Updated on 2024/07/28

Information

 

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YABUTA HISATO
 
Organization
Faculty of Information Science and Electrical Engineering Department of Electrical Engineering Professor
Faculty of Information Science and Electrical Engineering Quantum and Photonics Technology Research Center(Concurrent)
Faculty of Information Science and Electrical Engineering Department of Gigaphoton Next GLP(Concurrent)
School of Engineering Department of Electrical Engineering and Computer Science(Concurrent)
Graduate School of Information Science and Electrical Engineering Department of Electrical and Electronic Engineering(Concurrent)
Joint Graduate School of Mathematics for Innovation (Concurrent)
Title
Professor
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Profile
[研究活動]   (1)電子デバイスに用いられる機能性酸化物材料(酸化物半導体、誘電体・圧電体・強誘電体など)を中心とした無機材料の材料物性とそのデバイス応用に関する研究開発  (2)高繰り返し照射可能なエキシマレーザーを用いた深紫外光照射による材料改質プロセス技術の開発  上記(1)(2)を組み合わせた材料研究ならびにデバイス製造技術開発を行う。 [教育活動]  基幹教育科目、学部講義、大学院講義を担当。  研究室配属学生に対しては、卒業研究・修士論文研究・博士論文研究の指導を行う。また、社会に出てから必要とされる能力の獲得・育成を意図した教育指導も実践する。
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Degree

  • Doctor of Science

Research History

  • 日本電気株式会社 基礎研究所 キヤノン株式会社 R&D本部

    日本電気株式会社 基礎研究所 キヤノン株式会社 R&D本部

Research Interests・Research Keywords

  • Research theme:Excimer laser annealing to oxide semiconductor thin films

    Keyword:Laser annealing, Excimer laser, oxide semiconductor, solid-phase crystallization

    Research period: 2023.4

  • Research theme:Laser doping process for wide bandgap semiconductors

    Keyword:Laser doping, Excimer laser, Wide bandgap semiconductor,

    Research period: 2023.4

  • Research theme:Material science and device application of functional oxide materials

    Keyword:Oxide semiconductor, Dielectrics, Piezoelectrics, Ferroelectrics, Transparent coductive oxide

    Research period: 2022.8

Awards

  • SID Special Recognition Award

    2022.5   The Society for Information Display  

Papers

  • The Early Work on Sputtering Formation of Amorphous IGZO (In-Ga-Zn-O) Channel and SnO Channel TFTs Invited Reviewed International journal

    Proceedings of the International Display Workshops   29   2023.5

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (international conference proceedings)  

    DOI: https://doi.org/10.36463/idw.2022.0116

  • Effects of substrate surface polarity on heteroepitaxial growth of pseudobinary ZnO–InN alloy films on ZnO substrates Reviewed

    2022.11

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1557/s43578-022-00827-4

  • Amorphous In-Ga-Mg-O Thin Films Formed by RF Magnetron Sputtering: Optical, Electrical Properties and Thin-Film-Transistor Characteristics Reviewed

    Hisato Yabuta, Naho Itagaki, Toshikazu Ekino, Yuzo Shigesato

    IEEE Open Journal of Nanotechnology   3   149 - 152   2022.11

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1109/ojnano.2022.3222850

  • Structural investigation of ferroelectric BiFeO3–BaTiO3 solid solutions near the rhombohedral–pseudocubic phase boundary Reviewed

    116 ( 25 )   252902 - 252902   2020.6

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1063/5.0008990

  • Enhancement of tetragonal anisotropy and stabilisation of the tetragonal phase by Bi/Mn-double-doping in BaTiO3 ferroelectric ceramics Reviewed

    Hisato Yabuta, Hidenori Tanaka, Tatsuo Furuta, Takayuki Watanabe, Makoto Kubota, Takanori Matsuda, Toshihiro Ifuku, Yasuhiro Yoneda

    Scientific Reports   7   45842   2017.4

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1038/srep45842

  • Platelet NaNbO3 grown by single-step molten salt synthesis: Study on bismuth migration in topochemical conversion reaction Reviewed

    Takayuki Watanabe, Masatoshi Watanabe, Tatsuya Suzuki, Satoshi Yamabi, Hisato Yabuta, Kaoru Miura, Naoko Ito, Nobuhiro Kumada

    Japanese Journal of Applied Physics   53 ( 9S )   09PB08   2014.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.7567/jjap.53.09pb08

  • Microscopic structure and electrical transport property of sputter-deposited amorphous indium-gallium-zinc oxide semiconductor films Invited Reviewed

    H Yabuta, N Kaji, M Shimada, T Aiba, K Takada, H Omura, T Mukaide, I Hirosawa, T Koganezawa, H Kumomi

    Journal of Physics: Conference Series   518 ( 1 )   012001   2014.6

     More details

    Language:Others   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/518/1/012001

  • Characterizations of epitaxial Bi(Mg1/2Ti1/2)O3–Bi(Zn1/2Ti1/2)O3 solid solution films grown by pulsed laser deposition Reviewed

    53 ( 5S1 )   05FE06   2014.5

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.7567/jjap.53.05fe06

  • Growth of (1-x)NaNbO3–xBaTiO3 Single Crystals by Slow-Cooling and Flux Methods Reviewed

    52 ( 9S1 )   09KC02   2013.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.7567/jjap.52.09kc02

  • Structure and Magnetic Properties of BiFe1–xCoxO3 and Bi0.9Sm0.1Fe1–xCoxO3 Reviewed

    52 ( 18 )   10698 - 10704   2013.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1021/ic402041p

  • Effect of sintering condition and V-doping on the piezoelectric properties of BaTiO3–Bi(Mg1/2Ti1/2)O3–BiFeO3 ceramics Reviewed

    121 ( 1416 )   589 - 592   2013.8

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.2109/jcersj2.121.589

  • Microstructure and Piezoelectric Properties of BaTiO3–Bi(Mg1/2Ti1/2)O3–BiFeO3 Ceramics Reviewed

    566   59 - 63   2013.7

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/kem.566.59

  • Growth of (111) One-Axis-Oriented Bi(Mg1/2Ti1/2)O3 Films on (100)Si Substrates Reviewed

    Takahiro Oikawa, Shintaro Yasui, Takayuki Watanabe, Koji Ishii, Yoshitaka Ehara, Hisato Yabuta, Takeshi Kobayashi, Tetsuro Fukui, Kaoru Miura, Hiroshi Funakubo

    Japanese Journal of Applied Physics   52 ( 4S )   04CH09   2013.4

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.7567/jjap.52.04ch09

  • Film Thickness Dependence of Ferroelectric Properties of (111)-Oriented Epitaxial Bi(Mg1/2Ti1/2)O3 Films Reviewed

    Takahiro Oikawa, Shintaro Yasui, Takayuki Watanabe, Hisato Yabuta, Yoshitaka Ehara, Tetsuro Fukui, Hiroshi Funakubo

    Japanese Journal of Applied Physics   51 ( 9 PART 2 )   09LA04   2012.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.51.09la04

  • Microstructure of BaTiO3–Bi(Mg1/2Ti1/2)O3–BiFeO3 Piezoelectric Ceramics Reviewed

    51 ( 9 PART 2 )   09LD04   2012.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.51.09ld04

  • Piezoelectric enhancement of relaxor-based lead-free piezoelectric ceramics by nanodomain engineering Reviewed

    Ichiro Fujii, Ryuta Mitsui, Kouichi Nakashima, Nobuhiro Kumada, Satoshi Wada, Hisato Yabuta, Mikio Shimada, Takayuki Watanabe, Kaoru Miura

    Proceedings of ISAF-ECAPD-PFM 2012   6297767   2012.7

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (other academic)  

    DOI: 10.1109/isaf.2012.6297767

  • Sm置換BiFeO3の相転移挙動 Reviewed

    久保田純, 岡研吾, 中村嘉孝, 薮田久人, 三浦薫, 島川祐一, 東正樹

    粉体および粉末冶金   59 ( 5 )   239 - 245   2012.5

     More details

    Language:Japanese   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.2497/jjspm.59.239

  • Sequential Phase Transitions in Sm Substituted BiFeO3 Reviewed

    Makoto Kubota, Kengo Oka, Yoshitaka Nakamura, Hisato Yabuta, Kaoru Miura, Yuichi Shimakawa, Masaki Azuma

    Japanese Journal of Applied Physics   50 ( 9 )   09NE08   2011.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.50.09ne08

  • Structural, Dielectric, and Piezoelectric Properties of Mn-Doped BaTiO3–Bi(Mg1/2Ti1/2)O3–BiFeO3 Ceramics Reviewed

    50 ( 9 )   09ND07   2011.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.50.09nd07

  • Structural Transformation of Hexagonal (0001)BaTiO3 Ceramics to Tetragonal (111)BaTiO3 Ceramics Reviewed

    Takayuki Watanabe, Mikio Shimada, Toshiaki Aiba, Hisato Yabuta, Kaoru Miura, Kengo Oka, Masaki Azuma, Satoshi Wada, Nobuhiro Kumada

    Japanese Journal of Applied Physics   50 ( 9 )   09ND01   2011.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.50.09nd01

  • Relaxor Characteristics of BaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3 Ceramics Reviewed

    Ichiro Fujii, Keisuke Yamato, Mikio Shimada, Jumpei Hayashi, Hisato Yabuta, Makoto Kubota, Tetsuro Fukui, Kouichi Nakashima, Nobuhiro Kumada, Satoshi Wada

    Key Engineering Materials   485   31 - 34   2011.7

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.4028/www.scientific.net/kem.485.31

  • Sputtering formation of p-type SnO thin-film transistors on glass toward oxide complimentary circuits Reviewed

    Hisato Yabuta, Nobuyuki Kaji, Ryo Hayashi, Hideya Kumomi, Kenji Nomura, Toshio Kamiya, Masahiro Hirano, Hideo Hosono

    Applied Physics Letters   97 ( 7 )   072111   2010.8

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1063/1.3478213

  • Electronic states of magnetic refrigerator materials Mn0.9Fe1.1P0.55As0.45using soft x-ray magnetic circular dichroism Reviewed

    Y Takeda, T Okane, T Ohkochi, S -i Fujimori, Y Saitoh, H Yamagami, H Yabuta, T Takabatake

    Journal of Physics: Conference Series   200 ( 1 )   012199   2010.1

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1088/1742-6596/200/1/012199

  • Materials, Devices, and Circuits of Transparent Amorphous-Oxide Semiconductor Reviewed

    Hideya Kumomi, Seiichiro Yaginuma, Hideyuki Omura, Amita Goyal, Ayumu Sato, Masaya Watanabe, Mikio Shimada, Nobuyuki Kaji, Kenji Takahashi, Masato Ofuji, Tomohiro Watanabe, Naho Itagaki, Hisae Shimizu, Katsumi Abe, Yoshinori Tateishi, Hisato Yabuta, Tatsuya Iwasaki, Ryo Hayashi, Toshiaki Aiba, Masafumi Sano

    Journal of Display Technology   5 ( 12 )   531 - 540   2009.12

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1109/jdt.2009.2025521

  • 42.1: Invited Paper: Improved Amorphous In-Ga-Zn-O TFTs Reviewed

    Ryo Hayashi, Ayumu Sato, Masato Ofuji, Katsumi Abe, Hisato Yabuta, Masafumi Sano, Hideya Kumomi, Kenji Nomura, Toshio Kamiya, Masahiro Hirano, Hideo Hosono

    SID Symposium Digest of Technical Papers   39 ( 1 )   621 - 624   2008.5

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1889/1.3069739

  • Circuits using uniform TFTs based on amorphous In-Ga-Zn-O Reviewed

    Ryo Hayashi, Masato Ofuji, Nobuyuki Kaji, Kenji Takahashi, Katsumi Abe, Hisato Yabuta, Masafumi Sano, Hideya Kumomi, Kenji Nomura, Toshio Kamiya, Masahiro Hirano, Hideo Hosono

    Journal of the Society for Information Display   15 ( 11 )   915 - 921   2007.11

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1889/1.2812992

  • Neutron powder diffraction study of the site disorder in YbInCu4 Reviewed

    K. Hiraoka, H. Yabuta, K. Kojima, K. Oikawa, T. Kamiyama

    Journal of Magnetism and Magnetic Materials   310 ( 2 )   380 - 382   2007.3

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1016/j.jmmm.2006.10.085

  • Pressure effects on the first order transition in MnFe(P,As) and MnFe(P,Ge) Reviewed

    H. Yabuta, K. Umeo, T. Takabatake, L. Chen, Y. Uwatoko

    Journal of Magnetism and Magnetic Materials   310 ( 2 )   1826 - 1828   2007.3

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1016/j.jmmm.2006.10.699

  • Temperature- and Field-Induced First-Order Ferromagnetic Transitions in MnFe(P1-xGex) Reviewed

    Hisato Yabuta, Kazunori Umeo, Toshiro Takabatake, Keiichi Koyama, Kazuo Watanabe

    Journal of the Physical Society of Japan   75 ( 11 )   113707 - 113707   2006.11

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jpsj.75.113707

  • High-mobility thin-film transistor with amorphous InGaZnO4 channel fabricated by room temperature rf-magnetron sputtering Reviewed

    Hisato Yabuta, Masafumi Sano, Katsumi Abe, Toshiaki Aiba, Tohru Den, Hideya Kumomi, Kenji Nomura, Toshio Kamiya, Hideo Hosono

    Applied Physics Letters   89 ( 11 )   112123 - 112123   2006.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1063/1.2353811

  • 115NMR study of YbInNi4 Reviewed

    H Yabuta, K Hiraoka, Y Miura, K Kojima, S Tomiyoshi

    Journal of Magnetism and Magnetic Materials   272-276   205 - 206   2004.5

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1016/j.jmmm.2003.12.538

  • Low Temperature Recovery of Ru/(Ba, Sr)TiO3/Ru Capacitors Degraded by Forming Gas Annealing Reviewed

    Toshihiro Iizuka, Koji Arita, Ichiro Yamamoto, Shintaro Yamamichi, Hiromu Yamaguchi, Takeo Matsuki, Shuji Sone, Hisato Yabuta, Yoichi Miyasaka, Yoshitake Kato

    Japanese Journal of Applied Physics   39 ( Part 1, No. 4B )   2063 - 2067   2000.4

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.39.2063

  • Plasma CVD of (BaSr)TiO3 Dielectrics for Gigabit DRAM Capacitors Reviewed

    M. Yoshida, H. Yabuta, S. Yamamichi, H. Yamaguchi, S. Sone, K. Arita, T. Iizuka, S. Nishimoto, Y. Kato

    Journal of Electroceramics   3 ( 2 )   123 - 133   1999.6

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1023/a:1009938909239

  • Electrical Properties of (Ba, Sr)TiO3 Films on Ru Bottom Electrodes Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition at Extremely Low Temperature and Rapid Thermal Annealing Reviewed

    Shuji Sone, Reiko Akahane, Koji Arita, Hisato Yabuta, Shintaro Yamamichi, Masaji Yoshida, Yoshitake Kato

    Japanese Journal of Applied Physics   38 ( Part 1, No. 4B )   2200 - 2204   1999.4

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.38.2200

  • A stacked capacitor technology with ECR plasma MOCVD (Ba,Sr)TiO3 and RuO2/Ru/TiN/TiSix/ storage nodes for Gb-scale DRAMs Reviewed

    S. Yamamichi, P. Lesaicherre, H. Yamaguchi, K. Takemura, S. Sone, H. Yabuta, K. Sato, T. Tamura, K. Nakajima, S. Ohnishi, K. Tokashiki, Y. Hayashi, Y. Kato, Y. Miyasaka, M. Yoshida, H. Ono

    IEEE Transactions on Electron Devices   44 ( 7 )   1076 - 1083   1997.7

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1109/16.595934

  • A stacked capacitor with an MOCVD-(Ba,Sr)TiO3 film and a RuO2/Ru storage node on a TiN-capped plug for 4 Gbit DRAMs and beyond Reviewed

    H. Yamaguchi, T. Iizuka, H. Koga, K. Takemura, S. Sone, H. Yabuta, S. Yamamichi, P. Lesaicherre, M. Suzuki, Y. Kojima, K. Nakajima, N. Kasai, T. Sakuma, Y. Kato, Y. Miyasaka, M. Yoshida, S. Nishimoto

    International Electron Devices Meeting. Technical Digest   675 - 678   1996.12

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (other academic)  

    DOI: 10.1109/iedm.1996.554071

  • Low Temperature Fabrication of (Ba, Sr)TiO3 Thin Films by ECR Plasma CVD Reviewed

    Y. Kato, H. Yabuta, S. Sone, H. Yamaguchi, T. Iizuka, S. Yamamichi, P-Y. Lesaicherre, S. Nishimoto, M. Yoshida

    MRS Proceedings   433   3 - 8   1996.12

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1557/proc-433-3

  • Low Temperature Deposition of (Ba,Sr)TiO3 Films by Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition Reviewed

    Shuji Sone, Hisato Yabuta, Yoshitake Kato, Toshihiro Iizuka, Shintaro Yamamichi, Hiromu Yamaguchi, Pierre-Yves Lesaicherre, Shozo Nishimoto, Masaji Yoshida

    Japanese Journal of Applied Physics   35 ( Part 1, No. 9B )   5089 - 5093   1996.9

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1143/jjap.35.5089

  • Thin film (Ba,Sr)TiO3 over stacked RuO2 nodes for Gbit DRAM capacitors Reviewed

    Yoshida, M., Yabuta, H., Sone, S., Takemura, K., Sakuma, T., Kato, Y., Miyasaka, Y., Iizuka, T., Yamamichi, S., Yamaguchi, H., Lesaicherre, P. Y., Nishimoto, S.

    Nec Research & Development   37 ( 3 )   305 - 316   1996.3

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

  • An ECR MOCVD (Ba,Sr)TiO3 based stacked capacitor technology with RuO2/Ru/TiN/TiSix storage nodes for Gbit-scale DRAMs Reviewed

    S. Yamamichi, P.-Y. Lesaicherre, H. Yamaguchi, K. Takemura, S. Sone, H. Yabuta, K. Sato, T. Tamura, K. Nakajima, S. Ohnishi, K. Tokashiki, Y. Hayashi, Y. Kato, Y. Miyasaka, M. Yoshida, H. Ono

    Proceedings of International Electron Devices Meeting   119 - 122   1995.12

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (other academic)  

    DOI: 10.1109/iedm.1995.497196

  • Improved Electrical Properties of SrTiO3, Thin Films by Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition Reviewed

    Hisato Yabuta, Koichi Takemura, Hiromu Yamaguchi, Shuji Sone, Toshiyuki Sakuma, Masaji Yoshida

    MRS Proceedings   361   325 - 330   1994.12

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1557/proc-361-325

  • (Ba+Sr)/Ti ratio dependence of the dielectric properties for (Ba0.5Sr0.5)TiO3 thin films prepared by ion beam sputtering Reviewed

    Shintaro Yamamichi, Hisato Yabuta, Toshiyuki Sakuma, Yoichi Miyasaka

    Applied Physics Letters   64 ( 13 )   1644 - 1646   1994.3

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1063/1.111818

  • Magnetic and NMR study of valence phase transition in YbIn1−xTxCu4 (T = Ag and Au) Reviewed

    104-107   653 - 654   1992.2

     More details

    Language:English   Publishing type:Research paper (scientific journal)  

    DOI: 10.1016/0304-8853(92)90968-t

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Presentations

  • ワイドギャップ酸化物半導体材料に対するKrFエキシマレーザー照射プロセスの適用検討

    @薮田 久人;@田中 洋平;@片山 慶太;#別府 美彩;#佐藤 舞起;#石原 昌幸;@岩本 知広;@妹川 要;@三浦 泰祐

    2024年第71回応用物理学会春季学術講演会  2024.3 

     More details

    Event date: 2024.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Venue:東京都市大学   Country:Japan  

  • KrFエキシマレーザーによるITO薄膜のアニール処理

    #佐藤 舞起;@薮田 久人;@田中 洋平;@片山 慶太;@岩本 知広;@妹川 要;@三浦 泰祐

    2024年第71回応用物理学会春季学術講演会  2024.3 

     More details

    Event date: 2024.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Venue:東京都市大学   Country:Japan  

  • KrFエキシマレーザーによるβ-Ga2O3へのSnドーピング

    #別府 美彩;@田中 洋平;@片山 慶太;@薮田 久人

    2024年第71回応用物理学会春季学術講演会  2024.3 

     More details

    Event date: 2024.3

    Language:Japanese   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Venue:東京都市大学   Country:Japan  

  • Sputtering formation of amorphous ZnO films with non-equilibrium nitrogen incorporation and their crystallization process by annealing Invited International conference

    @H. Yabuta, #Z. Shen, #Y. Mido, @H. Setoyama, @I. Hirosawa, @N. Itagaki

    MRM2023/IUMRS-ICA2023  2023.12 

     More details

    Event date: 2023.12

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Japan  

  • Non-equilibrium nitrogen incorporation into ZnO films by rf-magnetron sputtering: stabilization of amorphous phase and noteworthy local structure in crystalline phase by solid phase crystallization International conference

    Hisato Yabuta, Zhiyuan Shen, Yuta Mido, Hiroyuki Setoyama, Ichiro Hirosawa, Naho Itagaki

    The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG XXXV)  2023.7 

     More details

    Event date: 2023.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Netherlands  

  • Sputter epitaxy of atomically flat (ZnO)x(InN)1-x films on sapphire substrates using ZnO(N) buffer layers fabricated by Ar/N2discharges International conference

    Y. Nakano, UR. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, H. Kiyama, H. Yabuta and N. Itagaki

    The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG XXXV)  2023.7 

     More details

    Event date: 2023.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Netherlands  

  • Sputter deposition of low resistive 30-nm-thick ZnO:Al films using ZnO seed layers grown via solid-phase crystallization International conference

    Yoshiharu Wada, Zhiyuan Shen, Hisato Yabuta, Naoto Yamashita, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Haruki Kiyama, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, and Naho Itagaki

    The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG XXXV)  2023.7 

     More details

    Event date: 2023.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Netherlands  

  • Pseudomorphic growth of (ZnO)x(InN)1-x films on ZnO substrates by magnetron sputtering using Ar/N2/O2 discharges International conference

    R. Narishige, Y. Nakano, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, H. Yabuta, and N. Itagaki

    The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG XXXV)  2023.7 

     More details

    Event date: 2023.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Netherlands  

  • Sputter epitaxy of Zn1-xMgxO films on lattice-mismatched sapphire substrates utilizing ZnO(N)/MgO buffer layers fabricated by Ar/N2 and Ar/O2 discharges International conference

    T. Yunoue, K. Yataka, N. Yamashita, D. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, H. Yabuta, N. Itagaki

    The International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG XXXV)  2023.7 

     More details

    Event date: 2023.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Netherlands  

  • Structural investigation of BiFeO3-BaTiO3 single crystals around the morphotripic phase boundary by reciprocal space mapping Invited International conference

    Hisato Yabuta, Mikio Shimada, Masatoshi Watanabe, Takayuki Watanabe, Makoto Kubota, Tomoyuki Koganezawa, Ichiro Hirosawa, Nobuyuki Kumada, Satoshi Wada, Naho Itagaki

    International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC'2023)  2023.7 

     More details

    Event date: 2023.7

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Austria  

  • A Study of Solid-phase Crystallization of Amorphous ZnON Films International conference

    Zhiyuan Shen, Yuta Mido, Naoto Yamashita, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Hisato Yabuta, Naho Itagaki

    The 7th International Conference on Advances in Functional Materials (AFM 2023)  2023.1 

     More details

    Event date: 2023.1

    Language:English   Presentation type:Oral presentation (general)  

    Country:Japan  

  • The Early Work on Sputtering Formation of Amorphous IGZO (In-Ga-Zn-O) Channel and SnO Channel TFTs Invited

    Hisato Yabuta, Ryo Hayashi, Hideya Kumomi

    2022.12 

     More details

    Event date: 2022.12

    Language:English  

    Country:Other  

  • Amorphous In-Ga-Mg-O thin film: Optical, Electrical Properties and TFT characteristics Invited

    H. Yabuta, N. Itagaki, T. Ekino, Y. Shigesato

    The 32nd Annual Meeting of MRS-J  2022.12 

     More details

    Event date: 2022.12

    Language:English  

    Country:Other  

  • YbInCu4の価数揺動状態 III

    薮田 久人, 小島 健一, 檜原 忠幹

    日本物理学会 第45回年次大会 大阪大学  1990.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • YbInCu4の価数揺動状態 IV

    薮田 久人, 小島 健一, 堀江 雅浩, 鈴木 孝至, 桜井 醇児, 藤田 敏三, 福田 豊, 檜原 忠幹

    日本物理学会 1990年秋の分科会 岐阜大学  1990.10 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • C15b型イッテルビウム化合物のNMR

    薮田 久人, 小島 健一, 福田 豊, 檜原 忠幹, 笠松 義隆

    日本物理学会 1991年春の分科会 学習院大学  1991.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Magnetic and NMR study of valence phase transition in YbIn1-xTxCu4 (T = Ag and Au)"

    International Conference on Magnetism;Edinburgh, Scotland  1991.9 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Cl5b型イッテルビウム化合物のNQR

    薮田 久人, 小島 健一, 檜原 忠幹, 笠松 義隆

    日本物理学会 第46回年会 北海道大学  1991.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • IBS-(Ba,Sr)TiO3薄膜の誘電率の(Ba,Sr)/Ti比依存性

    薮田 久人, 山道 新太郎, 佐久間 敏幸, 宮坂 洋一

    第54回応用物理学会学術講演会 北海道大学  1993.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • ECR-CVD法によるSrTiO3膜電気特性のマイクロ波パワー依存性

    山口 弘, P-Y. Lesaicherre, 薮田 久人, 佐久間 敏幸, 小野 春彦, 吉田 政次

    第41回応用物理学会関係連合講演会  1994.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Growth of SrTiO3 Thin Films by Sr((CH3)3COCHCOC(CH3)3)2/Ti(O-iC3H7)4/O2/Ar Vapor Phase System

    Hisato Yabuta, Hiromu Yamaguchi, Toshiyuki Sakuma, Masaji Yoshida

    7th International Conference on Metalorganic Vapor Phase Epitaxy (ICMOVPE VII), Yokohama, Japan  1994.5 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • ECR-CVDによるSrTiO3薄膜の電気的特性

    薮田 久人, 竹村 浩一, 山口 弘, 曽祢 修次, 佐久間 敏幸, 吉田 政次

    第55回応用物理学会学術講演会 名城大学  1994.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Improved Electrical Properties of SrTiO3 Thin Films by Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition

    Hisato Yabuta, Koichi Takemura, Hiromu Yamaguchi, Shuji Sone, Toshiyuki Sakuma, Masaji Yoshida

    1994 Materials Research Society (MRS) Fall Meeting, Boston, USA,  1994.11 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • ECR-CVD法によるSrTiO3膜電気特性のマイクロ波パワー依存性

    山口 弘, 曽祢 修次, 薮田 久人, 吉田 政次, 加藤 芳健

    第42回応用物理学会関係連合講演会  1995.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 高誘電率(Ba,Sr)TiO3薄膜のCVD

    吉田 政次, 薮田 久人, 曽祢 修次, 山口 弘, 加藤 芳健

    化学工学会 第27回秋季大会  1995.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • ECR-CVD法により成膜した(Ba,Sr)TiO3の電気特性

    曽祢 修次, 薮田 久人, 山口 弘, 加藤 芳健, 吉田 政次, 山道 新太郎

    第56回応用物理学会学術講演会  1995.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • CVD-SrTiO3膜の電気特性

    山口 弘, 曽祢 修次, 薮田 久人, 加藤 芳健, 吉田 政次

    電気学会電子材料研究会 (EFM-95)  1995.11 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • CVDによる(Ba,Sr)TiO3薄膜

    吉田 政次, 薮田 久人, 曽祢 修次, 山口 弘, 加藤 芳健

    日本表面科学会 第15回表面科学講演大会  1995.12 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • An ECR MOCVD (Ba,Sr)TiO3 based stacked capacitor technology with RuO2/Ru/TiN/TiSix storage nodes for Gbit-scale DRAMs

    S. Yamamichi, P.-Y. Lessaicherre, H. Yamaguchi, K. Takemura, S. Sone, H. Yabuta, K. Sato, T. Tamura, K. Nakajima, S. Ohnishi, K. Tokashiki, Y. Hayashi, Y. Kato, Y. Miyasaka, M. Yoshida, H. Ono

    The IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM '95), Washington DC, USA  1995.12 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Low Temperature Fabrication of (Ba,Sr)TiO3 Thin Films by ECR Plasma CVD

    Y. Kato, H. Yabuta, S. Sone, H. Yamaguchi, T. Iizuka, S. Yamamichi, P.-Y. Lesaicherre, S. Nishimoto, M. Yoshida

    1996 Materials Research Society (MRS) Spring Meeting, San Fransisco, USA  1996.4 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • ECR-CVD法による(Ba,Sr)TiO3の低温成膜

    曽祢 修次, 薮田 久人, 加藤 芳健, 吉田 政次, 飯塚 敏洋, 山道 新太郎, 山口 弘, LESAICHERRE Pierre-Yves, 西本 昭三

    第13回強誘電体応用会議(FMA13)  1996.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • ギガビットDRAM用のECRプラズマCVD-(Ba,Sr)TiO3容量膜

    吉田 政次, 有田 幸司, 薮田 久人, 曽祢 修次, 山道 新太郎, 竹村 浩一, 佐久間 敏幸, 加藤 芳健, 宮坂 洋一, 飯塚 敏洋, 山口 弘, LESAICHERRE Pierre-Yves, 西本 昭三

    第51回半導体・集積回路技術シンポジウム  1996.12 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Stacked Capacitors with (Ba,Sr)TiO3 Films and RuO2/Ru Storage Nodes Over TiN Studs for 4Gbit DRAMs and Beyond

    H. Yamaguchi, S. Yamamichi, K. Takemura, S. Sone, H. Yabuta, T. Sakuma, Y. Kato, Y. Miyasaka, M. Yoshida, H. Koga, N. Kasai, T. Iizuka, S. Nishimoto, M. Suzuki, P.-Y. Lesaicherre, Y. Kojima, K. Nakajima

    The IEEE International Electron Devices Meeting (IEDM '96), San Francisco, USA  1996.12 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Phase Formation in CVD-grown SrTiO3 and (BaSr)TiO3 Films

    M. Yoshida, H. Yabuta, S. Sone, H. Yamaguchi, K. Arita, Y. Kato

    Joint International Meeting - the 192nd Meeting of The Electrochemical Society and the 48th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Paris, France,  1997.8 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • ECR-CVDによるBST薄膜の6インチ基板面内均一性

    薮田 久人, 山道 新太郎, 有田 幸司, 飯塚 敏洋, 曽祢 修次, 山口 弘, 加藤 芳健, 西本 昭三, 吉田 政次

    第45回応用物理学会関係連合講演会 東京工科大学  1998.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Reliability Study on High Dielectric Constant (Ba,Sr)TiO3 Thin Films

    S. Yamamichi, A. Yamamichi, D. Park, H. Yabuta, T. Iizuka, K. Arita, S. Sone, Y. Kato, S. Nishimoto, T.-J. King, C. Hu, M. Yoshida

    The 193rd Electrochemical Society Spring Meeting, San Diego, USA,  1998.5 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Electrical Properties of (Ba,Sr)TiO3 Films on Ru Bottom Electrodes Prepared by Electron Cyclotron Resonance Plasma Chemical Vapor Deposition at Extremely Low Temperature and Rapid Thermal Annealing

    S. Sone, R. Akahane, K. Arita, H. Yabuta, S. Yamamichi, M. Yoshida, Y. Kato

    1998 International Conference on Solid State Devices & Materials (SSDM), Hiroshima, Japan,  1998.9 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Low Temperature Recovery of Ru/(Ba,Sr)TiO3/Ru Capacitors Degraded by Forming Gas Annealing

    T. Iizuka, K. Arita, I. Yamamoto, S. Yamamichi, H. Yamaguchi, T. Matsuki, S. Sone, H. Yabuta, Y. Miyasaka, Y. Kato

    1999 International Conference on Solid State Devices & Materials (SSDM), Tokyo, Japan,  1999.9 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Ru/(Ba,Sr)TiO3/Ru薄膜キャパシタの水素アニール劣化に対する低温ポストアニール回復効果

    飯塚 敏洋, 有田 幸司, 山本 一郎, 山道 新太郎, 山口 弘, 松木 武雄, 薮田 久人, 曽祢 修次, 宮坂 洋一, 加藤 芳健

    第58回半導体・集積回路技術シンポジウム  2000.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 115In NMR study of YbInNi4

    H. Yabuta, K. Hiraoka, Y. Miura, K. Kojima, S. Tomiyoshi

    International Conference on Magnetism, Roma, Italy,  2003.7 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • 遍歴電子メタ磁性体MnFe(P,Ge)の磁性

    薮田 久人, 梅尾 和則, 高畠 敏郎, 小山 佳一, 渡辺 和雄

    日本物理学会 第60回年次大会 東京理科大学  2005.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 遍歴電子メタ磁性体MnFe(P,Ge)の磁性II

    薮田 久人, 笹川 哲也, 重藤 啓輔, 高畠 敏郎

    日本物理学会 2005年秋季大会 同志社大学  2005.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • RFスパッタ法によるアモルファス酸化物チャネルTFTの室温作成

    薮田 久人, 佐野 政史, 安部 勝美, 田 透, 雲見 日出也, 野村 研二, 神谷 利夫, 細野 秀雄

    第66回応用物理学会学術講演会 徳島大学  2005.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Amorphous Oxide Channel TFTs Fabricated with RF Sputtering Method

    H. Kumomi, N. Kaji, H. Yabuta, M. Sano, K. Abe, T. Den, K. Nomura, T. Kamiya, H. Hosono

    2006.1 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • メタ磁性体MnFe(P,Ge)およびMnFe(P,As)の電気抵抗

    薮田 久人, 笹川 哲也, 道村 真司, 重藤 啓輔, 伊賀 文俊, 高畠 敏郎

    日本物理学会 第61回年次大会 愛媛大学  2006.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Pressure effects on the first order transition in MnFe(P,As) and MnFe(P,Ge)

    H. Yabuta, K. Umeo, T. Takabatake, L. Chen, Y. Uwatoko

    International Conference on Magnetism, Kyoto, Japan  2006.8 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • TEM Characterization of TFTs of Transparent Oxide Semiconductors Fabricated at Room Temperature by Rf-sputtering Method

    T. Aiba, M. Shimada, H. Yabuta, K. Abe, K. Nobuyuki, R. Hayashi, M. Sano, H. Kumomi

    The 16th International Microscopy Congress, Sapporo, Japan  2006.9 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • メタ磁性物質MnFe(P,As)の磁性元素サイト置換効果

    メタ磁性物質MnFe(P, As, の磁性元素サイト置換効果

    日本物理学会 2006年秋季大会 千葉大学  2006.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Amorphous In-Ga-Zn-O based TFTs and circuits

    R. Hayashi, M. Ofuji, N. Kaji, K. Abe, H. Yabuta, M. Sano, H. Kumomi, K. Nomura, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono

    The 3rd International TFT Conference (ITC07), Rome, Italy  2007.1 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • 磁気冷凍材料の軟X線磁気円二色性

    竹田 幸治, 岡根 哲夫, 大河内 拓雄, 斎藤 祐児, 山上 浩志, 薮田 久人, 高畠 敏郎

    日本物理学会 2007年春季大会 鹿児島大学  2007.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • メタ磁性物質MnFe(P,As)の圧力誘起スピングラス相

    薮田 久人, 陳 林, 上床 美也, 重藤 啓輔, 高畠 敏郎

    日本物理学会 第62回年次大会 北海道大学  2007.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Fundamental Analysis on On-Operation of an Amorphous In-Ga-Zn-O Based Gated Four-Probe TFT

    K. Abe, M. Ofuji, H. Shimizu, A. Sato, Y. Tateishi, K. Takahashi, N. Kaji, H. Yabuta, R. Hayashi, M. Sano, H. Kumomi, K. Nomura, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono

    ITC08, The 4th International Thin-Film Transistor Conference, Seoul, Korea,  2008.1 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • アモルファス半導体In-Ga-Zn-O膜の構造と伝導

    薮田 久人, 高田 一広, 島田 幹夫, 雲見 日出也, 廣沢 一郎, 野村 研二, 神谷 利夫, 平野 正浩, 細野 秀雄

    日本物理学会 第63回年次大会 近畿大学  2008.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • アニールにより伝導制御されたアモルファスIn-Ga-Zn-O 膜の電気伝導と構造

    薮田 久人, 高田 一広, 島田 幹夫, 加地 信幸, 林 享, 雲見 日出也, 廣沢 一郎, 野村 研二, 神谷 利夫, 平野 正浩, 細野 秀雄

    第55回応用物理学関係連合講演会、日本大学  2008.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Invited Paper: Improved Amorphous In-Ga-Zn-O TFTs Invited

    R. Hayashi, A. Sato, M. Ofuji, K. Abe, H. Yabuta, M. Sano, H. Kumomi, K. Nomura, T. Kamiya, M. Hirano, H. Hosono

    2008 SID International Symposium, Los Angeles, USA  2008.5 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • p型伝導を示す多結晶およびアモルファスSnO膜の構造および電気特性

    薮田 久人, 加地 信幸, 林 享, 雲見 日出也, 野村 研二, 神谷 利夫, 平野 正浩, 細野 秀雄

    第56回応用物理学関係連合講演会、筑波大学  2009.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • EELSによるIn-Ga-Zn系アモルファス酸化物半導体の構造解析

    島田 幹夫, 大村 秀之, 雲見 日出也, 薮田 久人, 饗場 利明, 須賀 健夫, 高田 一広, 向出 太平

    日本顕微鏡学会第65回学術講演会 仙台国際センター  2009.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Electronic States of Magnetic Refrigerator Materials using Soft X-ray Magnetic circular Dichroism

    Y Takeda, T Okane, T Ohkochi, S -i Fujimori, Y Saitoh, H Yamagami, H Yabuta, T Takabatake

    International Conference on Magnetism (ICM2009), Karlsruhe, Germany,  2009.7 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Amorphous Oxide Semiconductor Based TFTs: Their Current Situation and Issues Invited

    N. Itagaki, S. Yaginuma, H. Omura, A. Goyal, A. Sato, M. Watanabe, M. Shimada, N. Kaji, K. Takahashi, M. Ofuji, T. Watanabe, H. Shimizu, K. Abe, Y. Tateishi, H. Yabuta, T. Iwasaki, R. Hayashi, T. Aiba, M. Sano, H. Kumomi

    2009.12 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

    Amorphous Oxide Semiconductor Based TFTs: Their Current Situation and Issues

  • Materials and Devices of Transparent Amorphous Oxide Semiconductors Invited

    H. Kumomi, S. Yaginuma, H. Omura, A. Goyal, A. Sato, M. Watanabe, M. Shimada, N. Kaji, K. Takahashi, M. Ofuji, T. Watanabe, N. Itagaki, H. Shimizu, K. Abe, Y. Tateishi, H. Yabuta, T. Iwasaki, R. Hayashi, T. Aiba, M. Sano

    International Workshop on Transparent Amorphous Oxide Semiconductors (TAOS 2010), Yokohama, Japan,  2010.1 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • エピタキシャルBi(M1/2Ti1/2)O3-BiFeO3薄膜(M = Zn, Mg)の強誘電性評価(I)

    長田 潤一, 安井 伸太郎, 山田 智明, 内田 寛, 薮田 久人, 渡邉 隆之, 三浦 薫, 舟窪 浩

    第71回応用物理学会学術講演会 長崎大学  2010.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • エピタキシャルBi(M1/2Ti1/2)O3-BiFeO3薄膜(M = Zn, Mg)の強誘電性評価(II)

    安井 伸太郎, 長田 潤一, 山田 智明, 内田 寛, 薮田 久人, 渡邉 隆之, 三浦 薫, 舟窪 浩

    第71回応用物理学会学術講演会 長崎大学  2010.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 非鉛系圧電材料開発の現状と今後

    和田 智志, 三井 龍太, 藤井 一郎, 中島 光一, 熊田 伸弘, 島田 幹夫, 林 潤平, 薮田 久人, 久保田 純, 福井 哲朗

    第49回セラミックス基礎科学討論会 岡山コンベンションセンター  2011.1 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • エピタキシャルBi(Zn1/2Ti1/2)O3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3薄膜の作製と評価

    長田 潤一, 安井 伸太郎, 山田 智明, 内田 寛, 東 正樹, 薮田 久人, 渡邉 隆之, 三浦 薫, 舟窪 浩

    第58回応用物理学関係連合講演会 神奈川工科大学  2011.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3三成分系セラミックス作製と圧電特性

    三井 龍太, 藤井 一郎, 中島 光一, 熊田 伸弘, 和田 智志, 島田 幹夫, 林 潤平, 薮田 久人, 渡邉 隆之, 久保田 純, 福井 哲朗

    日本セラミックス協会 2011年 年会 静岡大学  2011.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • c軸配向六方晶BaTiO3セラミックスの(111)配向正方晶BaTiO3への構造変化

    渡邉 隆之, 島田 幹夫, 餐場 利明, 薮田 久人, 三浦 薫, 岡 研吾, 東 正樹, 和田 智志, 熊田 伸弘

    第28回強誘電体応用会議(FMA28) コープイン京都  2011.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Sm置換BiFeO3の相転移挙動

    久保田 純, 薮田 久人, 三浦 薫, 中村 嘉孝, 島川 祐一, 岡 研吾, 東 正樹

    第28回強誘電体応用会議(FMA28) コープイン京都  2011.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3系セラミックスの誘電・圧電特性

    藤井 一郎, 三井 龍太, 中島 光一, 熊田 伸弘, 和田 智志, 黒岩 芳弘, 島田 幹夫, 渡邉 隆之, 林 潤平, 薮田 久人, 久保田 純, 福井 哲朗

    第28回強誘電体応用会議(FMA28) コープイン京都  2011.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • (111)配向正方晶BaTiO3セラミックスの作製

    熊田 伸弘, 渡邉 隆之, 島田 幹夫, 餐場 利明, 薮田 久人, 三浦 薫, 岡 研吾, 東 正樹, 和田 智志

    粉体粉末冶金協会 平成23年度春季大会 早稲田大学  2011.6 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Structural, dielectric, and piezoelectric properties of BaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3 ceramics

    Ichiro Fujii, Ryuta Mitsui, Kouichi Nakashima, Nobuhiro Kumada, Satoshi Wada, Yoshihiro Kuroiwa, Mikio Shimada, Takayuki Watanabe, Jumpei Hayashi, Hisato Yabuta, Makoto Kubota, Tetsuro Fukui

    ISAF-PFM-2011, The 20th IEEE International Symposium on Applications of Ferroelectrics and Interrnational Symposium on Piezoresponse Force Microscopy & Nanoscale Phenomena in Polar Materials, Vancouver, Canada  2011.7 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • Sm置換BiFeO3の相転移挙動

    久保田 純, 薮田 久人, 三浦 薫, 中村 嘉孝, 島川 祐一, 岡 研吾, 東 正樹

    粉体粉末冶金協会 平成23年度秋季大会 大阪大学  2011.10 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • PLD法によるBi(Mg1/2Ti1/2)O3膜の作製と評価

    及川 貴弘, 安井 伸太郎, 舟窪 浩, 渡邉 隆之, 薮田 久人, 福井 哲郎

    第31回エレクトロセラミックス研究討論会 東京大学  2011.10 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3セラミックスの微構造と圧電特性

    三井 龍太, 藤井 一郎, 中島 光一, 熊田 伸弘, 和田 智志, 島田 幹夫, 林 潤平, 薮田 久人, 渡邉 隆之, 久保田 純, 福井 哲朗

    第31回エレクトロセラミックス研究討論会 東京大学  2011.10 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 一軸配向Bi(Zn1/2Ti1/2)O3系圧電体薄膜の作製と圧電性評価

    安井 伸太郎, 及川 貴弘, 長田 潤一, 内田 寛, 渡邉 隆之, 薮田 久人, 三浦 薫, 黒澤 実, 舟窪 浩

    第59回応用物理学関係連合講演会 早稲田大学  2012.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • ドナー及びアクセプターを添加したBaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3セラミックスの圧電特性

    藤井 一郎, 三井 龍太, 中島 光一, 熊田 伸弘, 和田 智志, 渡邉 隆之, 薮田 久人, 島田 幹夫, 林 潤平, 久保田 純, 福井 哲朗

    日本セラミックス協会 2012年 年会 京都大学  2012.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • PLD法で作製したBi(Mg1/2Ti1/2)O3膜の特性

    及川 貴弘, 安井 伸太郎, 渡邉 隆之, 薮田 久人, 福井 哲郎, 舟窪 浩

    第59回応用物理学関係連合講演会 早稲田大学  2012.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BiFeO3-BaTiO3固溶体結晶の強誘電性と磁性

    薮田 久人, 向出 太平, 島田 幹夫, 渡邉 隆之, 久保田 純, 三浦 薫, 福井 哲朗, 藤井 一郎, 熊田 伸弘, 和田 智志

    日本物理学会 第67回年次大会 関西学院大学  2012.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 高圧合成法で作製したSm置換BiFe1-xCoxO3の組成および温度依存性

    久保田 純, 薮田 久人, 三浦 薫, 岡 研吾, 東 正樹

    第29回強誘電体応用会議(FMA29) コープイン京都  2012.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • ナノドメインエンジニアリングによるBaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3系圧電セラミックスの開発

    藤井 一郎, 三井 龍太, 中島 光一, 熊田 伸弘, 和田 智志, 森吉 千佳子, 黒岩 芳弘, 薮田 久人, 渡邉 隆之, 島田 幹夫, 三浦 薫

    第29回強誘電体応用会議(FMA29) コープイン京都  2012.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • PLD法で作製したBi(Mg1/2Ti1/2)O3膜の評価

    及川 貴弘, 安井 伸太郎, 渡邉 隆之, 薮田 久人, 福井 哲朗, 舟窪 浩

    第29回強誘電体応用会議(FMA29) コープイン京都  2012.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3-Bi(Mg1/2Ti1/2)O3-BiFeO3圧電セラミクスの微細構造

    薮田 久人, 島田 幹夫, 渡邉 隆之, 林 潤平, 久保田 純, 三浦 薫, 福井 哲朗, 藤井 一郎, 和田 智志

    第29回強誘電体応用会議(FMA29) コープイン京都  2012.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • シリコン基板上に作製したビスマス基圧電体膜の特性評価

    及川 貴弘, 安井 伸太郎, 真鍋 直人, 小林 健, 渡邉 隆之, 薮田 久人, 三浦 薫, 舟窪 浩

    第73回応用物理学会学術講演会 愛媛大学・松山大学  2012.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BiFeO3-BaTiO3固溶体結晶の強誘電性と磁性II

    薮田 久人, 向出 太平, 島田 幹夫, 渡邉 隆之, 久保田 純, 三浦 薫, 福井 哲朗, 藤井 一郎, 熊田 伸弘, 和田 智志

    日本物理学会 2012年秋期大会 横浜国立大学  2012.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BiFeO3-BaTiO3固溶体結晶の強誘電性と磁性III

    薮田 久人, 渡邉 壮俊, 島田 幹夫, 向出 太平, 渡邉 隆之, 久保田 純, 三浦 薫, 熊田 伸弘, 和田 智志

    日本物理学会 第68回年次大会 広島大学  2013.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Microscopic Structure and Electrical Transport Property of Sputter-Deposited Oxide-Semiconductor Thin Films Invited

    Hisato Yabuta

    26th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-26), Fukuoka, JAPAN  2013.9 

     More details

    Language:English  

    Country:Other  

  • BiFeO3-BaTiO3固溶体結晶の構造・強誘電性・磁性

    薮田久人, 渡邉壮俊, 島田幹夫, 向出太平, 渡邉隆之, 久保田純, 三浦薫, 熊田伸弘, 和田智志

    日本物理学会 2013年秋期大会 徳島大学  2013.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • 機能性酸化物材料の構造評価 Invited

    薮田久人

    SPring-8利用推進協議会 次世代先端デバイス研究会(第1回)連合会館  2014.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BiFeO3-BaTiO3固溶体結晶の構造・強誘電性・磁性Ⅱ

    薮田久人, 渡邉壮俊, 島田幹夫, 向出太平, 渡邉隆之, 久保田純, 三浦薫, 熊田伸弘, 和田智志

    日本物理学会 第69回年次大会 東海大学  2014.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Mn添加BaTiO3 強誘電体セラミックスへのBi 添加効果

    薮田久人, 田中秀典, 古田達雄, 清水康志, 渡邉隆之, 松田堅義, 三浦 薫, 伊福俊博

    第31回強誘電体応用会議(FMA31)コープイン京都  2014.5 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3強誘電体セラミックスへのMn,Bi同時添加効果

    薮田久人, 田中秀典, 古田達雄, 清水康志, 渡邉隆之, 久保田純, 松田堅義, 三浦薫, 伊福俊博

    日本物理学会 2014年秋期大会 中部大学  2014.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3セラミックスのBi,Mn添加による微視的構造変化

    薮田久人, 田中秀典, 古田達雄, 清水康志, 渡邉隆之, 久保田純, 松田堅義, 三浦薫, 伊福俊博, 米田安宏

    日本物理学会 第70回年次大会 早稲田大学  2015.3 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • マグネトロンスパッタリング法による酸化物半導体薄膜の開発とその評価 Invited

    薮田 久人

    応用物理学会九州支部 特別講演会 九州大学  2021.3 

     More details

    Language:Others  

    Country:Other  

  • 非晶質ZnON膜からの固相結晶化ZnO膜の形成とシード層としての効果 Invited

    板垣 奈穂, 沈 志遠, 御堂 雄大, 薮田 久人

    第82回応用物理学会秋季学術講演会 オンライン  2021.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • Solid-phase Crystallization of Sputter-deposited ZnON Films and Their Impacts as Seed Layers for ZnO:Al Transparent Conducting Oxides

    Z. Shen, N. Yamashita, Y. Mido, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, H. Yabuta, N. Itagaki

    2021.12 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

    Solid-phase Crystallization of Sputter-deposited ZnON Films and Their Impacts as Seed Layers for ZnO:Al Transparent Conducting Oxides

  • 固相結晶化シード層上へのZnO:Al透明導電膜のスパッタリング成膜:固相結晶化温度の影響

    沈 志遠, 山下 尚人, 鎌滝 晋礼, 奥村 賢直, 古閑 一憲, 白谷 正治, 薮田 久人, 板垣 奈穂

    第83回応用物理学会秋季学術講演会 東北大学  2022.9 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

  • BaTiO3 系非鉛圧電セラミックス開発における放射光利用 Invited

    薮田久人

    第10 回SPring-8 次世代先端デバイス研究会/第84 回SPring-8 先端利用技術ワーク ショップ 「シリコン半導体製造技術・セラミックスデバイス開発の最前線と放射光 利用」  2022.12 

     More details

    Language:Japanese  

    Country:Other  

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Industrial property rights

Patent   Number of applications: 147   Number of registrations: 102
Utility model   Number of applications: 0   Number of registrations: 0
Design   Number of applications: 0   Number of registrations: 0
Trademark   Number of applications: 0   Number of registrations: 0

Professional Memberships

  • The Materials Research Society of Japan

  • The Flux Growth Society of Japan

  • The Japan Society of Applied Physics

  • The Physical Society of Japan

Academic Activities

  • Chairperson International contribution

    THERMEC 2023  ( Austria ) 2023.7

     More details

    Type:Competition, symposium, etc. 

  • Chairperson International contribution

    Advanced in Functional Materials 2023  ( Japan ) 2023.1

     More details

    Type:Competition, symposium, etc. 

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2023

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:2

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2022

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:1

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2021

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:1

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2020

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:3

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2018

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:3

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2016

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:3

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2015

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:6

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2014

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:4

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2013

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:2

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2012

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:7

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2011

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:1

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2010

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:7

  • Screening of academic papers

    Role(s): Peer review

    2009

     More details

    Type:Peer review 

    Number of peer-reviewed articles in foreign language journals:1

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Research Projects

  • 先進レーザー加工技術に関する研究

    2023.4

    九州大学、ギガフォトン株式会社 

      More details

    Authorship:Principal investigator 

    高繰返し発振可能な深紫外エキシマレーザーを用いて次世代半導体デバイスなどの電子デバイス製造に関する新規プロセス技術を開発することを目的とする。

  • 先進レーザー加工技術に関する研究

    2022.4 - 2025.3

    共同研究

      More details

    Authorship:Principal investigator  Grant type:Other funds from industry-academia collaboration

Class subject

  • 電磁エネルギー工学特論Ⅱ

    2024.6 - 2024.8   Summer quarter

  • Electromagnetic Energy Engineering II

    2024.6 - 2024.8   Summer quarter

  • 数学演習B

    2024.4 - 2024.9   First semester

  • 電気電子工学読解Ⅰ

    2024.4 - 2024.9   First semester

  • 電気電子工学演示Ⅰ

    2024.4 - 2024.9   First semester

  • ディジタル電子回路Ⅱ(EC)

    2023.12 - 2024.2   Winter quarter

  • 電気電子工学演示Ⅱ

    2023.10 - 2024.3   Second semester

  • 電気電子工学読解Ⅱ

    2023.10 - 2024.3   Second semester

  • ディジタル電子回路Ⅰ(EC)

    2023.10 - 2023.12   Fall quarter

  • 電磁エネルギー工学特論Ⅱ

    2023.6 - 2023.8   Summer quarter

  • Electromagnetic Energy Engineering II

    2023.6 - 2023.8   Summer quarter

  • 電気電子工学特別演習

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • 電気電子工学特別研究Ⅰ

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • 電気電子工学特別研究Ⅱ

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • Advanced Seminar in Electrical and Electronic Engineering

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • Advanced Research in Electrical and Electronic Engineering I

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • Advanced Research in Electrical and Electronic Eng II

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • 電磁エネルギー工学特別講究

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • Advanced Research in Electromagnetic Energy Engineering

    2023.4 - 2024.3   Full year

  • 数学演習B

    2023.4 - 2023.9   First semester

  • 電気電子工学読解Ⅰ

    2023.4 - 2023.9   First semester

  • 電気電子工学演示Ⅰ

    2023.4 - 2023.9   First semester

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FD Participation

  • 2024.3   Role:Participation   Title:【シス情FD】高度データサイエンティスト育成事業の取り組みについて

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2023.11   Role:Participation   Title:GakuNin RDMデータ活用セミナー : これからの研究データ管理を探る

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2023.11   Role:Participation   Title:【シス情FD】企業等との共同研究の実施増加に向けて

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2023.10   Role:Participation   Title:【シス情FD】価値創造型半導体人材育成センターについて

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2023.9   Role:Participation   Title:【シス情FD】Top10%論文/Top10%ジャーナルとは何か: 傾向と対策

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2023.4   Role:Participation   Title:令和5年度 第1回全学FD(新任教員の研修)The 1st All-University FD (training for new faculty members) in FY2023

    Organizer:University-wide

  • 2023.4   Role:Participation   Title:【シス情FD】若手教員による研究紹介⑧

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2023.3   Role:Participation   Title:【シス情FD】独・蘭・台湾での産学連携を垣間見る-Industy 4.0・量子コンピューティング・先端半導体-

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

  • 2022.9   Role:Participation   Title:【シス情FD】研究機器の共用に向けて

    Organizer:[Undergraduate school/graduate school/graduate faculty]

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Other educational activity and Special note

  • 2024  Class Teacher 

Social Activities

  • SEMICON JAPAN アカデミアブース出展

    SEMIジャパン  東京ビッグサイト  2023.12

     More details

    Audience: General, Scientific, Company, Civic organization, Governmental agency

    Type:Other

    研究室のアクティビティ(エキシマレーザーアニール固相結晶化技術、ワイドギャップ半導体へのエキシマレーザードーピング)を来場者(主に産業界)に紹介した。