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. PVSEC-21   2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Surface nitridation of silicon nano-particles using double multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Nakahara, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Kondo, M. Shiratani

    Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201001230

  • Deposition of cluster-free P-doped a-Si:H films using SiH4+PH3 multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    K. Koga, K. Nakahara, Y. Kim, Y. Kawashima, T. Matsunaga, M. Sato, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

    Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201100229

  • Hybrid sensitized solar cells using Si nanoparticles and ruthenium dye 査読 国際誌

    G. Uchida, Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, K. Nakahara, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Kondo, M. Shiratani

    Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1002/pssc.201100166

  • Impacts of Amplitude Modulation of RF Discharge Voltage on the Growth of Nanoparticles in Reactive Plasma 査読 国際誌

    K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, M. Shiratani

    Appl. Phys. Express   4 ( 10 )   2011年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.4.105001

  • Impacts of Plasma Fluctuations on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma 国際誌

    K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    2011年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Comparison between silicon thin films with and without incorporating crystalline silicon nanoparticles into the film 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Kawashima, T. Matsunaga, M. Sato, K. Nakahara, W. M. Nakamura, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Thin Solid Films   519 ( 20 )   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2011.01.408

  • Effects of photoirradiation in UV and VUV regions during plasma exposure to polymers 査読 国際誌

    K. Cho, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   519 ( 20 )   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2011.04.060

  • Plasma processing of soft materials for development of flexible devices 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   519 ( 20 )   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2011.04.091

  • Redox Characteristics of Thiol Compounds Using Radicals Produced by Water Vapor Radio Frequency Discharge 査読 国際誌

    N. Hayashi, A. Nakahigashi, M. Goto, S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   50 ( 8 )   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.50.08JF04

  • Combinatorial study of substrate temperature dependence on properties of silicon films deposited using multihollow discharge plasma CVD 国際誌

    Y. Kim, T. Matsunaga, Y. Kawashima, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    2011年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition profile control of carbon films on submicron wide trench substrate using H-assisted plasma CVD 国際誌

    T. Urakawa, T. Nomura, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    2011年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Combinatorial analyses of plasma-polymer interactions 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Surf. Coat. Technol.   205 ( 2 )   2011年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2011.04.083

  • Nano-factories in plasma: present status and outlook 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki

    J. Phys. D: Appl. Phys.   44 ( 17 )   2011年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/44/17/174038

  • Generation and Surface Modification of Si nano-particles using SiH4/H2 and N2 multi-hollow discharges and their application to the third generation photovoltaics 招待 査読 国際誌

    K. Koga, G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    International Conference on Advances in Condensed and Nano Materials (ICACNM)   1393   2011年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1063/1.3653600

  • Highly Conducting and Very Thin ZnO:Al Films with ZnO Buffer Layer Fabricated by Solid Phase Crystallization from Amorphous Phase 査読 国際誌

    N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Appl. Phys. Express   4 ( 1 )   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.4.011101

  • Low-damage plasma processing of polymers for development of organic-inorganic flexible devices 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Surf. Coat. Technol.   205 ( 1 )   2010年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2010.08.031

  • マルチホロー放電プラズマCVDによる量子ドット増感太陽電池用シリコンナノ結晶粒子の作製

    内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

    ケミカルエンジニヤリング   55 ( 12 )   2010年12月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • High rate deposition of highly stable a-Si:H films using multi-hollow discharges for thin films solar cells 査読 国際誌

    W. M. Nakamura, H. Matsuzaki, H. Sato, Y. Kawashima, K. Koga, M. Shiratani

    Surf. Coat. Technol.   205 ( 1 )   2010年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2010.07.081

  • Fluctuation Control for Plasma Nanotechnologies 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5685920

  • Combinatorial Analysis of Plasma-Polymer Interactions for Soft Material Processing 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Takenaka, K. Cho, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of International Symposium on Dry Process   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of Photo-Irradiations in VUV and UV Regions on Chemical Bonding States of Polymers during Plasma Exposure 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of International Symposium on Dry Process   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Growth Stimulation of Radish Sprouts Using Discharge Plasma 査読 国際誌

    S. Kitazaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686474

  • Photoluminescence of Si nanoparticles synthesized using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, T. Matsunaga, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686677

  • Redox Characteristics of Amino Acids Using Low Pressure Water Vapor RF Plasma 査読 国際誌

    Y. Akiyoshi, A. Nakahigashi, N. Hayashi, S. Kitazaki, Takuro Iwao, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686467

  • Substrate temperature dependence of feature profile of carbon films on substrate with submicron trenches 査読 国際誌

    T. Nomura, T. Urakawa, Y. Korenaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686688

  • Optical and Electrical Properties of Particle Composite Thin Films deposited in SiH4/H2 and N2 Multi-Hollow Discharges 国際誌

    G. Uchida, M. Sato, Y. Kawashima, K. Yamamoto, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of MNC2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Substrate Temperature Dependence of Sticking Probability of SiOx-CH3 Nano-Particles 国際誌

    H. Miyata, K. Nishiyama, S. Iwashita, H. Matsuzaki, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of International Symposium on Dry Process   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Cluster-Free B-Doped a-Si:H Films Deposited Using SiH4 + B10H14 Multi-Hollow Discharges 査読 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686686

  • Deposition profiles of microcrystalline silicon films using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    T. Matsunaga, Y. Kawashima, K. Koga, K. Nakahara, W. M. Nakamura, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686679

  • Effects of Amplitude Modulation of rf Discharge Voltage on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma 査読 国際誌

    K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686456

  • Effects of Ar addition on breakdown voltage in a Si(CH3)2(OCH3)2 RF discharge 査読 国際誌

    G. Uchida, S. Nunomutra, H. Miyata, S. Iwashita, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TENCON.2010.5686704

  • Generation of nitridated silicon particles and their thin film deposition using double multi-hollow discharges 国際誌

    G. Uchida, M. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Yamamoto, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Academic Roadmap of Plasma Process Technologies 国際誌

    M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of Photoemissions in UV and VUV Regions on Nano-Surface Strucures of Soft Materials during Plasma Processes 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Investigation of Plasma Interactions with Soft Materials via Combinatorial Plasma-Process Analyzer for Plasma Nano Processes 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Plasma parameter measurements of Ar+H2+C7H8 plasma in H-assisted plasma CVD reactor 国際誌

    T. Nomura, T. Urakawa, Y. Korenaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Redox Characteristics of Thiol of Plants Using Radicals Produced by RF Discharge 国際誌

    A. Nakahigashi, Y. Akiyoshi, N. Hayashi, S. Kitazaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Carbon dust particles generated due to H2 plasma-carbon wall interaction 国際誌

    H. Miyata, K. Nishiyama, S. Iwashita, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD experimental group

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Combinatorial deposition of microcrystalline Si films using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    T. Matsunaga, Y. Kawashima, K. Koga, W. M. Nakamura, K. Nakahara, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition rate enhancement of cluster-free P-doped a-Si:H films using multi-hollow discharge plasma CVD method 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • X-Ray photoelectron spectroscopy analysis of plasma-polymer interactions for development of low-damage plasma processing of soft materials 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   518 ( 22 )   2010年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2010.01.057

  • Advanced research and development for plasma processing of polymers with combinatorial plasma-process analyzer 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, C. Ken, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   518 ( 22 )   2010年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2010.03.055

  • Development of a Combinatorial Plasma Process Analyzer for Advanced R&D of Next Generation Nanodevice Fabrications 査読 国際誌

    K. Takenaka, C. Ken, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. Characterization and Control of Interfaces for high quality advanced materials III   219   2010年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1002/9780470917145.ch40

  • Hard X-ray photoelectron spectroscopy analysis for organic-inorganic hybrid materials formation 査読 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E. Ikenaga, H. Kondo, O. Nakatsukado, S. Zaima

    Proc. Characterization and Control of Interfaces for high quality advanced materials III   219   2010年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1002/9780470917145.ch27

  • Quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles 査読 国際誌

    Y. Kawashima, K. Nakahara, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    35 ( 3 )   2010年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • プラズマ・プロセス技術 招待 査読

    白谷正治

    応用物理   79 ( 8 )   2010年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Combinatorial Analysis of Plasma-Surface Interactions of Poly(ethylene terephthalate) with X-ray Photoelectron Spectroscopy 査読 国際誌

    K. Takenaka, C. Ken, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Japanese Journal of Applied Physics   49 ( 8 )   2010年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.49.08JA02

  • Si quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles produced by plasma CVD 査読 国際誌

    Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, K. Nakahara, T. Matsunaga, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2010.5617205

  • Effects of hydrogen dilution on electron density in multi-hollow discharges with magnetic field for A-Si:H film deposition 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Kawashima, K. Nakahara, T. Matsunaga, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2010.5616502

  • Deposition of cluster-free P-doped a-Si:H films using a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/PVSC.2010.5616514

  • Etching characteristics of organic low-k films interpreted by internal parameters employing a combinatorial plasma process in an inductively coupled H2/N2 plasma 査読 国際誌

    M. C. Sung, Keiko Takeda, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori

    J. Appl. Phys.   107 ( 11 )   2010年6月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3415535

  • Surface loss probabilities of H and N radicals on different materials in afterglow plasma employing H2 and N2 mixture gases 査読 国際誌

    C. S. Moon, K. Takeda, S. Takashima, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori

    J. Appl. Phys.   107 ( 10 )   2010年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.3372750

  • X-ray photoelectron spectroscopy for analysis of plasma-polymer interactions in Ar plasma sustained via RF inductive coupling with low-inductance antenna units 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, C. Ken, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E. Ikenaga, S. Zaima

    Thin Solid Films   518 ( 13 )   2010年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2009.11.038

  • Low-damage surface modification of polymethylmethacrylate with argon-oxygen mixture plasma driven by multiple low-inductance antenna units 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, C. Ken, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E. Ikenaga, S. Zaima

    Thin Solid Films   518 ( 13 )   2010年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2009.11.045

  • Review of pulmonary toxicity of indium compounds to animals and humans 査読 国際誌

    A. Tanaka, M. Hirata, Y. Kiyohara, M. Nakano, K. Omae, M. Shiratani, K. Koga

    Thin Solid Films   518 ( 11 )   2010年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2009.10.123

  • High performance of compact radical monitoring probe in H2/N2 mixture plasma 査読 国際誌

    C. S. Moon, K. Takeda, S. Takashima, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori

    J. Vac. Sci. Technol., B   28 ( 2 )   2010年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.3327926

  • X-Ray Photoelectron Spectroscopy Analysis of Plasma Interactions with Polymers for Development of Low-Damage and Low-Temperature Plasma Processes 国際誌

    K. Cho, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P2-33 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • A Low Pressure Combinatorial Plasma Process Employing an Integrated Monitoring 国際誌

    M. Hori, C. S. Moon, M. Sekine, K. Takeda, Y. Setushara, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( T-02 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Combinatorial Analysis of Plasma-Polymer Interactions for Advanced Polymer Nano-Processing with Density-Inclination Plasma 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( B5-01 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Control of deposition profile of hard carbon films on trenched substrates using H-assisted plasma CVD reactor 国際誌

    T. Nomura, Y. Korenaga, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P1-39 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of gas residence time and H2 dilution on electron density in multi-hollow discharges of SiH4+ H2 国際誌

    K. Koga, H. Sato, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( A5-06 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • In-situ Measurement of Production Process of Nanotube-Aggregates by the Laser-Mie Scattering (Dependence of Arc Condition and Gravity) 国際誌

    T. Mieno, GuoDong Tan, S. Usuba, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P2-17 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • In-Situ Sampling of Dust Particles Produced Due to Interaction between Main Discharge Plasma and Inner Wall in LHD 国際誌

    H. Miyata, S. Iwashita, YasuY. Yamada, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD Experimental Group

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P1-14 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurement of electron density in multi-hollow discharges with magnetic field 国際誌

    H. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( A6-01 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Observation of nano-particle transport in capacitively coupled radio frequency discharge plasma 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, YasuY. Yamada, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( P1-13 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Synthesis of crystalline Si nanoparticles for Quantum dots-sensitized solar cells using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    Y. Kawashima, K. Nakahara, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of the 27th symposium on plasma processing   ( B5-05 )   2010年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • High rate deposition of cluster-suppressed amorphous silicon films deposited using a multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

    K. Koga, H. Sato, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1210 ( Q07-10 )   2010年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-1210-Q07-10

  • Deposition Profile Control of Carbon Films on Patterned Substrates using a Hydrogen-assited Plasma CVD Method 査読 国際誌

    T. Nomura, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1222 ( DD05-16 )   2010年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-1222-DD05-16

  • Plasma surface treatment of polymers with inductivity-coupled RF plasma driven by low-inductance antenna units 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Cho, K. Takenaka, A. Ebe, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori, E. Ikenaga, H. Kondo, O. Nakatsukado, S. Zaima

    Thin Solid Films   518 ( 3 )   2009年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2009.07.161

  • Development of density-inclination plasma for analysis of plasma nano-processes via combinatorial method 査読 国際誌

    Y. Setsuhara, K. Nagao, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Thin Solid Films   518 ( 3 )   2009年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2009.07.162

  • Development of net-current free heliotron plasma in the Large Helical Device 査読 国際誌

    A. Komori, H. Yamada, S. Sakakibara, O. Kaneko, K. Kawahata, T. Mutoh, N. Ohyabu, S. Imagawa, K. Ida, Y. Nagayama, T. Shimozuma, K.Y. Watanabe, T. Mito, M. Kobayashi, K. Nagaoka, R. Sakamoto, N. Yoshida, S. Ohdachi, N. Ashikawa, Y. Feng, T. Fukuda, H. Igami, S. Inagaki, H. Kasahara, S. Kubo, R. Kumazawa, O. Mitarai, S. Murakami, Y. Nakamura, M. Nishiura, T. Hino, S. Muzaki, K. Tanaka, K. Toi, A. Weller, M. Yoshinuma, Y. Narushima, N. Ohno, T. Okamura, N. Tamura, K. Saito, T. Seki, S. Sudo, H. Tanaka, T. Tokuzawa, N. Yanagi, M. Yokoyama, Y. Yoshimura, T. Akiyama, H. Chikaraishi, M. Chowdhuri, M. Emoto, N. Ezumi, H. Funaba, L. Garcia, P. Goncharov, M. Goto, K. Ichiguchi, M. Ichimura, H. Idei, T. Ido, S. Iio, K. Ikeda, M. Irie, A. Isayama, T. Ishigooka, M. Isobe, T. Ito, K. Itoh, A. Iwamae, S. Hamaguchi, T. Hamajima, S. Kitajima, S. Kado, D. Kato, T. Kato, S. Kobayashi, K. Kondo, S. Mamune, Y. Matsumoto, N. Matsunami, T. Minami, C. Michael, H. Miura, J. Miyazawa, N. Mizuguchi, T. Morisaki, S. Morita, G. Motojima, I. Murakami, S. Muto, K. Nagasaki, N. Nakajima, Y. Nakamura, H. Nakanishi, H. Nakano, K. Narihara, A. Nishimura, H. Nishimura, K. Nishimura, S. Nishimura, N. Nishino, T. Notake1, T. Obana, K. Ogawa, Y. Oka, T. Ohishi, H. Okada, K. Okuno, K. Ono, M. Osakabe, T. Osako, T. Ozaki, B.J. P.son, H. Sakaue, M. Sasao, S. Satake, K. Sato, M. Sato, A. Shimizu, M. Shiratani, M. Shoji, H. Sugama, C. Suzuki, Y. Suzuki, K. Takahata, H. Takahashi, Y. Takase, Y. Takeiri, H. Takenaga, S. Toda, Y. Todo, M. Tokitani, H. Tsuchiya, K. Tsumori, H. Urano, E. Veshchev, F. Watanabe, T. Watanabe, T.H. Watanabe, I. Yamada, S. Yamada, O. Yamagishi, S. Yamaguchi, S. Yoshimura, T. Yoshinaga and O. Motojima

    Nuclear Fusion   49 ( 10 )   2009年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0029-5515/49/10/104015

  • Substrate temperature dependence of deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Inoue, T. Nomura, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Dust Particles formed owing to interactions between H2 or D2 helicon plasma, graphite 国際誌

    H. Miyata, S. Iwashita, YasuY. Yamada, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of electron density in SiH4+H2 multi-hollow discharges using a frequency shift probe 国際誌

    K. Nakahara, Y. Kawashima, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of Surface Temperature of a-Si:H Films in Silane Multi-Hollow Discharge with IR Thermometer 国際誌

    H. Sato, Y. Kawashima, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Porosity Control of Nano-Particle Composite Porous Low Dielectric Films using Pulse RF Discharges with Amplitude Modulation 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, H. Matsuzaki, M. Shiratani, M. Akiyama

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Pressure, aspect ratio dependence of deposition profile of carbon films on trench substrates deposited by plasma CVD 国際誌

    T. Nomura, Y. Korenaga, J. Umetsu, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Synthesis of Si nanoparticles for multiple exciton generation solar cells using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

    Y. Kawashima, H. Sato, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of 2009 International Symposium on Dry Process   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Toward plasma nano-factories 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga

    Proc. of 2nd International Conference on Advanced Plasma Technologies (iCAPT-II) with 1st International Plasma Nanoscience Symposium (iPlasmaNano-I)   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • A comparison of dust particles produced due to interaction between graphite and plasma: LHD vs helicon discharges 査読 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD experimental group

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Combinatorial Plasma Etching Process 査読 国際誌

    C. S. Moon, K. Takeda, M. Sekine, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Hori

    Applied Physics Express   2 ( 9 )   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/APEX.2.096001

  • Control of Three Dimensional Transport of Nano-blocks by Amplitude Modulated Pulse RF Discharges using an Electrode with Needles 査読 国際誌

    S. Iwashita, H. Miyata, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Dependence of volume fraction of clusters on deposition rate of a-Si:H films deposited using a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

    H. Sato, Y. Kawashima, M. Tanaka, K. Koga, W. M. Nakamura, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Detection of nano-particles formed in cvd plasma using a two-dimensional photon-counting laser-light-scattering method 査読 国際誌

    H. Miyahara, S. Iwashita, H. Miyata, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Optical Emission Spectroscopy of a Magnetically Enhanced Multi-hollow Discharge Plasma for a-Si:H Deposition 査読 国際誌

    W. M. Nakamura, Y. Kawashima, M. Tanaka, H. Sato, J. Umetsu, H. Miyahara, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    J. Plasma Fusion Res.   8   2009年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Plasma CVD of Nano-particle Composite Porous SiOCH Films 国際誌

    M. Shiratani, S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, H. Matsuzaki, M. Akiyama

    Proc. of 19th International Symposium on Plasma Chemistry   2009年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Characterization of Dust Particles Ranging in Size from 1 nm to 10 m Collected in LHD 査読 国際誌

    K. Koga, S. Iwashita, S. Kiridoshi, M. Shiratani, N. Ashikawa, K. Nishimura, A. Sagara, A. Komori, LHD Experimental Group

    Plasma and Fusion Research   4   2009年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1585/pfr.4.034

  • Nano-block manipulation using pulse RF discharges with amplitude modulation combined with a needle electrode

    S. Iwashita, H. Miyata, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Characteristics of dust particles produced due to interaction between hydrogen plasma, graphite

    S. Iwashita, H. Miyata, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, A. Sagara, K. Nisimura

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Conductivity of nc-Si films depsited using multi-hollow discharge plasma CVD method

    K. Koga, Y. Kawashima, W. M. Nakamura, H. Sato, M. Tanaka, M. Shiratani, M. Kondo

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Deposition profile of toluene plasma CVD carbon films in trenches

    J. Umetsu, K. Inoue, T. Nomura, H. Matsuzaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Effects of magnetic fields on multi-hollow discharges for thin film silicon solar cells

    Nakamura W. M., Sato H., Koga K., Shiratani M.

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • High Rate Deposition of a-Si:H Depositied using a Low Gas Pressure Multi-hollow Discharge Plasma CVD Method

    K. Koga, W. M. Nakamura, H. Sato, M. Tanaka, H. Miyahara, M. Shiratani

    Proc. of PSS2009/SPP26   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Recent progress in understanding the behavior of dust in fusion devices 査読 国際誌

    S. I. Krasheninnikov, R. D. Smirnov,Y. Tanaka,T. K. Soboleva, D. A. Mendis, D. L. Rudakov, W. P. West, C. H. Skinner, B. Lipschultz, R. S. Granetz, N. Ohno, S. Muzaki, M. Shiratani, R. Kumazawa, T. Nakano, R. Maqueda, A. Y. Pigarov, M. Rosenberg, D. J. Benson, T. D. Rognlien, B. D. Bray, J. H. Yu, A. L. Roquemore, J. L. Terry, A. Bader, C. S. Pitcher, S. Takamura, N. Ashikawa, M. Tokitani, N. Asakura, A. M. Litnovsky

    Plasma Physics and Controlled Fusion   50 ( 12 )   2008年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0741-3335/50/12/124054

  • Deposition profile of plasma CVD carbon films in trenches 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Inoue, T. Nomura, H. Matsuzaki, K. Koga, Y. Setsuhara, M. Shiratani, M. Sekine, M. Hori

    Proc. of 30th International Symposium on Dry Process   2008年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Plasma CVD of Nano-particle Composite Porous Films of k=1.4-2.9, Young’s Modulus above 10 GPa 査読 国際誌

    2008年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Two dimensional spatial profile of volume fraction of nanoparticles incorporated into a-Si:H films deposited by plasma CVD 査読 国際誌

    W. M. Nakamura, H. Miyahara, K. Koga, M. Shiratani

    IEEE Trans. Plasma Science   36 ( 4 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TPS.2008.923830

  • Cluster incorporation control for a-Si:H film deposition 査読 国際誌

    W. M. Nakamura, K. Koga, H. Miyahara, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series   100 ( 8 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/100/8/082018

  • Discharge power dependence of Ha intensity asn electron density of Ar+H2 discharges in H-assisted plasma CVD reactor 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Koga, K. Inoue, H. Matzuzaki, K. Takenaka, M. Shiratani

    Surf. Coat. Technol.   202 ( 22-23 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2008.06.108

  • Nanoparticle coagulation in fractionally charged and charge fluctuating dusty plasma 査読 国際誌

    S. Nunomura, K. Koga, Y. Watanabe, M. Shiratani, M. Kondo

    Phys. Plasma   15 ( 8 )   2008年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2972162

  • Optical emission spectroscopic study on H-assisted plasma for anisotropic deposition of Cu films 査読 国際誌

    J. Umetsu, K. Koga, K. Inoue, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series   100 ( 6 )   2008年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/100/6/062007

  • Rapid transport of nano-particles in amplitude modulated rf discharges for depositing porous ultra-low-k films 査読 国際誌

    S. Iwashita, K. Koga, M. Morita, M. Shiratani

    J. Phys. : Conference Series   100 ( 6 )   2008年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/100/6/062006

  • Temperature dependence of dielectric constant of nano-particle composite porous low-k films fabricated by pulse rf discharges with amplitude modulation 査読 国際誌

    S. Iwashita, Michihito Morita, H. Matsuzaki, K. Koga, and M. Shiratani

    Jpn. J. Appl. Phys.   47 ( 8 )   2008年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.47.6875

  • Nanoparticle-Suppressed Plasma CVD for Depositing Stable a-Si:H Films 査読 国際誌

    M. Shiratani, W. M. Nakamura, H. Miyahara, K. Koga

    Digest of Technical Papers of the Fifteenth International Workshop on Active-Matrix Flatpanel Displays, Devices (AM-FPD 08)   2008年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Rapid transport of nano-particles having a fractional elemental charge on average in capacitively coupled rf discharges by amplitude modulating discharge voltage 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, S. Iwashita, K. Koga, S. Nunomura

    Faraday Discussions   137   2008年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1039/B704910B

  • VHF discharge sustained in a small hole 査読 国際誌

    K. Koga, W. M. Nakamura, and M. Shiratani

    Proc. 28th Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2007年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Transport of nano-particles in capacitively coupled rf discharges without and with amplitude modulation of discharge voltage 招待 査読 国際誌

    K. Koga, S. Iwashita, M. Shiratani

    J. Phys. D: Appl. Phys.   40 ( 8 )   2007年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/40/8/S05

  • Single step process to deposit Si quantum dot films using H2+SiH4 VHF discharges and electron mobility in a Si quantum dot solar cell 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, S. Ando, T. Inoue, Y. Watanabe, S. Nunomura, M. Kondo

    Surf. Coat. Technol.   201 ( 9-11 )   2007年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2006.07.012

  • A device for trapping nano-particles formed in processing plasma for reduction of nano-waste 査読 国際誌

    S. Iwashita, K. Koga, M. Shiratani

    Surf. Coat. Technol.   201 ( 9-11 )   2007年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.surfcoat.2006.07.060

  • Transport of nano-particles in pulsed AM RF discharges

    S. Iwashita, K. Koga, M. Shiratani

    Proc. the 24th Symp. on Plasma Processing   2007年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • In-situ sampling of dust generated in LHD and its analysis

    M. Shiratani, S. Kiridoshi, K. Koga, S. Iwashita, N. Ashikawa, K. NIshimura, A. Sagara, A. Komori, LHD Experimental Group

    Proc. the 24th Symp. on Plasma Processing   2007年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Stability of a-Si:H deposited using multi-hollow plasma CVD

    K. Koga, W. M. Nakamura, D. Shimokawa, M. Shiratani

    Proc. the 24th Symp. on Plasma Processing   2007年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Species responsible for Si-H2 bond formation in a-Si:H films deposited using silane high frequency discharges 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, N. Kaguchi, K. Bando,and Y. Watanabe

    Thin Solid Films   506-507   2006年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.015

  • Mechanism of Cu deposition from Cu(EDMDD)2 using H-assisted plasma CVD 査読 国際誌

    K. Takenaka, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, and T. Shingen

    Thin Solid Films   506-507   2006年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.028

  • Nano-particle formation due to interaction between H2 plasma and carbon wall 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Kitaura, M. Shiratani, Y. Watanabe, and A. Komori

    Thin Solid Films   506-507   2006年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.062

  • Production of crystalline Si nano-clusters using pulsed H2+SiH4 VHF discharges 査読 国際誌

    T. Kakeya, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, and M. Kondo

    Thin Solid Films   506-507   2006年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.tsf.2005.08.090

  • In situ simple method for measuring size and density of nanoparticles in reactive plasma 査読 国際誌

    S. Nunomura, M. Kita,, K. Koga, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    J. Appl. Phys.   99 ( 8 )   2006年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2189951

  • BN micro-fibers grown by plasma-assisted laser chemical vapor deposition without a metal catalyst 査読 国際誌

    S. Komatsu, D. Kazami, Norihoro Tanaka, Y. Moriyoshi, M. Shiratani, KatsuY. Okada

    Appl. Phys. Express   88   2006年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2188381

  • Fabrication of nanoparticle composite porous films having ultra-low dielectric constant 査読 国際誌

    S. Nunomura, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, Y. Morisada, N. Matsuki, and S. Ikeda

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 ( 50 )   2005年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.44.L1509

  • Highly stable a-Si:H films deposited by using multi-hollow plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    K. Koga, T. Inoue, K. Bando, S. Iwashita, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   44 ( 48 )   2005年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.44.L1430

  • Cluster-eliminating filter for depositing cluster-free a-Si:H films by plasma CVD 査読 国際誌

    K. Koga, N. Kaguchi, K. Bando, and M. Shiratani

    Rev. Sci. Instrum.   76 ( 11 )   2005年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.2126572

  • Production of crystalline Si nano-particles using VHF discharges and their properties 査読 国際誌

    M. Shiratani, T. Kakeya, K. Koga, Y. Watanabe, and M. Kondo

    30 ( 1 )   2005年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Preparation of high-quality a-Si:H using cluster-suppressed plasma CVD method and its prospects 招待 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, and K. Koga

    30 ( 1 )   2005年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Control of deposition profile of Cu for LSI interconnects by plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

    K. Takenaka, M. Shiratani, M. Takeshita, M. Kita, K. Koga, and Y. Watanabe

    Pure Appl. Chem.   77 ( 2 )   2005年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1351/pac200577020391

  • Electron field emission from self-organized microemitters of sp3-bonded 5H boron nitride with very high current density at low electric field 査読 国際誌

    S. Komatsu, A. Okudo, D. Kazami, D. Golberg, Y. Li, Y. Moriyoshi, M. Shiratani, K. Okada

    J. Phys. Chem. B   108 ( 17 )   2004年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/jp0493475

  • Correlation between volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films and hydrogen content associated with Si-H2 bonds in the films 査読 国際誌

    K. Koga, N. Kaguchi, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    J. Vac. Sci. Technol., A   22 ( 4 )   2004年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.1763905

  • Anisotropic Deposition of Cu in trenches by H-assisted Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    K. Takenaka, M. Kita,, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    J. Vac. Sci. Technol., A   22 ( 4 )   2004年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.1738663

  • Carbon particle formation due to interaction between H2 plasma and carbon fiber composite wall 査読 国際誌

    K. Koga, R. Uehara, Y. Kitaura, M. Shiratani, Y. Watanabe, A. Komori

    IEEE Trans. Plasma Science   32 ( 2 )   2004年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/TPS.2004.828129

  • Condensation of sp 3-Bonded Boron Nitride through a Highly Nonequilibrium Fluid State 査読 国際誌

    S, Komatsu, K. Kurashima, Y.shimizu, Y. Moriyoshi, M. Shiratani, K. Okada

    J. Phys. Chem. B   108 ( 1 )   2004年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1021/jp0364452

  • Effects of Excitation Frequency and H2 Dilution on Cluster Generation in Silane High-Frequency Discharges 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, A. Harikai, T. Ogata, and Y. Watanabe

    MRS Symp. Proc.   762   2003年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-762-A9.5

  • シランプラズマ中のクラスタ成長と薄膜形成

    白谷正治, 古閑一憲, 尾形隆則, 掛谷知秀, 鹿口直斗, 渡辺征夫

    信学技報   103 ( 6 )   2003年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Anisotropic Plasma Chemical Vapor Deposition of Copper Films in Trenches 査読 国際誌

    K. Takenaka, M. Onishi, M. Takeshita, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, and Y. Watanabe

    MRS Symp. Proc.   766   2003年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-766-E3.8

  • The changes of particle charge distribution during rapid growth of partilcles in the plasma reactor 査読 国際誌

    KS Kim, DJ Kim, JH Yoon, JY Park, Y Watanabe, M Shiratani

    J. Colloid Interface Sci.   257 ( 2 )   2003年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S0021-9797(02)00049-8

  • Anisotropic Deposition of Copper by H-Assisted Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    K. Takenaka, M. Shiratani, M. Onishi, M. Takeshita, T. Kinoshita, K. Koga, and Y. Watanabe

    Matr. Sci. Semiconductor Processing   5 ( 2 )   2003年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S1369-8001(02)00108-7

  • Cluster-suppressed plasma CVD for deposition of high quality a-Si:H films 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, M. Kai, K. Koga, and Y. Watanabe

    Thin Solid Films   427 ( 1-2 )   2003年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S0040-6090(02)01171-9

  • Highly crystalline 5H-polytype of sp3-bonded boron nitride prepared by plasma-packets-assisted pulsed-laser deposition: an ultraviolet light-emitter at 225nm 査読 国際誌

    S. Komatsu, K. Kurashima, H. Kanada, K. Okada, M. Mitomo, Y. Moriyoshi, Y. Shimizu, M. Shiratani, T. Nakano, S. Samukawa

    Appl. Phys. Lett.   81 ( 24 )   2002年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.1527987

  • ナノクラスタ制御プラズマCVDと高品質,光安定a-Si:H太陽電池への応用

    白谷正治, 古閑一憲, 渡辺征夫

    アモルファスセミナーテキスト   2002年11月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Formation of nano-particles in microgravity plasma 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Journal of Japan Society of Microgravity Application   19   2002年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Anisotropic deposition of copper by plasma CVD method 国際誌

    K. Takenaka, M. Onishi, M. Takenaka, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   2002年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Nucleation and subsequent growth of clusters in reactive plasma (invited lecture paper) 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Plasma Sources Sci. Technol.   11   2002年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0963-0252/11/3A/334

  • 反応性プラズマと材料プロセスの基礎

    白谷正治

    プラズマ・核融合学会サマースクールテキスト   2002年7月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Anisotropic deposition of Cu with H-assisted plasma CVD 国際誌

    K. Takenaka, H. J. Jin, M. Onishi, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Carbon nano-particles due to interaction between H2 plasma and carbon wall 国際誌

    K. Koga, R. Uehara, M. Shiratani, Y. Watanabe, A. Komori

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Conformal deposition of pure Cu films in trenches by H-assisted plasma CVD using Cu(EDMDD)2 国際誌

    K. Takenaka, H. J. Jin, M. Onishi, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, T. Shingen

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Correlation between Si cluster amount in silane HF discharges and quality of a-Si:H films 国際誌

    M. Shiratani, M. Kai, K. Imabeppu, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. ESCANPIG16/ICRP5 Joint Meeting   2002年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Suppression methods of cluster growth in silane discharges and their application to deposition of super high quality a-Si:H films 国際誌

    K. Koga, K. Imabeppu, M. Kai, A. Harikai, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Workshop on Information and Electrical Engineering (IWIE2002)   2002年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of Cu films in trenches for LIS interconnects by H-assisted plasma CVD method 国際誌

    K. Takenaka, M. Onishi, T. Kinoshita, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe, T. Shingen

    Proc. Intern. Workshop on Information and Electrical Engineering (IWIE2002)   2002年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Clustering phenomena in low-pressure reactive plasma: basis and applications (invited lecture paper) 査読 国際誌

    Y. Watanabe, A. Harikai, K. Koga, M. Shiratani

    Pure Appl. Chem.   74 ( 3 )   2002年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1351/pac200274030483

  • Cluster-suppressed plasma chemical vapor deposition method for high quality hydrogenated amorphous silicon films 査読 国際誌

    K. Koga, M. Kai, M. Shiratani, Y. Watanabe, N. Shikatani

    Jpn. J. Appl. Phys.   41 ( 2B )   2002年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.41.L168

  • Deposition of high-quality Si films by suppressing cluster growth in SiH4 high-frequency discharges 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. Nano-technology Workshop   2002年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • In-situ measurement of size and density of particles in sub-nm to nm size range 国際誌

    K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Nano-technology Workshop   2002年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • プロセスプラズマ中のクラスタ - アモルファスシリコン太陽電池製造用プラズマ中のクラスター 査読

    白谷正治, 古閑一憲, 渡辺征夫

    ( 5 )   2002年1月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • クラスタ制御プラズマCVD法によるSi薄膜の高品質化

    渡辺征夫, 古閑一憲, 白谷正治

    シリコンテクノロジー   ( 37 )   2002年1月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • CVDにおける今後の動向を考える 査読

    白谷正治

    応用物理   71 ( 1 )   2002年1月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Deposition of pure copper thin films by H-assisted plasma CVD using a new Cu complex Cu(EDMDD)2 国際誌

    K. Takenaka, H. J. Jin, M. Onishi, K. Koga, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Symp. on Dry Process   2001年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Cluster-less plasma CVD reactor and its application to a-Si:H film deposition 査読 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   2001年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-664-A5.6

  • Nucleation and subsequent growth of clusters in reactive plasma (invited) 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Development of H-assisted plasma CVD reactor for Cu interconnects 国際誌

    M. Shiratani, H. J. Jin, K. Takenaka, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Behavior of a particle injected in ion sheath of electropositive and electronegative gas discharges 国際誌

    M. Shiratani, A. Toyozawa, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Clustering phenomena in low-pressure reactive plasma: base and applications (invited) 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Proc. Intern. Symp. on Plasma Chemistry   2001年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Deposition of super high quality a-Si:H thin films using cluster-suppressed plasma CVD reactor 国際誌

    K. Koga, T. Sonoda, N. Shikatani, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Contribution of short lifetime radicals to growth of particles in SiH4 HF discharges and effects of particles on deposited films 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, T. Fukuzawa, H. Kawasaki, Y. Ueda, S. Singh, H. Ohkura

    J. Vac. Sci. Technol., A   14 ( 3 )   2001年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.580069

  • H-assisted plasma CVD of Cu films for interconnects in ultra-large-scale integration 招待 査読 国際誌

    M. Shiratani, H. J. Jin, K. Takenaka, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Sci. Technol. Adv. Mater.   2 ( 3-4 )   2001年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S1468-6996(01)00131-0

  • In-situ polarization-sensitive laser-light scattering method for simultaneous measurements of two dimensional spatial size and density distributions of particles in plasma 査読 国際誌

    M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    J. Vac. Sci. Technol., A   14 ( 2 )   2001年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.580152

  • Growth processes of particles in high frequency silane plasma 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, H. Kawasaki, S. Singh, T. Fukuzawa, Y. Ueda, H. Ohkura

    J. Vac. Sci. Technol., A   14 ( 2 )   2001年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.580141

  • Surface reaction probabilities and kinetics of H, SiH3, Si2H5, CH3 and C2H5 during deposition of a-Si:H and a-C:H from H2, SiH4 and CH4 discharges 査読 国際誌

    J. Perrin, M. Shiratani, P. Kae-Nune, H. Videlot, J. Jolly, J. Guillon

    J. Vac. Sci. Technol., A   16 ( 1 )   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1116/1.580983

  • Behavior of a particle injected in ion sheath 国際誌

    M. Shiratani, A. Toyozawa, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Development of cluster-suppressed plasma CVD reactor for high quality a-Si:H film deposition 国際誌

    M. Shiratani, T. Sonoda, N. Shikatani, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of H2 dilution and excitation frequency on initial growth of clusters in silane plasma 国際誌

    K. Koga, K. Tanaka, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • H assisted control of quality and conformality in Cu film deposition using plasma CVD method 国際誌

    M. Shiratani, H. J. Jin, K. Takenaka, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Proc. Advanced Metallization Conf. 2000   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Measurements of surface reaction probability of SiH3 国際誌

    M. Shiratani, N. Shiraishi, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Plasma CVD method for Cu interconnects in ULSI (invited) 国際誌

    M. Shiratani, K. Koga, Y. Watanabe

    Proc. of Plasma Science Symp. 2001/ 18th Symp. on Plasma Processing   2001年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Formation kinetics and control of dust particles in capacitively-coupled reactive plasma (invited) 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, K. Koga

    Phys. Scripta   T89   2001年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1238/Physica.Topical.089a00029

  • Methods of suppressing cluster growth in silane rf discharges 査読 国際誌

    M. Shiratani, S. Maeda, Y. Matsuoka, K. Tanaka, K. Koga, Y. Watanabe

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   2000年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-609-A5.6

  • Deposition of smooth thin Cu films in deep submicron trench by plasma CVD reactor with H atom source 査読 国際誌

    H. J. Jin, M. Shiratani, Y. Nakatake, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   2000年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1557/PROC-612-D9.2.1

  • In situ observation of nucleation and subsequent growth of clusters in silane rf discharges 査読 国際誌

    K. Koga, Y. Matsuoka, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Appl. Phys. Lett.   77 ( 2 )   2000年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Filling subquater-micron trench structure with high-purity copper using plasma reactor with H atom source 査読

    H. J. Jin, M. Shiratani, Y. Nakatake, K. Koga, T. Kinoshita, Y. Watanabe

    Res. Rep. ISEE Kyushu Univ.   5 ( 1 )   2000年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Growth processes of particles up to nanometer size in high-frequency SiH4 plasma 査読 国際誌

    Y. Watanabe, M. Shiratani, T. Fukuzawa, K. Koga

    Jour. Technical Phys.   41 ( 1 )   2000年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effects of gas temperature gradient, pulse discharge modulation, and hydrogen dilution on particle growth in silane rf discharges 査読 国際誌

    M. Shiratani, S. Maeda, K. Koga, Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   39 ( 1 )   2000年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.39.287

  • Growth of Particles in Cluster-size Range in Low Pressure and Low Power SiH4 RF Discharges 査読 国際誌

    T. Fukuzawa, S. Kushima, Y. Matsuoka, M. Shiratani, Y. Watanabe

    J. Appl. Phys.   86 ( 7 )   1999年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.371256

  • Particle Growth Kinetics in Silane RF Discharges 査読 国際誌

    M. Shiratani, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 ( 7B )   1999年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.38.4542

  • Conformal Deposition of High-Purity Copper Using Plasma Reactor 査読 国際誌

    H. Jin, M. Shiratani, Y. Nakatake, T. Fukuzawa, T. Kinoshita, Y. Watanabe, M. Toyofuku

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 ( 7B )   1999年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.38.4492

  • Effects of Gas Flow on Particle Growth in Silane RF Discharges 査読 国際誌

    Y. Matsuoka, M. Shiratani, T. Fukuzawa, Y. Watanabe, K. Kim

    Jpn. J. Appl. Phys.   38 ( 7B )   1999年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.38.4556

  • フォトンカウンティングレーザ散乱法によるプラズマ中の微粒子計測 査読

    白谷正治, 渡辺征夫

    応用物理   68 ( 5 )   1999年5月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • 水素ラジカル源付プラズマCVD装置による高品質銅薄膜の形成 査読

    白谷正治, 渡辺征夫

    応用物理   68 ( 3 )   1999年3月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • CVDプラズマにおけるクラスター成長

    渡辺征夫, 白谷正治

    プラズマ材料科学第153委員会第42回研究会テキスト   1999年3月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(その他学術会議資料等)  

  • Transition of particle growth region in SiH4 rf discharges 査読 国際誌

    H. Kawasaki, K. Sakamoto, S. Maeda, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   37 ( 10 )   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.37.5757

  • Density profile of SiH3 in SiH4 rf discharges 国際誌

    M. Shiratani, A. Minemoto, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Development of photon-counting laser-light-scatter- ing method for size and density measurements of nano-particles in processing plasma 国際誌

    S. Maeda, K. Sakamoto, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Effects of gas flow on particle growth in silane rf discharges 国際誌

    Y. Matsuoka, M. Shiratani, T. Fukuzawa, Y. Watanabe, K. Kim

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Growth mechanism of particles in cluster-size range in SiH4 rf discharges using threshold photoemission method 国際誌

    T. Fukuzawa, S. Kushima, Y. Matsuoka, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Particle formation in rf discharges 国際誌

    M. Shiratani, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Study on particle formation in germane rf discharges by photon-counting laser-light-scattering method 国際誌

    H. Kawasaki, K. Sakamoto, S. Maeda, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Trajectory of particle injected from plasma reactor wall 国際誌

    Y. Watanabe, A. Hatae, T. Fukuzawa, M. Shiratani

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Trench filling and deposition of high quality Cu thin films using CVD plasma reactor with H radical source 国際誌

    H. J. Jin, M. Shiratani, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    Proc. 4th Intern. Conf. on Reactive Plasma   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Study on initial growth of particles in low-pressure and low-power GeH4 rf discharges using the high-sensitivity photon-counting laser-light-scattering method 査読 国際誌

    H. Kawasaki, K. Sakamoto, S. Maeda, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   37 ( 10B )   1998年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.37.L1264

  • A study on the time evolution of SiH3 surface loss probability on hydrogenated amorphous silicon films in SiH4 rf discharges using infrared diode-laser absorption spectroscopy 査読 国際誌

    M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, Y. Watanabe, Y. Yamamoto, S. Suganuma, M. Hori, T. Goto

    J. Phys. D: Appl. Phys.   31 ( 7 )   1998年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/31/7/004

  • Study on growth processes of particles in germane radio frequency discharges using laser light scattering and scanning electron microscopic methods 査読 国際誌

    H. Kawasaki, J. Kida, K. Sakamoto, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe

    J. Appl. Phys.   83 ( 11 )   1998年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.36742

  • Development of photon-counting laser-light-scatter- ing method for detection of nano-particles fromed in CVD plasma 査読 国際誌

    M. Shiratani, Y. Watanabe

    Rev. Laser Eng.   26 ( 6 )   1998年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.2184/lsj.26.449

  • Similarities in spatial distributions of absolute GeH2 density, radical producition rate and particle amount in GeH4 discharges 査読 国際誌

    H. Kawasaki, J. Kida, K. Sakamoto, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys.   37 ( 4B )   1998年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.37.L475

  • シラン高周波放電中の微小微粒子のサイズと密度その場測定法の開発

    福澤 剛, 宮原 弘臣, 串間 真二, 川崎 仁晴, 白谷正治, 渡辺征夫

    システム情報科学研究科報告   3 ( 1 )   1998年3月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • 小特集 ダストプラズマの現状と課題 5.プラズマプロセスにおける微粒子現象

    白谷正治, 渡辺征夫

    プラズマ・核融合学会   73 ( 11 )   1997年11月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Surface Reaction Kinetics of CH3 in CH4 RF Discharge Studied by Time-Resolved Threshold Ionization Mass Spectrometry 査読 国際誌

    M. Shiratani, J. Jolly, H. Videlot, J. Perrin

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 ( 7B )   1997年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.36.4752

  • Roles of SiH3 and SiH2 radicals in particle growth in rf silane plasma 査読 国際誌

    H. Kawasaki, H. Ohkura, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe, Y. Yamamoto, S. Suganuma, M. Hori, T. Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.   36 ( 7B )   1997年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.36.4985

  • Effects of H2 dilution on surface loss probability of CH3 on a-C:H in CH4+H2 rf discharges 査読 国際誌

    H. Videlot, M. Shiratani, J. Jolly, J. Perrin

    Proc. Intern. Conf. on Phenomena in Ionized Gases   3   1997年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Surface reaction kinetics of CH3 in CH4 RF discharges studied by time-resolved Ms spectroscopy 査読 国際誌

    M. Shiratani, J. Jolly, H. Videlot, J. Perrin

    Proc. 3rd Intern. Conf. on Reactive Plasma   3   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Growth and behavior of particles below nanometer in size in silane plasma using threshold photoemission method 査読 国際誌

    T. Fukuzawa, H. Miyahara, K. Nishimura, H. Kawasaki, M. Shiratani, Y. Watanabe

    Proc. 3rd Intern. Conf. on Reactive Plasma   3   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Particle Formation in High Frequency CVD Plasma 査読 国際誌

    Y. Watanabe, T. Fukuzawa, H. Kawasaki, M. Shiratani

    Proc. 3rd Intern. Conf. on Reactive Plasma   3   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Study on growth processes of particles in rf SiH4 plasma 査読 国際誌

    H. Kawasaki, H. Ohkura, T. Fukuzawa, M. Shiratani, Y. Watanabe, Y. Yamamoto, S. Suganuma, M. Hori, T. Goto

    Proc. 3rd Intern. Conf. on Reactive Plasma   3   1997年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

  • Diagnostic of plasma for metal-organic chemical vapour deposition of Cu and fabrication of Cu thin films using the plasma 査読 国際誌

    M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    J. Phys. D: Appl. Phys.   29 ( 1 )   1996年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1088/0022-3727/29/11/005

  • Detection of particles in rf silane plasma using photoemission method 査読 国際誌

    T. Fukuzawa, K. Obata, H. Kawasaki, M. Shiratani, Y. Watanabe

    J. Appl. Phys.   80 ( 6 )   1996年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.363273

  • Production of size-controlled Si fine particules using pulsed rf dischange 査読 国際誌

    M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    Surf. Rev. Lett.   3 ( 1 )   1996年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1142/S0218625X96000176

  • Two-dimensional spatial profiles of size and density of particulates grown in RF silane plasmas 査読 国際誌

    M. Shiratani, N. Kishigaki, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, Y. Watanabe

    IEEE Trans. Plasma Science   24 ( 1 )   1996年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(国際会議プロシーディングス)  

    DOI: 10.1109/27.491731

  • Simultaneous in-situ measurements of properties of particulates in rf silane plasma using a polarization-sensitive laser-light-scattering method 査読 国際誌

    M. Shiratani, H. Kawasaki, T. Fukuzawa, T. Yoshioka, Y. Ueda, S. Singh, Y. Watanabe

    J. Appl. Phys.   79 ( 1 )   1996年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.360916

  • Detection of Negative Ions in a Helium-Silane RF Plasma 査読

    M. Shiratani, T. Fukuzawa, K. Eto, Y. Watanabe

    Jpn. J. Appl. Phys. Pt. 2, Letters   31 ( 12 )   1992年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.31.L1791

  • Effects of carbon nanoparticle insertion on stress reduction in hydrogenated amorphous carbon films using plasma chemical vapor deposition

    Ono S., Hwang S.H., Okumura T., Yamashita N., Kamataki K., Kiyama H., Itagaki N., Koga K., Shiratani M.

    Diamond and Related Materials   150   2024年12月   ISSN:09259635

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    出版者・発行元:Diamond and Related Materials  

    Stress reduction in hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films is of considerable interest for improving their performance as protective films. Herein, we reduced the compressive stress of the films by inserting carbon nanoparticles (CNPs) between two a-C:H layers to form an a-C:H/CNP/a-C:H sandwich structure using a system of plasma chemical vapor deposition (CVD). We measured the deposition features of the CNPs via transmission electron microscopy (TEM) and assessed the dependence of the stress on the thickness of the second a-C:H layer as a parameter of surface coverage, Cp. We represented the stress reduction as a function of Cp; mean size of large CNPs, and thickness of the first and second a-C:H layers. In addition, the surface and film morphologies were investigated using atomic force microscopy (AFM) and cross-sectional scanning electron microscopy (SEM). Compared with films without CNPs, those containing CNPs with 8.9 % Cp showed 36 % lower stress when the thickness of the second a-C:H layer was similar to that of the first (154 nm). The deposited CNPs exhibited two size groups, with mean sizes of the small and large CNPs of 5 and 16 nm, respectively. Stress reduction was strongly correlated with the distance between large CNPs. The insertion of CNPs between a-C:H films affects the surface morphology of the second layer, and the stress decreases when the growth stage of the film starts transitioning from three-dimensional (3D) to two-dimensional (2D).

    DOI: 10.1016/j.diamond.2024.111654

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  • Real-time live imaging of cytosolic hydrogen peroxide and Ca<sup>2+</sup> of Marchantia polymorpha gemmalings reveal immediate initial responses of plant cells triggered by nonthermal plasma irradiation

    Tsuboyama S., Okumura T., Watanabe K., Koga K., Shiratani M., Kuchitsu K.

    Plant Physiology and Biochemistry   216   109172   2024年11月   ISSN:09819428

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    記述言語:英語   出版者・発行元:Plant Physiology and Biochemistry  

    Cold atmospheric pressure plasma generators capable of generating plasma under normal pressure and temperature conditions have recently been developed, and their biological applications have been extensively studied. Plasma irradiation has been reported to affect plant germination and growth; however, the molecular mechanism underlying these effects and initial cellular responses to plasma irradiation remains poorly understood. To unravel the molecular and cellular mechanisms underlying the effects of plasma irradiation on plants, we have been establishing novel experimental systems using a model liverwort Marchantia polymorpha. We here focused on the initial responses of plant cells to plasma irradiation. To investigate immediate cellular responses following plasma irradiation, we developed a new plasma device that allows irradiation under a microscope. Through integration with live fluorescence imaging, we established an experimental setup to track, the dynamics of intracellular concentration of H2O2 and Ca2+ as representative initial cellular responses. We revealed that plasma irradiation induced a rapid and transient increase in intracellular concentration of H2O2 and Ca2+ in Marchantia gemmalings. Pharmacological analyses suggested that the long-lived reactive species, H2O2, generated by the plasma generator was directly delivered into the plant cells. Competitive inhibitors of Ca2+ channels abolished the Ca2+ rise, suggesting that plasma irradiation immediately activate plasma membrane Ca2+ channel(s) to induce Ca2+ influx. Importantly, this study marks the inaugural demonstration of real-time monitoring of cytosolic H2O2 and Ca2+ dynamics in plants, triggered by plasma irradiation.

    DOI: 10.1016/j.plaphy.2024.109172

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    PubMed

  • Effects of Corm Treatment with Cold Plasma and Electromagnetic Field on Growth and Production of Saffron Metabolites in <i>Crocus sativus</i>

    Mildaziene, V; Zukiene, R; Fomins, LD; Nauciene, Z; Minkute, R; Jarukas, L; Drapak, I; Georgiyants, V; Novickij, V; Koga, K; Shiratani, M; Mykhailenko, O

    INTERNATIONAL JOURNAL OF MOLECULAR SCIENCES   25 ( 19 )   2024年10月   ISSN:1661-6596 eISSN:1422-0067

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    記述言語:英語   出版者・発行元:International Journal of Molecular Sciences  

    Crocus sativus L. is a widely cultivated traditional plant for obtaining dried red stigmas known as “saffron,” the most expensive spice in the world. The response of C. sativus to pre-sowing processing of corms with cold plasma (CP, 3 and 5 min), vacuum (3 min), and electromagnetic field (EMF, 5 min) was assessed to verify how such treatments affect plant performance and the quality and yield of herbal raw materials. The results show that applied physical stressors did not affect the viability of corms but caused stressor-dependent changes in the kinetics of sprouting, growth parameters, leaf trichome density, and secondary metabolite content in stigmas. The effect of CP treatment on plant growth and metabolite content was negative, but all stressors significantly (by 42–74%) increased the number of leaf trichomes. CP3 treatment significantly decreased the length and dry weight of flowers by 43% and 60%, respectively, while EMF treatment increased the length of flowers by 27%. However, longer CP treatment (5 min) delayed germination. Vacuum treatment improved the uniformity of germination by 28% but caused smaller changes in the content of stigma compounds compared with CP and EMF. Twenty-six compounds were identified in total in Crocus stigma samples by the HPLC-DAD method, including 23 crocins, rutin, picrocrocin, and safranal. Processing of Crocus corms with EMF showed the greatest efficiency in increasing the production of secondary metabolites in saffron. EMF increased the content of marker compounds in stigmas (crocin 4: from 8.95 to 431.17 mg/g; crocin 3: from 6.27 to 164.86 mg/g; picrocrocin: from 0.4 to 1.0 mg/g), although the observed effects on growth were neutral or slightly positive. The obtained findings indicate that treatment of C. sativus corms with EMF has the potential application for increasing the quality of saffron by enhancing the amounts of biologically active compounds.

    DOI: 10.3390/ijms251910412

    Web of Science

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    PubMed

  • Capture and Conversion of CO2 from Ambient Air Using Ionic Liquid-Plasma Combination

    Sukma Wahyu Fitriani, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Pankaj Attri

    Plasma Chemistry and Plasma Processing   2024年8月   ISSN:0272-4324 eISSN:1572-8986

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Springer Science and Business Media LLC  

    DOI: 10.1007/s11090-024-10500-9

    researchmap

    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1007/s11090-024-10500-9/fulltext.html

  • Capture and Conversion of CO<sub>2</sub> from Ambient Air Using Ionic Liquid-Plasma Combination

    Fitriani, SW; Okumura, T; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M; Attri, P

    PLASMA CHEMISTRY AND PLASMA PROCESSING   2024年8月   ISSN:0272-4324 eISSN:1572-8986

  • Effects of Supplied Gas on Plasma-Induced Liquid Flows

    Shen, KC; Shi, HP; Koga, K; Shiratani, M; Kawasaki, T

    IEEE TRANSACTIONS ON PLASMA SCIENCE   52 ( 6 )   2130 - 2136   2024年8月   ISSN:0093-3813 eISSN:1939-9375

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:IEEE Transactions on Plasma Science  

    In this work, we investigated the effects of supply gas (helium and argon gases) on plasma-induced liquid flows using particle image velocimetry (PIV). The results indicated that only the downward flow that extended to the liquid depth direction was generated when helium gas was supplied. However, the liquid flows switched with the increase in voltage when argon gas was supplied. We also discovered current waveforms and the optical emission spectroscopy results were greatly changed with the types of plasma-induced liquid flows. According to the experimental results for the argon gas, we also successfully switched and controlled the plasma-induced liquid flow by changing the voltage only.

    DOI: 10.1109/TPS.2024.3432879

    Web of Science

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  • Fundamental Study on Novel Biological Indicator Using DNA-Labeled Microbeads for Evaluating Nonthermal Plasma Sterilization

    Nakano, M; Okumura, T; Inaba, M; Attri, P; Koga, K; Shiratani, M; Suehiro, J

    IEEE SENSORS LETTERS   8 ( 8 )   2024年8月   ISSN:2475-1472

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    出版者・発行元:IEEE Sensors Letters  

    Nonthermal atmospheric-pressure discharge plasma is considered important for sterilization. Reactive species, such as active oxygen species, radicals, and nitrate ions, generated by the discharge plasma damage the target bacterial cell wall/membrane and DNA. Several plasma sterilization methods have been proposed, including dielectric barrier discharge (DBD). To achieve effective sterilization, it is necessary to evaluate their characteristics using many parameters. This letter aims to demonstrate a proof-of-concept of a novel biological indicator for plasma sterilization. A biological indicator is used to verify sterilization outcomes. We employ DNA-labeled microbeads as biological indicators for the rapid visualization of plasma sterilization. This is based on our recently developed method for visual detection of DNA molecules. If plasma-derived factors cause the degradation of the DNA attached to the microbeads, this can be confirmed by visualization. Herein, we present the correlation between sterilization and visualization in the case of DBD. This method offers a rapid evaluation of plasma sterilization because it easily and quickly determines the sterilization capability of the plasma.

    DOI: 10.1109/LSENS.2024.3420437

    Web of Science

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  • Effect of nanoscale inhomogeneity on blocking temperature of ZnO:Co films fabricated by using nitrogen-mediated crystallization

    Agusutrisno, MN; Okumura, T; Kamataki, K; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

    MRS ADVANCES   2024年7月   ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:MRS Advances  

    Diluted magnetic semiconductors (DMS) have attracted interest for the potential applications of spintronic devices. The origin of the temperature dependence of their ferromagnetism has been debated and has not been concluded yet. A potential conclusion is that nanoscale inhomogeneity largely affects the temperature dependence of the magnetization in DMS even if the structure and compositions are not largely different. We examined this hypothesis by implementing nitrogen-mediated crystallization consisting of sputtering deposition of amorphous film and solid-phase crystallization by thermal annealing. A series of samples with different inhomogeneities were prepared by changing the annealing time. No significant changes in the composition and the structure were observed after annealing for various times, while significant enhancements were observed in the coercivity, blocking temperature, and grain size. These results provide clear understanding in the temperature dependence of the ferromagnetism in DMS and direct evidence of the potential conclusion on the long-lasting debate. Graphical abstract: (Figure presented.)

    DOI: 10.1557/s43580-024-00907-z

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    その他リンク: https://link.springer.com/article/10.1557/s43580-024-00907-z/fulltext.html

  • Deposition of hydrogenated amorphous carbon films by CH<sub>4</sub>/Ar capacitively coupled plasma using tailored voltage waveform discharges

    Otaka, M; Otomo, H; Ikeda, K; Lai, JS; Wakita, D; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M; Nagamatsu, D; Shindo, T; Matsudo, T

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   63 ( 7 )   2024年7月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers  

    We investigated the effects of tailored voltage waveform (TVW) discharges on the deposition of hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films in CH4/Ar capacitively coupled plasma. TVW discharges employ two driving radio frequencies (13.56 MHz and 27.12 MHz) and control their phase shifts to independently regulate ion bombardment energy (IBE) and ion flux. In this study, a-C:H films were deposited by changing DC-self bias with phase shift and constant applied voltage peak-to-peak. Additionally, we investigated phase-resolved optical emission spectroscopy (PROES) for plasma characterization. As a result, plasma-enhanced CVD (PECVD) for a-C:H films using TVW discharges realize control of film properties such as mass density, sp3 fraction, and H content, while keeping the deposition rate constant. Thus, it is suggested that TVW discharges realize the independent control of IBE and ion flux with high accuracy, highlighting its utility in a-C:H film depositions.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ad53b0

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  • Large-scale fabrication of thulium iron garnet film with perpendicular magnetic anisotropy using RF magnetron sputtering

    Agusutrisno, MN; Obinata, S; Okumura, T; Kamataki, K; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

    JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS   63 ( 7 )   07SP06 - 07SP06   2024年7月   ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers  

    Large-scale fabrication of thulium iron garnet (TmIG) films on gadolinium gallium garnet (GGG) substrates, with a total area of 25 cm2, has been demonstrated by rotating substrate holders during on-axis sputtering. By optimizing the growth parameters based on the pressure and flow rate of the oxygen ratio, a Tm/Fe ratio of 0.65 was obtained, which is close to the stoichiometry of TmIG. The increase in post-annealing temperature has induced the growth of the TmIG structure by the strain of the lattice constant mechanism. At the highest post-annealing temperature, the crystal structure of TmIG (444) and the perpendicular magnetic anisotropy (PMA) were obtained. This result demonstrates the potential method for large-scale fabrication of TmIG film with PMA.

    DOI: 10.35848/1347-4065/ad5aff

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    その他リンク: https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ad5aff/pdf

  • Sputtering deposition of dense and low-resistive amorphous In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>: Sn films under ZONE-T conditions of Thornton's structural diagram

    Wada, Y; Magdy, W; Takeda, K; Mido, Y; Yamashita, N; Okumura, T; Kamataki, K; Koga, K; Hori, M; Shiratani, M; Itagaki, N

    APPLIED PHYSICS LETTERS   124 ( 24 )   2024年6月   ISSN:0003-6951 eISSN:1077-3118

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    掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Applied Physics Letters  

    We have fabricated smooth-surfaced amorphous In2O3:Sn (a-ITO) films at a high temperature of 550 °C, far above the typical crystallization threshold of 150 °C for ITO films. This achievement has been made possible by intentionally introducing N2 into the sputtering atmosphere, which maintains a low N atom incorporation of only a few atomic percent within the films. Positioned within ZONE-T of the Thornton diagram (higher-temperature region characterized by high film density), our method allows the preparation of films with superior film density about 6.96 g/cm3, substantially exceeding the density of 6.58 g/cm3 for conventional a-ITO films fabricated under ZONE-1 (low-temperature region) and approaching the bulk crystal density of In2O3 at 7.12 g/cm3. The films also feature a high carrier density of 5 × 1020 cm−3 and a remarkably low resistivity of 3.5 × 10−4 Ω cm, comparable to those of polycrystalline films. The analysis via vacuum-ultraviolet absorption spectroscopy on N and O atom densities in the plasma suggests that amorphization is primarily caused not by N atoms incorporated in the films but by those temporally adsorbed on the film surface, inhibiting crystal nucleation before eventually desorbing. Our findings will pave the way not only for broader applications of a-ITO films but also for the design of other amorphous materials at temperatures beyond their crystallization points.

    DOI: 10.1063/5.0211090

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  • Sputter deposition of ZnO-AlN pseudo-binary amorphous alloys with tunable band gaps in the deep ultraviolet region

    Urakawa, S; Magdy, W; Wada, Y; Narishige, R; Kaneshima, K; Yamashita, N; Okumura, T; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M; Itagaki, N

    MATERIALS RESEARCH EXPRESS   11 ( 6 )   2024年6月   eISSN:2053-1591

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    出版者・発行元:Materials Research Express  

    ZnO-AlN pseudo-binary amorphous alloys (a-ZAON hereinafter) with tunable band gaps in the deep ultraviolet (DUV) region have been synthesized using magnetron sputtering. The miscibility gap between ZnO and AlN has been overcome using room-temperature sputtering deposition, leveraging the rapid quenching abilities of sputtered particles to fabricate metastable but single-phase alloys. X-ray diffraction patterns and optical transmittance spectra revealed that the synthesized films with chemical composition ratios of [Zn]/([Zn] + [Al]) = 0.24-0.79 likely manifested as single-phase of a-ZAON films. Despite their amorphous structures, these films presented direct band gaps of 3.4-5.8 eV and thus high optical absorption coefficients (105 cm−1). Notably, the observed values adhered to Vegard’s law for crystalline ZnO-AlN systems, implying that the a-ZAON films were solid solution alloys with atomic-level mixing. Furthermore, atomic force microscopy analyses revealed smooth film surfaces with root-mean-square roughness of 0.8-0.9 nm. Overall, the wide-ranging band gap tunability, high absorption coefficients, amorphous structures, surface smoothness, and low synthesis temperatures of a-ZAON films position them as promising materials for use in DUV optoelectronic devices and power devices fabricated using large-scale glass and flexible substrates.

    DOI: 10.1088/2053-1591/ad4f57

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  • Response of lettuce seeds undergoing dormancy break and early senescence to plasma irradiation

    Okumura, T; Anan, T; Shi, HP; Attri, P; Kamataki, K; Yamashita, N; Itagaki, N; Shiratani, M; Ishibashi, Y; Koga, K; Mildaziene, V

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   17 ( 5 )   2024年5月   ISSN:1882-0778 eISSN:1882-0786

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    出版者・発行元:Applied Physics Express  

    This study reports the response of lettuce seeds undergoing dormancy breaking and early senescence to DBD plasma irradiation. A heat map of germination percentages at 12 h reveals that dormancy has broken at 39 days' storage, and that one minute of plasma irradiation enhances germination in dormant seeds. Plasma irradiation does not affect those seeds where dormancy has already broken. Early senescence via storage was estimated using ESR measurements and the molecular modification of quercetin. This study reveals that lettuce seed susceptibility to plasma irradiation depends on storage duration and conditions, with dormancy state as a critical variable modulating the impact of plasma irradiation.

    DOI: 10.35848/1882-0786/ad3798

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  • Plasma-ionic liquid-assisted CO<sub>2</sub> capture and conversion: A novel technology

    Attri, P; Koga, K; Razzokov, J; Okumura, T; Kamataki, K; Nozaki, T; Shiratani, M

    APPLIED PHYSICS EXPRESS   17 ( 4 )   2024年4月   ISSN:1882-0778 eISSN:1882-0786

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:Applied Physics Express  

    The present study focused on CO2 capture, storage, and conversion through the innovative integration of plasma-ionic liquid (IL) technology. For the first time, we employed plasma-IL technology to confront climate change challenges. We utilized 1-Butyl-3-methylimidazolium chloride IL to capture and store CO2 under atmospheric pressure, and subsequently employed plasma to induce the transformation of IL-captured CO2 into CO. Furthermore, we performed computer simulations to enhance our understanding of the CO2 and CO capture processes of water and IL solutions. This comprehensive approach provides valuable insights into the potential of plasma-IL technology as a viable solution for climate change.

    DOI: 10.35848/1882-0786/ad33ea

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  • プラズマ触媒作用を用いた二酸化炭素還元反応の促進に関する基礎研究

    都甲 将, 奥村 賢直, 鎌滝 晋礼, 竹中 弘祐, 古閑 一憲, 白谷 正治, 節原 裕一

    スマートプロセス学会誌   13 ( 1 )   31 - 36   2024年1月   ISSN:2186702X eISSN:21871337

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)   出版者・発行元:一般社団法人 スマートプロセス学会 (旧高温学会)  

    DOI: 10.7791/jspmee.13.31

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  • Subchronic toxicity sutdy of indium-tin oxide nanoparticles following intratracheal administration into the lungs of rats(タイトル和訳中)

    Matsumura Nagisa, Tanaka Yu-ki, Ogra Yasumitsu, Koga Kazunori, Shiratani Masaharu, Nagano Kasuke, Tanaka Akiyo

    Journal of Occupational Health   66 ( 1 )   uiae019 - uiae019   2024年   ISSN:1341-9145

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    記述言語:英語   出版者・発行元:(公社)日本産業衛生学会  

  • Subchronic toxicity study of indium-tin oxide nanoparticles following intratracheal administration into the lungs of rats

    Matsumura, N; Tanaka, YK; Ogra, Y; Koga, K; Shiratani, M; Nagano, K; Tanaka, A

    journal of Occupational Health   66 ( 1 )   n/a   2024年   ISSN:13419145 eISSN:13489585

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    記述言語:英語   出版者・発行元:公益社団法人 日本産業衛生学会  

    Objectives: We aimed to analyze the subchronic toxicity and tissue distribution of indium after the intratracheal administration of indium-tin oxide nanoparticles (ITO NPs) to the lungs of rats. Methods: Male Wistar rats were administered a single intratracheal dose of 10 or 20 mg In/kg body weight (BW) of ITO NPs. The control rats received only an intratracheal dose of distilled water. A subset of rats was periodically euthanized throughout the study from 1 to 20 weeks after administration. Indium concentrations in the serum, lungs, mediastinal lymph nodes, kidneys, liver, and spleen as well as pathological changes in the lungs and kidneys were determined. Additionally, the distribution of ionic indium and indium NPs in the kidneys was analyzed using laser ablation-inductively coupled plasma mass spectrometry. Results: Indium concentrations in the lungs of the 2 ITO NP groups gradually decreased over the 20-week observation period. Conversely, the indium concentrations in the mediastinal lymph nodes of the 2 ITO groups increased and were several hundred times higher than those in the kidneys, spleen, and liver. Pulmonary and renal toxicities were observed histopathologically in both the ITO groups. Both indium NPs and ionic indium were detected in the kidneys, and their distributions were similar to the strong indium signals detected at the sites of inflammatory cell infiltration and tubular epithelial cells. Conclusions: Our results demonstrate that intratracheal administration of 10 or 20 mg In/kg BW of ITO NPs in male rats produces pulmonary and renal toxicities.

    DOI: 10.1093/joccuh/uiae019

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  • Capture and Conversion of CO<inf>2</inf> from Ambient Air Using Ionic Liquid-Plasma Combination

    Sukma Wahyu Fitriani, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Pankaj Attri

    Plasma Chemistry and Plasma Processing   2024年   ISSN:0272-4324 eISSN:1572-8986