プラズマ材料科学賞（奨励部門）

2013年8月   学振 153委員会   スパッタリングにおけるZnO膜の結晶成長制御とグリーンデバイスへの展開

Outstanding Poster Award

2013年8月   the 9th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering 2013  

International Symposium on Sputtering and Plasma Processes 2013; Poster Award

2013年7月   International Symposium on Sputtering and Plasma Processes  

11th APCPST "Advanced Plasma Application Award"

2012年10月   11th Asia Pacific Conference on Plasma Science adn Technology (APCPST) & 25th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM)  

Award for Encouragement of Research in Materials Science

2012年9月   IUMRS-ICEM2012  

IUMRS-ICEM2012 "Young Scientist Awards: Silver Award Winners"

2012年9月  

Best Poster Presentation Award

2012年3月   th International Symposium on Advanced Plasma Science and Its Applications for Nitrides and Nanomaterials  

ISPlasma2012 "Best Presentation Award"

2012年3月   ISPlasma2012  

Performances of Carbon Black-Titanium nitrate and Carbon Black-Titanium/Triton X-100 Composite Polymer Counter Electrodes for Dye-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, A. Pankaj, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Adv. Mater. Res.   1168   2022年1月

Improved luminescence performance of Yb3+-Er3+-Zn2+: Y2O3 phosphor and its application to solar cells 査読 国際誌

F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, S. H. Hwang, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, D. Nakamura. M. Shiratani

Optical Materials   123   2022年1月

Plasma Treatment Effect on the Paramagnetic Species of Barley Seed Radical’s Intensity: An EPR study 査読 国際誌

2021年12月

Plasma Treatment Effect on the Paramagnetic Species of Barley Seed Radical’s Intensity: An EPR study 査読 国際誌

10 ( 3 )   2021年12月

Morphological control of nanostructured Ge films in high Ar-gas-pressure plasma sputtering process for Li ion batteries 査読 国際誌

J.Hayashi, K. Nagai, Y.Habu, Y. Ikebe, M. Hiramatsu, R. Narishige, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, G. Uchida

Jpn. J. Appl. Phys.   61 ( SA )   2021年12月

Performance Characteristics of Bifacial Dye-Sensitized Solar Cells with a V-Shaped Low-Concentrating Light System 査読 国際誌

T. E. Putri, F. L Chawarambwa, M. K. Son, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ACS Appl. Energy Mater.   4 ( 12 )   2021年11月

Effects of concentrated light on the performance and stability of a quasi-solid electrolyte in dye-sensitized solar cells 査読 国際誌

F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Chem. Phys. Lett.   781   2021年10月

Transport of Nanoparticles in Afterglow Region Using Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 査読 国際誌

K. Koga, S. H. Hwang, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   66 ( 7 )   2021年10月

Passivating antireflection coating of crystalline silicon using i/n a-Si:H/SiN trilayer 査読 国際誌

J Phys Chem Solids   156   2021年9月

Comparison between Ar+CH4 Cathode and Anode Coupled Capacitively Coupled Plasma Chemical Vapor Deposition of Hydrogenated Amorphous Carbon Films 査読 国際誌

S. H. Hwang, R. Iwamoto, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, T. Nakatani, M. Shiratani

Thin Solid Films   729   2021年7月

Sputtering Growth of Metal Oxynitride Semiconductors for Excitonic Devices 査読 国際誌

R. Narishige, N. Itagaki, M. Shiratani

5th IEEE Electron Devices Technology & Manufacturing Conference (EDTM)   2021年5月

Highly efficient and transparent counter electrode for application in bifacial solar cells 査読 国際誌

F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Chem. Phys. Lett.   768   2021年4月

Synthesis of Yb3+/Ho3+ co-doped Y2O3 nanoparticles and its application to dye sensitized solar cells 査読 国際誌

F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, K. Kamataki, M. Shiratani, K. Koga, N. Itagaki, D. Nakamura

J. Mol. Struct.   1228   2021年3月

Effects of Activated Carbon Counter Electrode On Bifacial Dye Sensitized Solar Cells (DSSCs) 査読 国際誌

T. E. Putri, Y. Hao, F. L. Chawarambwa, H. Seo, Min-Kyu Son, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Mater. Sci. Forum   1016   2021年1月

Time of Flight Size Control of Carbon Nanoparticles Using Ar+CH4 Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition Method 査読 国際誌

S. H. Hwang, K. Koga, Y. Hao, P. Attri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, J-S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

Processes   9 ( 1 )   2020年12月

Graphene-Si3N4 nanocomposite blended polymer counter electrode for low-cost dye-sensitized solar cells 査読 国際誌

F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, M. K. Son, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Chem. Phys. Lett.   758   2020年11月

Size and flux of carbon nanoparticles synthesized by Ar+CH4 multi-hollow plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Diam Relat Mater   109   2020年11月

Impact of surface morphologies of substrates on the epitaxial growth of magnetron sputtered (ZnO)x(InN)1-x films 査読 国際誌

R. Narishige, K. Kaneshima, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Jpn. J. Appl. Phys.   60 ( SA )   2020年10月

Low stress diamond-like carbon films containing carbon nanoparticles fabricated by combining rf sputtering and plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, T. Nakatani, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( 10 )   2020年10月

Growth of single crystalline films on lattice-mismatched substrates through 3D to 2D mode transition 査読 国際誌

N. Itagaki, Y. Nakamura, R. Narishige, K. Takeda, K. Kamataki, K. Koga, M. Hori, M. Shiratani

Sci. Rep.   10   2020年3月

Impact of radish sprouts seeds coat color on the electron paramagnetic resonance signals after plasma treatment 査読 国際誌

K. Koga, P. Attri, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, V. Mildaziene

Jpn. J. Appl. Phys.   59 ( SH )   2020年3月

Improved Nanoscale Al-doped ZnO with a ZnO Buffer Layer Fabricated by Nitrogen-mediated Crystallization for Flexible Optoelectronic Devices 査読 国際誌

I. Suhariadi, N. Itagaki, M. Shiratani

ACS Appl. Nano Mater.   3   2020年2月

Identification and Suppression of Si-H2 Bond Formation at P/I Interface in a-Si:H Films Deposited by SiH4 Plasma CVD 査読 国際誌

K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, L. Shi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

Spatial-Structure of Fluctuation of Amount of Nanoparticles in Amplitude-Modulated VHF Discharge Reactive Plasma 査読 国際誌

R. Zhou, K. Kamataki, H. Ohtomo, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

Effects of Gas Pressure on the Size Distribution and Structure of Carbon Nanoparticles Using Ar + CH4 Multi-Hollow Discharged Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

S. H. Hwang, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

Effect of Higher-Order Silane Deposition on Spatial Profile of Si-H2/Si-H Bond Density Ratio of a-Si:H Films 査読 国際誌

L. Shi, K. Tanaka, H. Hara, S. Nagaishi, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Plasma Fusion Res.   14   2019年9月

Sputter Epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films on Lattice-mismatched Sapphire Substrate 査読 国際誌

N. Miyahara, S. Urakawa, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS Adv.   4 ( 27 )   1551 - 1556   2019年1月

Effects of nitrogen impurity on zno crystal growth on Si substrates 査読 国際誌

S. Muraoka, L. Jiahao, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS Adv.   4 ( 27 )   1557 - 1563   2019年1月

Photoluminescence of (ZnO)0.82 (InN)0.18 films: Incident light angle dependence 査読 国際誌

N. Miyahara, K. Iwasaki, D. Yamashita, D. Nakamura, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Mater. Sci. Forum   941   2099 - 2103   2018年12月

Cross-correlation analysis of fluctuations of interactions between nanoparticles and low pressure reactive plasmas 査読 国際誌

R. Zhou, K. Mori, H. Ohtomo, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Mater. Sci. Forum   941   2104 - 2108   2018年12月

Effects of sputtering pressure on (ZnO)x(InN)1-x crystal film growth at 450ºC 査読 国際誌

941   2093 - 2098   2018年12月

The effect of the H2/(H2+Ar) flow-rate ratio on hydrogenated amorphous carbon films grown using Ar/H2/C7H8 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

T. Fang, K. Yamaki, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka,Y. Setsuhara

Thin Solid Films   660   891 - 898   2018年8月

Effects of gas velocity on deposition rate and amount of cluster incorporation into a-Si:H films fabricated by SiH4 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

T. Kojima, S. Toko, K. Tanaka, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Plasma Fusion Res.   13   1406082   2018年6月

Progress in photovoltaic performance of organic/inorganic hybrid solar cell based on optimal resistive Si and solvent modified poly(3,4-ethylenedioxythiophene) poly(styrenesulfonate) junction 査読 国際誌

H. Seo, D. Sakamoto, H. Chou, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Progress in Photovoltaics: Research and Applications   26 ( 2 )   2018年2月

色素増感太陽電池のポリマー対向電極における触媒反応の活性化 招待

徐鉉雄, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

信学技報 (IEICE Technical Report)   117 ( 334 )   2017年12月

Low temperature rapid formation of Au-induced crystalline Ge films using sputtering deposition 査読 国際誌

S. Tanami, D. Ichida, S. Hashimoto, H. Seo, D. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Thin Solid Films   641   2017年11月

Hysteresis in volume fraction of clusters incorporated into a-Si:H films deposited by SiH4 plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

S. Toko, K. Keya, Y. Torigoe, T. Kojima, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Surf. Coat. Technol.   326 ( Part B )   2017年10月

Performance enhancement of quantum dot-sensitized solar cells based on polymer nano-composite catalyst 査読 国際誌

H. Seo, C. V.V.M. Gopi, H.-J. Kim, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Electrochimica Acta   249   2017年9月

Synthesis of Nanoparticles using Low Temperature Plasmas and Its Application to Solar Cells and Tracers in Living Body 査読 国際誌

K. Koga, H. Seo, A. Tanaka, N. Itagaki, M. Shiratani

ECS Transactions   77 ( 3 )   2017年5月

低温プラズマによるナノ粒子の合成と太陽電池への応用

古閑一憲, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 白谷正治

信学技報 (IEICE Technical Report)   117 ( 8 )   2017年4月

Densities and surface reaction probabilities of oxygen and nitrogen atoms during sputter deposition of ZnInON on ZnO 査読 国際誌

K. Matsushima, T. Ide, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

IEEE Trans. Plasma Science   45 ( 2 )   2017年2月

Effects of sputtering gas pressure dependence of surface morphology of ZnO films fabricated via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

K. Iwasaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS Adv.   2 ( 5 )   2016年12月

Blue Photoluminescence of (ZnO)0.92(InN)0.08 査読 国際誌

K. Matsushima, K. Iwasaki, N. Miyahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS Adv.   2 ( 5 )   2016年12月

Fluctuation of Position and Energy of a Fine Particle in Plasma Nanofabrication 査読 国際誌

M. Shiratani, M. Soejima, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

Materials Science Forum   879   2016年11月

Optical Bandgap Energy of Si Nanoparticle Composite Films Deposited by a Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition Method 査読 国際誌

S. Toko, Y. Kanemitsu, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

J. Nanosci. Nanotechnol.   16 ( 10 )   2016年10月

Surface Modification of Polymer Counter Electrode for Low Cost Dye-sensitized Solar Cells 査読 国際誌

H. Seo, M. K. Son, S. Hashimoto, T. Takasaki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Electrochimica Acta   210   2016年8月

Effect of Sulfur Doped TiO2 on Photovoltaic Properties of Dye-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

H. Seo, S. H. Nam, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, and J.-H. Boo

Electron. Mater. Lett.   12 ( 4 )   2016年7月

Correlation between SiH2/SiH and light-induced degradation of p–i–n hydrogenated amorphous silicon solar cells 査読 国際誌

55 ( 7S2 )   2016年7月

Optoelectronic properties of valence-statecontrolled amorphous niobium oxide 査読 国際誌

J. Phys.: Condens. Matter   28 ( 25 )   2016年5月

Improvement of Charge Transportation in Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells Using Vanadium Doped TiO2 査読 国際誌

H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, S. H. Nam and J. H. Boo

J. Nanosci. Nanotechnol.   16 ( 5 )   2016年5月

Quantum Characterization of Si Nano-Particles Fabricated by Multi-Hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

Sci. Adv. Mater.   8 ( 3 )   2016年3月

Polymer Counter Electrode of Poly(3,4-ethylenedioxythiophene):poly(4-styrenesulfonate) Containing TiO2 Nano-particles for Dye-sensitized Solar Cells 査読 国際誌

H. Seo, M.-K. Son, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Journal of Power Sources   307   2016年3月

Room Temperature Fabrication of (ZnO)x(InN)1-x films with Step-Terrace Structure by RF Magnetron Sputtering 査読 国際誌

K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS Advances   1 ( 2 )   2016年1月

Effects of deposition rate and ion bombardment on properties of a-C:H films deposited by H-assisted plasma CVD method 査読 国際誌

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Jpn. J. Appl. Phys.   55 ( 1S )   2016年1月

Effects of Gas Flow Rate on Deposition Rate and Amount of Si Clusters Incorporated into a-Si:H Films 査読 国際誌

S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   55 ( 1S )   2016年1月

Simple method of improving harvest by nonthermal air plasma irradiation of seeds of Arabidopsis thaliana (L.) 査読 国際誌

K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, N. Hayashi, M. Shiratani

Appl. Phys. Express   9 ( 1 )   2015年12月

水素プラズマとカーボン壁の相互作用で発生したダストに対するダスト除去フィルタのダスト除去性能評価

白谷正治, 古閑一憲, 立石瑞樹, 片山龍, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 徐鉉雄, 板垣奈穂, 芦川直子, 時谷政行, 増崎貴, 西村清彦, 相良明男, LHD実験グループ

九州大学超顕微解析研究センター報告   39   2015年12月

Synthesis of indium-containing nanoparticles using plasmas in water to study their effects on living body 査読 国際誌

T. Amano, K. Koga, T. Sarinont, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, S. Kitazaki, M. Hirata, Y. Nakatsu, A. Tanaka

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Attraction during binary collision of fine particles in Ar plasma 査読 国際誌

M. Soejima, T. Ito, D. Yamashita, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Cluster Incorporation into A-Si:H Films Deposited Using H 2 +SiH 4 Discharge Plasmas 査読 国際誌

S. Toko, Y. Torigoe, K. Keya, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Cross correlation analysis of plasma perturbation in amplitude modulated reactive dusty plasmas 査読 国際誌

T. Ito, M. Soejima, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Kobayashi, S. Inagaki

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Deposition rate and etching rate due to neutral radicals and dust particles measured using QCMs together with a dust eliminating filter 査読 国際誌

R. Katayama, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, M. Tokitani, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD Experimental Group

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Effects of Ambient Humidity on Plant Growth Enhancement by Atmospheric Air Plasma Irradiation to Plant Seeds 査読 国際誌

T. Sarinont, T. Amano, K. Koga, S. Kitazaki, N. Hayashi, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Effects of electrode structure on characteristics of multi-hollow discharges 査読 国際誌

Y. Torigoe, K. Keya, S. Toko, H. Seo, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Effects of N2 dilution on fabrication of Ge nanoparticles by rf sputtering 査読 国際誌

S. Hashimoto, S. Tanami, H. Seo, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Laser trapped single fine particle as a probe of plasma parameters 査読 国際誌

D. Yamashita, M. Soejima, T. Ito, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Measurement of absolute density of N atom in sputtering plasma for epitaxial growth ZnO films via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

T. Ide, K. Matsushima, T. Takasaki, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Measurements of absolute densities of nitrogen and oxygen atoms in sputtering plasma for fabrication of ZnInON films 査読 国際誌

K. Matsushima, T. Ide, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Measurements of nitrogen atom density in N2/Ar sputtering plasma for fabrication of high-mobility amorphous In2O3:Sn films 査読 国際誌

T. Takasaki, T. Ide, K. Matsushima, K. Takeda, M. Hori, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M, Shiratani, N. Itagaki

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Raman Spectroscopy of a-C:H Films Deposited Using Ar + H2+ C7H8 Plasma CVD 査読 国際誌

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Raman spectroscopy of PIN hydrogenated amorphous silicon solar cells 査読 国際誌

K. Keya, Y. Torigoe, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Simple Evaluation Method of Atmospheric Plasma Irradiation Dose using pH of Water 査読 国際誌

K. Koga, T. Sarinont, T. Amano, H. Seo, N. Itagaki, Y. Nakatsu, A. Tanaka, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Structural alternation of tandem dye-sensitized solar cells based on mesh-type of counter electrode 査読 国際誌

H. Seo, S. Hashimoto, D. Ichida, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

Electrochimica Acta   179   2015年10月

Substrate temperature dependence of Au-induced crystalline Ge film formation using sputtering deposition 査読 国際誌

S. Tanami, D. Ichida, D. Hashimoto, G. Uchida, H. Seo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 68th GEC/9th ICRP/33rd SPP   60 ( 9 )   2015年10月

Real-time mass measurement of dust particles deposited on vessel wall in a divertor simulator using quartz crystal microbalances 査読 国際誌

M. Tateishi, K. Koga, R. Katayama, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experiment Group

J. Nucl. Mater.   463   2015年8月

Fabrication of ZnInON/ZnO multi-quantum well solar cells 査読 国際誌

K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Thin Solid Films   587   2015年7月

Effects of cluster incorporation into hydrogenated amorphous silicon films in initial discharge phase on film stability 査読 国際誌

S. Toko, Y. Torigoe, W. Chen, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Thin Solid Films   587   2015年7月

Effects of discharge voltage on the characteristics of a-C:H films prepared by H-assisted Plasma CVD method 査読 国際誌

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

40 ( 2 )   2015年7月

Fabrication of p-i-n solar cells utilizing ZnInON by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1741   2015年3月

ZnO-based semiconductors with tunable band gap for solar sell applications 招待 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Proc. SPIE photonics west 2015   9364   2015年3月

Effects of morphology of buffer layers on ZnO/sapphire heteroepitaxial growth by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

T. Ide, K. Matsushima, R. Shimizu, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1741   2015年2月

Photovoltaic application of Si nanoparticles fabricated by multihollow plasma discharge CVD: Dye and Si co-sensitized solar cells 査読 国際誌

H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   54 ( 1S )   2015年1月

Synthesis and characterization of ZnInON semiconductor: a ZnO-based compound with tunable band gap 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashia, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Mater. Res. Express   1 ( 3 )   2014年9月

Growth mechanism of ZnO deposited by nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

I. Suhariadi, M. Shiratani, N. Itagaki

Mater. Res. Express   1 ( 3 )   2014年9月

Performance enhancement of dye and Si quantum dot hybrid nanostructured solar cell with TiO2 barrier 査読 国際誌

H. Seo, D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

39 ( 3 )   2014年9月

Off-axis sputter deposition of ZnO films on c-sapphire substrates by utilizing nitrogen-mediated crystallization method 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Opt. Engineering   53 ( 8 )   2014年8月

SiC Nanoparticle Composite Anode for Li-Ion Batteries 査読 国際誌

M. Shiratani, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, H. Seo, N. Itagaki, T. Ishihara

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1678   2014年7月

Plasma etching of single fine particle trapped in Ar plasma by optical tweezers 査読 国際誌

T. Ito, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida and M. Shiratani

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

Contribution of H2 plasma etching to radial profile of amount of dust particles in a divertor simulator 査読 国際誌

M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura and A. Sagara, the LHD Experimental Group

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

Contribution of ionic precursors to deposition rate of a-Si:H films fabricated by plasma CVD 査読 国際誌

S. Toko, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, Y. Torigoe, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

Deposition of crystalline Ge nanoparticle films by high-pressure RF magnetron sputtering method 査読 国際誌

D. Ichida, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

Effects of filter gap of cluster-eliminating filter on cluster eliminating efficiency 査読 国際誌

Y. Hashimoto, S. Toko, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga and M. Shiratani

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

Emission spectroscopy of Ar + H-2+ C7H8 plasmas: C7H8 flow rate dependence and pressure dependence 査読 国際誌

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine and M. Hori

J. Phys. : Conf. Series (SPSM26)   518 ( 1 )   2014年6月

Infrared Plasmonics via ZnO 査読 国際誌

J. W. Allen, M. S. Allen, D. C. Look, B. R. Wenner, N. Itagaki, K. Matsushima, I. Surhariadi

J. Nano Res.   28   2014年6月

スパッタリング成膜法による高品質酸化亜鉛薄膜の形成 査読

板垣奈穂、古閑一憲、白谷正治

応用物理   83 ( 5 )   2014年5月

Nanostructure Control of Si and Ge Quantum Dots Based Solar Cells Using Plasma Processes 査読 国際誌

M. Shiratani, G. Uchida, H. Seo, D. Ichida, K. Koga, N. Itagaki, and K. Kamataki

Materials Science Forum   783-786   2014年5月

Performance dependence of Si quantum dot-sensitized solar cells on counter electrode 査読 国際誌

H. Seo, D. Ichida, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   53 ( 5S1 )   2014年5月

Study on the Crystal Growth Mechanism of ZnO Films Fabricated Via Nitrogen Mediated Crystallization 査読 国際誌

I. Suhariadi, K. Oshikawa, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, and N. Itagaki

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Combinatorial Plasma CVD of Si Nanoparticle Composite Films for Band Gap Control 査読 国際誌

G. Uchida, Y. Kanemitsu, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Correlation between nanoparticle growth and plasma parameters in low pressure reactive VHF discharge plasmas 査読 国際誌

M. Shiratani, Y. Morita, K. Kamataki, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Deposition of Carbon Films on PMMA Using H-assisted Plasma CVD 査読 国際誌

X. Dong, R. Torigoe, K. Koga, G. Uchida, M. Shiratani, N. Itagaki, Y. Setsuhara, K. Takenaka, M. Sekine, .M. Hori

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Effects of Grid DC Bias on Incorporation of Si Clusters into Amorphous Silicon Thin Films in Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 査読 国際誌

S. Toko, Y. Kim, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Effects of H2 Gas Addition on Structure of Ge Nanoparticle Films Deposited by High-pressure RF Magnetron Sputtering Method 査読 国際誌

G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Electrochemical impedance analysis on the additional layers for the enhancement on the performance of dye-sensitized solar cell 査読 国際誌

H. Seo, M. Son, S. Park, M. Jeong, H. Kim, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Thin Solid Films   554   2014年3月

Off-axis sputter deposition of ZnO films on c-sapphire substrates with buffer layers prepared via nitrogen-mediated crystallization 招待 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Proc. SPIE photonics west 2014   8987   2014年3月

Spatial Profile of Flux of Dust Particles Generated due to Interaction between Hydrogen Plasmas and Graphite Target 査読 国際誌

M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experimental Group

Jpn. Phys. Soc. Conf. Proc (APPC12)   1   2014年3月

Substrate temperature dependence of hydrogen content of a-Si:H film deposited with a cluster-eliminating filter 査読 国際誌

Y. Hashimoto, S. Toko, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Subacute toxicity of gallium arsenide, indium arsenide and arsenic trioxide following intermittent intrantracheal instillations to the lung of rats 査読 国際誌

A. Tanaka, M. Hirata, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Hayashi, G. Uchida

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Study on nitrogen desorption behavior of sputtered ZnO for transparent conducting oxide 査読 国際誌

I. Suhariadi, K. Oshikawa, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

A model for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas 査読 国際誌

M. Shiratani, K. Koga, K. Kamataki, S. Iwashita, Y. Morita, H. Seo, N. Itagaki, G. Uchida

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Analysis of fluctuation of Ar metastable density and nanoparticle amount in capacitively coupled discharges with amplitude modulation 査読 国際誌

Y. Morita, T. Ito, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Analysis on the photovoltaic property of Si quantum dot-sensitized solar cells 査読 国際誌

H. Seo, D. Ichida, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Int. J. Precision Eng. Manuf.   15 ( 2 )   2014年2月

Combinatorial evaluation of optical properties of crystalline Si nanoparticle embedded Si films deposited by a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

Y. Kanemitsu, G. Uchida, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Coupling between radicals and nanoparticles in initial growth phase in reactive plasmas with amplitude modulation (Invited) 招待 査読 国際誌

K. Koga, Y. Morita, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Itagaki, G. Uchida, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Deposition of Crystalline Ge Nanoparticle Films Varying H2 Dilution Ratio Using High Pressure rf Magnetron Sputtering 査読 国際誌

S. Hashimoto, D. Ichida, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Effects of amplitude modulation on deposition of hydrogenated amorphous silicon films using multi-Hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

Y. Torigoe, Y. Hashimoto, S. Toko, Y. Kim, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Epitaxial growth of ZnO films on sapphire substrates by magnetron sputtering: Effects of buffer layers prepared via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

T. Ide, K. Matsushima, R. Shimizu, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Fabrication of In-rich ZnInON filmswith narrow band gap by RF magnetron sputtering 査読 国際誌

K. Matsushima, R. Shimizu, T. Ide, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Fabrication of SiC nanoparticles as high capacity electrodes for Li-ion batteries 査読 国際誌

G. Uchida, K. Kamataki, D. Ichida, Y. Morita, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, T. Ishihara, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Fabrication of size-controlled Ge nanoparticle films varying gas flow rate using high pressure rf magnetron sputtering method 査読 国際誌

D. Ichida, S. Hashimoto, G. Uchida, H. Seo, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Fine response of deposition rate of Si films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD with amplitude modulation 査読 国際誌

S. Toko, Y. Hashimoto, Y. Kanemitu, Y. Torigoe, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Magnetron sputtering of low-resistive In2O3:Sn films with buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization 査読 国際誌

K. Oshikawa, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Nanoparticle amount in reactive plasmas with amplitude modulation detected by twodimensional laser light scattering method 査読 国際誌

T. Ito, Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Pressure dependence of carbon film deposition using H-assisted plasma CVD 査読 国際誌

X. Dong, K. Koga, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Takenaka, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Quantum characterization and photovoltaic application of Si nano-particles fabricated by multi-hollow plasma discharge chemical vapor deposition 査読 国際誌

H. Seo, D. Ichida, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Raman spectroscopy of a fine particle optically trapped in plasma 査読 国際誌

D. Yamashita, K. Koga, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Spatial profile of flux of dust particles in hydrogen helicon plasmas 査読 国際誌

M. Tateishi, K. Koga, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Masuzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Sputter Deposition of Ga-doped Zinc Oxide (GZO) Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization 査読 国際誌

T. Nakanishi, K. Oshikawa, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Sputtering fabrication of a novel widegap semiconductor ZnGaON for optoelectronic devices with wide bandgap for optical device 査読 国際誌

R. Shimizu, K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Proc. 8th Int. Conf. Reactive Plasmas   2014年2月

Theory for correlation between plasma fluctuation and fluctuation of nanoparticle growth in reactive plasmas 査読 国際誌

M. Shiratani, K. Koga, K. Kamataki, S. Iwashita, G. Uchida, H. Seo, and N. Itagaki

Jpn. J. Appl. Phys.   53 ( 1 )   2014年1月

The improvement on the performance of quantum dot-sensitized solar cells with functionalized Si 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, M. Sato, G. Uchida, K. Koga, N. Itagaki, K. Kamataki, M. Shiratani

Thin Solid Films   546   2013年11月

Characteristics of Crystalline Silicon/Si Quantum Dot/Poly(3,4-ethylenedioxythiophene) Hybrid Solar Cells 査読 国際誌

G. Uchida, Y. Wang, D. Ichida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

Correlation between Volume Fraction of Silicon Clusters in Amorphous Silicon Films and Optical Emission Properties of Si and SiH 査読 国際誌

Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, and M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

Effects of Nitrogen on Crystal Growth of Sputter-Deposited ZnO Films for Transparent Conducting Oxide 査読 国際誌

I. Suhariadi, K. Oshikawa, K. Kuwahara, K. Matsushima, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

Epitaxial Growth of ZnInON Films with Tunable Band Gap from 1.7 eV to 3.3 eV on ZnO Templates 査読 国際誌

K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

Flux Control of Carbon Nanoparticles Generated due to Interactions between Hydrogen Plasmas and Graphite Using DC-Biased Substrates 査読 国際誌

K. Koga, M. Tateishi, K. Nishiyama, G. Uchida, K. Kamataki, D. Yamashita, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, Akiko Sagara, the LHD Experimental Group

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

Improvement on the Electron Transfer of Dye-Sensitized Solar Cell Using Vanadium Doped TiO2 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, D. Ichida, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, S. Nam, J. Boo

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 11S )   2013年11月

Study on the Fabrication of Paint-Type Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

H. Seo, M. Son, H. Kim, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 10S )   2013年10月

ナノ材料のプラズマプロセシングの研究の現状と将来

白谷正治, 古閑一憲, 内田儀一郎, Hyunwoong Seo, 板垣奈穂, 岩下伸也

表面科学   34 ( 10 )   2013年10月

Characteristics of photocurrent generation in the near-ultraviolet region in Si quantum-dot sensitized solar cells 査読 国際誌

G. Uchida, M. Sato, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Thin Solid Films   544   2013年10月

Effects of nanoparticle incorporation on properties of microcrystalline films deposited using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

Y. Kim, T. Matsunaga, K. Nakahara, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Surf. Coat. Technol.   228 ( 1 )   2013年8月

Effects of DC Substrate Bias Voltage on Dust Flux in the Large Helical Device 査読 国際誌

K. Koga, K. Nishiyama, Y. Morita, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, and the LHD Experimental Group

J. Nucl. Mater.   438   2013年7月

Observation of nanoparticle growth process using a high speed camera 国際誌

Y. Morita, S. Iwashita, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, and M. Shiratani

ISPC 21 Proceedings   2013年7月

Discharge power dependence of carbon dust flux in a divertor simulator 査読 国際誌

K. Nishiyama, Y. Morita, G. Uchida, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group, S. Bornholdt, and H. Kersten

J. Nucl. Mater.   438   2013年7月

Growth control of ZnO nano-rod with various seeds and photovoltaic application 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

J. Phys. : Conference Series (11th APCPST)   441 ( 1 )   2013年6月

Characterization of the energy flux toward the substrate during magnetron sputter deposition of ZnO thin films 査読 国際誌

S. Bornholdt, N. Itagaki, K. Kuwahara, H. Wulff, M. Shiratani and H. Kersten

Plasma Sources Sci. Technol.   22 ( 2 )   2013年4月

Analysis on the effect of polysulfide electrolyte composition for higher performance of Si quantum dot-sensitized solar cells 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Electrochimica Acta   95 ( 1 )   2013年4月

Model for Thickness dependence of mobility and concentration in highly conductive ZnO 招待 査読 国際誌

D. C. Look, K. D. Leedy, A. Kiefer, B. Claflin, N. Itagaki, K. Matsushima, I. Surhariadi

Opt. Engineering   52 ( 3 )   2013年3月

Control of Deposition Profile and Properties of Plasma CVD Carbon Films 査読 国際誌

K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

Control of nanoparticle formation in reactive plasmas and its application to fabrication of green energy devices 招待 査読 国際誌

M. Shiratani, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga

Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

Crystallinity control of sputtered ZnO films by utilizing buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization: Effects of nitrogen flow rate 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Oshikawa, K. Matsushima, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 13th International Conference on Plasma Surface Engineering   2 ( 26 )   2013年3月

The reduction of charge recombination and performance enhancement by the surface modification of Si quantum dot-sensitized solar cell 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Electrochimica Acta   87 ( 1 )   2013年1月

Dust particle formation due to interaction between graphite and helicon deuterium plasmas 査読 国際誌

S. Iwashita, K. Nishiyama, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Fusion Engineering and Design   88 ( 1 )   2013年1月

Effects of Hydrogen Dilution on ZnO Thin Films Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization 査読 国際誌

I. Suhariadi, K. Matsushima, K. Kuwahara, K. Oshikawa, D. Yamashita, H. Seo, G. Uchida, K. Kamtaki, K. Koga, M. Shiratani, S. Bornholdt, H. Kersten, Harm Wulff, N. Itagaki

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1S )   2013年1月

High Amount Cluster Incorporation in Initial Si Film Deposition by SiH4 Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1S )   2013年1月

Improvement of Si Adhesion and Reduction of Electron Recombination for Si Quantum Dot-Sensitized Solar Cells 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, M. Sato, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   52 ( 1S )   2013年1月

Sputter deposition of Epitaxial Zinc-Indium Oxynitride Films for Excitonic Transistors (Invited) 招待 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Proc. International Symposium on Dry Process   34   2012年11月

Control of radial density profile of nano-particle produced in reactive plasma by amplitude modulation of rf discharge voltage 査読 国際誌

K. Kamataki, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

Thin Solid Films   523   2012年11月

Effects of crystalline nanoparticle incorporation on growth, structure, and properties of microcrystalline silicon films deposited by plasma CVD 査読 国際誌

Y. Kim, T. Matsunaga, K. Nakahara ,G. Uchida, K. Kamataki , N. Itagaki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Thin Solid Films   523   2012年11月

ZnO:Al Thin Films with Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization: Effects of N2/Ar Gas Flow Rate Ratio 査読 国際誌

I. Suhariadi, N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Oshikawa, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, K. Nakahara, M. Shiratani

37 ( 2 )   2012年6月

High quality epitaxial ZnO films grown on solid-phase crystallized buffer layers 査読 国際誌

K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

Thin Solid Films   520 ( 14 )   2012年5月

The Optical Analysis and Application of Size-controllable Si Quantum Dots Fabricated by Multi-hollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

H. Seo, Y. Wang, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

Characteristics of stable a-Si:H Schottoky cells fabricated by suppressing cluster deposition 査読 国際誌

M. Shiratani, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, Y. Kim, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

In situ analysis of size dispersion of nano-particles in reactive plasma using two dimentional laser light scattering method 査読 国際誌

K. Kamataki, Y. Morita, M. Shiratani, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki

Journal of Instrumentation   7 ( 4 )   2012年4月

In-situ Measurements of Cluster Volume Fraction in Silicon Thin Films Using Quartz Crystal Microbalances 査読 国際誌

Y. Kim, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1426   2012年4月

Novel fabrication method for ZnO films via nitrogen-mediated crystallization (Invited) 招待 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Matsushima, K. Oshikawa

Proc. of SPIE photonics west 2012   8263   2012年1月

Combinatorial Deposition of Microcrystalline Silicon Films Using Multihollow Discharge Plasma Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

K. Koga, T. Matsunaga, Y. Kim, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, and M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

Deposition of cluster-free B-doped a-Si:H films using SiH4+B10H14 multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

K. Koga, K. Nakahara, Y. Kim, T. Matsunaga, D.Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

Effect of nitridation of Si nano-particles on the performance of quantum-dot sensitized solar cells 査読 国際誌

G. Uchida, K. Yamamoto, M. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   51 ( 1 )   2012年1月

Zno films with buffer layers crystallized via nitrogen mediation: Effects of deposition temperature of buffer layers 査読 国際誌

K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. PVSEC-21   2011年11月

Collection of carbon dust particles formed due to plasma-wall interactions between high density H2 plasma and carbon wall onto substrates by applying local DC bias voltage 国際誌

K. Nishiyama, Y. Morita, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, the LHD Experimental Group, S. Bornholdt, H. Kersten

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Deposition of cluster-free a-Si:H films using cluster eliminating filter 国際誌

K. Nakahara, K. Hatozaki, Y. Hashimoto, T. Matsunaga, M. Sato, D. Yamashita, H. Matsuzaki, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Deposition of highly stable cluster-free a-Si:H films using fast gas flow multi-hollow discharge plasma CVD method 国際誌

K. Hatozaki, K. Nakahara, T. Matsunaga, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Effects of electrolyte on performance of quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles synthesized by multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

Y. Wang, M. Sato, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Effects of N2 gas addition to sputtering plasma on properties of epitaxial ZnO films 国際誌

K. Kuwahara, N. Itagaki, K. Nakahara, D. Yamashita, Seo H., G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Effects of nanoparticle incorporation on Si thin films deposited by plasma CVD 国際誌

M. Shiratani, Y. Kim, T. Matsunaga, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Influence of nano-particles on multi-hollow discharge plasma for microcrystalline silicon thin films deposition 国際誌

T. Matsunaga, Y. Kim, K. Koga, H. Seo, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Low resistive ZnO:Al films with ZnO buffer layers fabricated by Ar/N2 magnetron sputtering 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, K. Kamataki, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Performance enhancement of Si quantum dot-sensitized solar cells by surface modification using ZnO barrier layer 国際誌

Y. Wang, M. Sato, H. Seo, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Intern. Symp. on Dry Process   33   2011年11月

Radical Flux Evaluation to Microcrystalline Silicon Films Deposited by Multi-Hollow Discharge Plasma CVD 国際誌

Y. Kim, T. Matsunaga, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Self-organized carbon Mk formation on the top surface of fine trenches using a low temperature plasma anisotropic CVD for depositing fine organic structure 国際誌

K. Koga, T. Urakawa, G. Uchida, H. Seo, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Setsuhara, M. Sekine, M. Hori

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Study of interaction between plasma fluctuation and nucleation of nanoparticle in plasma CVD 国際誌

K. Kamataki, K. Koga, G. Uchida, H. Seo, N. Itagaki, M. Shiratani

Proc. Plasma Conf. 2011   2011年11月

Combinatorial study on effects of substatrate temperature of silicon film deposition using multi-hollow discharge plasma cvd 査読 国際誌

Y. Kim, T. Matsunaga, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Proc. PVSEC-21   2011年11月

Defect density of cluster-free a-si:h films deposited by multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

K. Nakahara, K. Hatozaki, M. Sato, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. PVSEC-21   2011年11月

Effects of nano-particles on (220) crystal orientation of microcrystallite silicon thin films 査読 国際誌

T. Matsunaga, Y. Kim, K. Koga, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Proc. PVSEC-21   2011年11月

Properties and performance of si quantum dot-sensitized solar cells with low temperature titania paste 査読 国際誌

Y. Wang, M. Sato, T. Matsunaga, N. Itagaki, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Proc. PVSEC-21   2011年11月

Zinc oxide-based transparent conducting films with buffer layers fabricated via nitrogen-mediated crystallization 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. PVSEC-21   2011年11月

Surface nitridation of silicon nano-particles using double multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Nakahara, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Kondo, M. Shiratani

Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

Deposition of cluster-free P-doped a-Si:H films using SiH4+PH3 multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

K. Koga, K. Nakahara, Y. Kim, Y. Kawashima, T. Matsunaga, M. Sato, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, and M. Shiratani

Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

Hybrid sensitized solar cells using Si nanoparticles and ruthenium dye 査読 国際誌

G. Uchida, Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, K. Nakahara, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Kondo, M. Shiratani

Physica Status Solidi (c)   8 ( 10 )   2011年10月

Impacts of Amplitude Modulation of RF Discharge Voltage on the Growth of Nanoparticles in Reactive Plasma 査読 国際誌

K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, M. Shiratani

Appl. Phys. Express   4 ( 10 )   2011年10月

Impacts of Plasma Fluctuations on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma 国際誌

K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

2011年9月

Comparison between silicon thin films with and without incorporating crystalline silicon nanoparticles into the film 査読 国際誌

K. Koga, Y. Kawashima, T. Matsunaga, M. Sato, K. Nakahara, W. M. Nakamura, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Thin Solid Films   519 ( 20 )   2011年8月

Combinatorial study of substrate temperature dependence on properties of silicon films deposited using multihollow discharge plasma CVD 国際誌

Y. Kim, T. Matsunaga, Y. Kawashima, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

2011年7月

Nano-factories in plasma: present status and outlook 査読 国際誌

M. Shiratani, K. Koga, S. Iwashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki

J. Phys. D: Appl. Phys.   44 ( 17 )   2011年5月

Novel Fabrication Method for Transparent Conducting Oxide Films Utilizing Solid-Phase Crystallized Seed Layers 招待 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara

Proc. Int. Conf. Advances in Condensed and Nano Materials 2011   1393   2011年2月

Generation and Surface Modification of Si nano-particles using SiH4/H2 and N2 multi-hollow discharges and their application to the third generation photovoltaics 招待 査読 国際誌

K. Koga, G. Uchida, K. Yamamoto, Y. Kawashima, M. Sato, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

International Conference on Advances in Condensed and Nano Materials (ICACNM)   1393   2011年2月

Novel fabrication method of ZnO films utilizing solid-phase crystallized seed layers 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   1315   2011年1月

Highly Conducting and Very Thin ZnO:Al Films with ZnO Buffer Layer Fabricated by Solid Phase Crystallization from Amorphous Phase 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Appl. Phys. Express   4 ( 1 )   2011年1月

Novel fabrication method for oxide semiconductors via atomic-additive mediated crystallization 招待 査読 国際誌

N. Itagaki

Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

Optical and Electrical Properties of Particle Composite Thin Films deposited in SiH4/H2 and N2 Multi-Hollow Discharges 国際誌

G. Uchida, M. Sato, Y. Kawashima, K. Yamamoto, K. Nakahara, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

Proc. of MNC2010   2010年11月

Substrate Temperature Dependence of Sticking Probability of SiOx-CH3 Nano-Particles 国際誌

H. Miyata, K. Nishiyama, S. Iwashita, H. Matsuzaki, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. of International Symposium on Dry Process   2010年11月

Cluster-Free B-Doped a-Si:H Films Deposited Using SiH4 + B10H14 Multi-Hollow Discharges 査読 国際誌

K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

Deposition profiles of microcrystalline silicon films using multi-hollow discharge plasma CVD 査読 国際誌

T. Matsunaga, Y. Kawashima, K. Koga, K. Nakahara, W. M. Nakamura, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

Effects of Amplitude Modulation of rf Discharge Voltage on Growth of Nano-Particles in Reactive Plasma 査読 国際誌

K. Kamataki, H. Miyata, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, D. Yamashita, H. Matsuzaki, M. Shiratani

Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

Effects of Ar addition on breakdown voltage in a Si(CH3)2(OCH3)2 RF discharge 査読 国際誌

G. Uchida, S. Nunomutra, H. Miyata, S. Iwashita, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

Fluctuation Control for Plasma Nanotechnologies 査読 国際誌

M. Shiratani, K. Koga, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki

Proc. IEEE TENCON 2010   2010年11月

Generation of nitridated silicon particles and their thin film deposition using double multi-hollow discharges 国際誌

G. Uchida, M. Sato, Y. Kawashima, K. Nakahara, K. Yamamoto, T. Matsunaga, D. Yamashita, H. Matsuzaki, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

Carbon dust particles generated due to H2 plasma-carbon wall interaction 国際誌

H. Miyata, K. Nishiyama, S. Iwashita, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Ashikawa, S. Muzaki, K. Nishimura, A. Sagara, LHD experimental group

Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

Combinatorial deposition of microcrystalline Si films using multi-hollow discharge plasma CVD 国際誌

T. Matsunaga, Y. Kawashima, K. Koga, W. M. Nakamura, K. Nakahara, H. Matsuzaki, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

Deposition rate enhancement of cluster-free P-doped a-Si:H films using multi-hollow discharge plasma CVD method 国際誌

K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. of 63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasma   55 ( 7 )   2010年10月

Si quantum dot-sensitized solar cells using Si nanoparticles produced by plasma CVD 査読 国際誌

Y. Kawashima, K. Yamamoto, M. Sato, K. Nakahara, T. Matsunaga, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, M. Kondo

Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

Deposition of cluster-free P-doped a-Si:H films using a multi-hollow discharge plasma CVD method 査読 国際誌

K. Nakahara, Y. Kawashima, M. Sato, T. Matsunaga, K. Yamamoto, W. M. Nakamura, D. Yamashita, H. Matsuzaki, G. Uchida, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Proc. 35th IEEE Photovoltaic Specialists Conf.   2010年7月

Materials, Devices, and Circuits of Transparent Amorphous-Oxide Semiconductor 査読 国際誌

H. Kumomi, S. Yaginuma, H. Omura, A.Goyal, A. Sato, M. Watanabe, M. Shimada, N. Kaji, K. Takahashi, M. Ofuji, T. Watanabe, N. Itagaki, H. Shimizu, K. Abe, Y. Tateishi, H. Yabuta, T. Iwasaki, R. Hayashi, T. Aiba, M. Sano

J. Display Technol.   5 ( 12 )   2009年12月

Favorable Elements for an Indium-based Amorphous-oxide TFT Channel: Study of In-X-O (X=B, Mg, Al, Si, Ti, Zn, Ga, Ge, Mo, Sn) Systems 査読 国際誌

A. Goyal, T. Iwasaki, N. Itagaki, T. Den, and H. Kumomi

Mat. Res. Soc. Symp. Proc   1109   2009年5月

Zn-In-O based thin-film transistors: Compositional dependence 査読 国際誌

N. Itagaki, T. Iwasaki, H. Kumomi, T. Den, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono

Phys. Stat. Sol. (a)   205 ( 8 )   2008年8月

Combinatorial approach to thin-film transistors using multicomponent semiconductor channels: An application to amorphous oxide semiconductors in In-Ga-Zn-O system 査読 国際誌

T. Iwasaki, N. Itagaki, T. Den, H. Kumomi, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono,

Appl. Phys. Lett.   90 ( 24 )   2007年6月

Guiding Principles for Obtaining High-Quality Microcrystalline Silicon Growth Rates Using SiH4/H2 Glow-Discharge Plasma 査読 国際誌

C. Niikura, N. Itagaki, Matsuda

Jpn. J. Appl. Phys.   46 ( 5A )   2007年5月

High rate growth of high-quality microcrystalline silicon films from plasma by interconnected multi-hollow cathode 査読 国際誌

C. Niikura, N. Itagaki, and Matsuda

Surf. Coat. Technol.   201 ( 9-11 )   2007年2月

Guiding Principles for Preparing High Quality Microcrystalline Silicon at High Growth Rates 査読 国際誌

C. Niikura, N. Itagaki, and A. Matsuda

Trans. Mater. Res. Soc. Jpn.   31 ( 2 )   2006年6月

Combinatorial study on In-Ga-Zn-O semiconductor films as active-channel layers for thin-film transistor 査読 国際誌

T. Iwasaki, N. Itagaki, T. Den, H. Kumomi, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono

Mat. Res. Soc. Symp. Proc.   928   2006年6月

Electron temperature measurement in SiH4/H2 ECR plasma produced by 915 MHz microwaves 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Sasaki, Y. Kawai

Thin Solid Films   506   2006年5月

Characteristics of the plasma parameters in the fabrication of microcrystalline silicon thin films using 915 MHz ECR plasma 査読 国際誌

D. Ha Thang, K. Sasaki, H. Muta, N. Itagaki, and Y. Kawai

Thin Solid Films   506   2006年5月

Production of low electron temperature ECR plasma 査読 国際誌

Y. Kawai, N. Itagaki, M. Koga, and H. Muta

Surf. Coat. Technol.   193 ( 1-3 )   2005年4月

Production of high density VHF plasma using a cathode with interconnected multi holes 査読 国際誌

N. Itagaki, C. Niikura, A. Matsuda and M. Kondo

Proc. Plasma Sci. Symp. 2005 and the 22th Symp. on plasma processing   2005年1月

Investigation of the Plasma Parameters in 915 MHz ECR Plasma with SiH4/H2 Mixtures 査読 国際誌

H. Muta, D. Ha Thang, N. Itagaki, and Y. Kawai

Proc. Plasma Sci. Symp. 2005 and the 22th Symp. on plasma processing   2005年1月

High-rate growth of microcrystalline silicon films using a high-density SiH4/H2 glow-discharge plasma 査読 国際誌

C. Niikura, N. Itagaki, M. Kondo, Y. Kawai, and Matsuda

Thin Solid Films   457 ( 1 )   2004年6月

Control of the electron temperature by varying the resonance zone width in ECR plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Muta, N. Ishii and Y. Kawai

Thin Solid Films   457 ( 1 )   2004年6月

Generation of a low-electron-temperature ECR plasma using mirror magnetic field 査読 国際誌

H. Muta, N. Itagaki, M. Koga, and Y. Kawai

Surf. Coat. Technol.   174   2003年9月

Electron-temperature dependence of nitrogen dissociation in 915 MHz ECR plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, S. Iwata, K. Muta, A. Yonesu, S. Kawakami, N. Ishii and Y. Kawai

Thin Solid Films   435 ( 1 )   2003年7月

Relationship between the electron temperature and the power absorption profile in ECR plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, K. Muta, N. Ishii and Y. Kawai

Proc. 16th Intern. Symp. on Plasma Chemistry   2003年6月

Electron-temperature control in 915 MHz electron cyclotron resonance plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, S. Kawakami, N. Ishii and Y. Kawai

J. Vac. Sci. Technol., A   20 ( 6 )   2002年11月

Production of low-electron-temperature electron cyclotron resonance plasma with large area using 915MHz microwave 査読 国際誌

N. Itagaki, S. Kawakami, N. Ishii and Y. Kawai

Vacuum   66 ( 3-4 )   2002年8月

Numerical investigation of the production mechanism of a low-temperature electron cyclotron resonance plasma 査読 国際誌

H. Muta, N. Itagaki, and Y. Kawai

Vacuum   66 ( 3-4 )   2002年8月

Numerical investigation of a low-electron-temperature ECR plasma in Ar/N2 mixtures 査読 国際誌

H. Muta, M. Koga, N. Itagaki, and Y. Kawai

Surf. Coat. Technol.   171 ( 1-3 )   2002年7月

Behavior of the molecular dissociation in 915 MHz ECR nitrogen plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, S. Iwata, K. Muta, A. Yonesu, S. Kawakami, N. Ishii and Y. Kawai

Proc. 5th Intern. Conf. Reactive Plasmas   1   2002年7月

Production of low electron temperature ECR plasma for thin film deposition 査読 国際誌

N. Itagaki, Y. Ueda, N. Ishii and Y. Kawai

Surf. Coat. Technol.   142-144   2001年7月

Production of low electron temperature ECR plasma for plasma application 査読 国際誌

N. Itagaki, S. Kawakami, N. Ishii and Y. Kawai

Proc. XXV Intern. Conf. Phenomena in Ionized Gases   2001年7月

Production of low electron temperature ECR plasma for plasma processing 査読 国際誌

N. Itagaki, Y. Ueda, N. Ishii and Y. Kawai

Thin Solid Films   390 ( 1-2 )   2001年6月

Investigation of ECR plasma uniformity from the point of view of production & confinement 査読 国際誌

N. Itagaki, T. Yoshizawa, Y. Ueda and Y. Kawai

Thin Solid Films   386 ( 2 )   2001年5月

Production of low-electron-temperature electron cyclotron resonance plasma using nitrogen gas in the mirror magnetic field 査読 国際誌

N. Itagaki, Y. Ueda, N. Ishii and Y. Kawai

Jpn. J. Appl. Phys.   40 ( 4A )   2001年4月

Effect of magnetic-mirror confinement on electron temperature control in ECR plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, Y. Ueda, N. Ishii and Y. Kawai

J. Plasma Fusion Res.   4   2001年2月

Production of low-electron-temperature ECR plasma using 915 MHz microwave 査読 国際誌

N. Itagaki, S. Kawakami, N. Ishii and Y. Kawai

Proc. Plasma Sci. Symp. 2001 and the 18th Symp. on plasma processing   2001年1月

Plasma parameter measurements and deposition of a-Si:H thin films in pulsed ECR plasma 査読 国際誌

N. Itagaki, A. Fukuda, T. Yoshizawa, M. Shindo, Y. Ueda and Y. Kawai

Surf. Coat. Technol.   131 ( 1-3 )   2000年9月

On-axis sputtering fabrication of Tm3Fe5O12 film with perpendicular magnetic anisotropy 査読 国際誌

M. N. Agusutrisno, C. H. Marrows, K. Kamataki, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Yamashita

Thin Solid Films   788 ( 15 )   2024年1月

Prediction by a hybrid machine learning model for highmobility amorphous In2O3: Sn films fabricated by RF plasma sputtering deposition using a nitrogen-mediated amorphization method 査読 国際誌

K. Kamataki, H. Ohtomo, N. Itagaki, C. F. Lesly, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

J. Appl. Phys.   134   2023年10月

Evaluation of Interaction Between Substrate and Nanoparticles Deposited by Plasma Chemical Vapor Deposition 査読

K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2023年10月

Health assessment of rice cultivated and harvested from plasma-irradiated seeds 査読 国際誌

T. Okumura, H. Tanaka, T. Nakao, T. Anan, R. Arita, M. Shiraki, K. Shiraki, T. Miyabe, D. Yamashita, K. Matsuo, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani, S. Hosoda, A. Tanaka, Y. Ishibashi, K. Koga

Sci. Rep.   13   2023年10月

Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition 査読 国際誌

K. Kamataki, Y. Sasaki, I. Nagao, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Mater Sci Semicond Process   164   2023年9月

Control of Inhomogeneity and Magnetic Properties of ZnO:Co Films Grown by Magnetron Sputtering Using Nitrogen 査読 国際誌

M. N. Agusutrisno, R. Narishige, K. Kamataki, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Yamashita

Mater Sci Semicond Process   162   2023年8月

One-dimensional particle-in-cell/Monte Carlo collision simulation for investigation of amplitude modulation effects in RF capacitive discharges 査読 国際誌

I. Nagao, K. Kamataki, A. Yamamoto, M. Otaka, Y. Yamamoto, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

MRS Adv.   7   2022年12月

Effects of substrate surface polarity on heteroepitaxial growth of pseudobinary ZnO–InN alloy films on ZnO substrates(Invited) 査読 国際誌

2022年11月

Amorphous In-Ga-Mg-O Thin Films Formed by RF Magnetron Sputtering: Optical, Electrical Properties and Thin-Film-Transistor Characteristics 査読 国際誌

H. Yabuta, N. Itagaki, T. Ekino, Y. Shigesato

IEEE Open Journal of Nanotechnology   3   2022年11月

Plasma irradiation-introduced RONS amount into plant seeds and their response analysis 査読 国際誌

T. Okumura, T. Anan, P. Attri, Y. Tsukada, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Ishibashi

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Role of short-lived nitrogen species generated at low-pressure RF plasma on the germination and seedling growth 査読 国際誌

K. Koga, P. Attri, T. Okumura, T. Anan, T. Nakao, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Measurements of strength and fluctuation of 2D electric fields in plasmas using a fine particle trapped with laser tweezers 査読 国際誌

K. Kamataki, T. Sato, K. Tomita, P. Yimin, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Effects of amplitude modulation discharge on behavior of oxygen ions in Ar/O2 capacitively coupled plasma studied by particle-in-cell/Monte Carlo collision model 査読 国際誌

I. Nagao, A. Yamamoto, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Control of magnetic transition of ZnO: Co grown by RF-sputter using post-annealing 査読 国際誌

A. M. Nurut, N. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani

ICIEE   2022年10月

Pressure dependence on spatio-temporal distribution of excitation rates of Ar 2p1 and Ne 2p1 in Ar and Ar/Ne capacitively coupled plasmas 査読 国際誌

M. Otaka, T. Arima, J. Lai, K. Ikeda, K. Kamataki, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Effect of plasma irradiation on germination of lettuce seeds with fluctuating dormancy 査読 国際誌

T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Plasma induced conversion of CO2 with water to useful compounds 査読 国際誌

P. Attri, T. Okumura, K. Koga, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Takeuchi

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Sputter epitaxy of Mg-doped ZnO films on sapphire substrates using inverted Stranski-Krastanov mode 査読 国際誌

M. Shiratani, D. Takahashi, N. Yamashita, N. Itagaki

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Process analysis of cracking aC: H/CNP/aC: H sandwich films under stress using nanoindentation 査読 国際誌

S. Ono, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc.   2022年10月

Effects of amplitude modulated capacitively coupled discharge Ar plasma on kinetic energy and angular distribution function of ions impinging on electrodes:particle-in-cell/Monte Carlo collision model simulation 査読 国際誌

K. Abe, K. Kamataki, A. Yamamoto, I. Nagao, M. Otaka, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K . Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys.   61 ( 10 )   2022年9月

Effects of amplitude modulated discharge on growth of nanoparticles in TEOS/O2/Ar capacitively coupled plasma 査読 国際誌

K. Kamataki, D. Nagamatsu, T. Yang, K. Abe, A. Yamamoto, I. Nagao, T. Arima, M. Otaka, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

AIP Adv.   12   2022年8月

Effects of amplitude modulated discharge on growth of nanoparticles in TEOS/O2/Ar capacitively coupled plasma 査読 国際誌

K. Kamataki, D. Nagamatsu, T. Yang, K. Abe, A. Yamamoto, I. Nagao, T. Arima, M. Otaka, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

AIP Adv   12   2022年8月

Detection of NO3− introduced in plasma-irradiated dry lettuce seeds using liquid chromatography-electrospray ionization quantum mass spectrometry (LC-ESI QMS) 査読 国際誌

12   2022年7月

Spatio-temporal measurements Ar 2p1 excitation rates and optical emission spectroscopy by capacitively coupled Ar and Ne mixed gas plasma 査読 国際誌

M. Otaka, T. Arima, J. Lai, K. Ikeda, K. Kamataki, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

MRS Adv.   2022年7月

Treatment of organic wastewater by a combination of non-thermal plasma and catalyst: a review 査読 国際誌

P. Attri, K. Koga, T. Okumura, F. L. Chawarambwa, T. E. Putri, Y. Tsukada, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani

Rev. Mod. Plasma Phys   6   2022年7月

Raman spectral analysis of the as-deposited aC: H films prepared by CH4+ Ar plasma CVD 査読 国際誌

S. Ono, S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, J. S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

MRS Adv.   7   2022年7月

Sputtering Growth of Single-Crystalline ZnO Based Semiconducting Films on Large Lattice-Mismatched Substrates (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

International Workshop on Magnetron Sputter Epitaxy (IWMSE)  2022年11月 

Structural Control of Sputter Deposited Films beyond the Thornton Diagram Using Impurities (keynote) 招待 国際会議

N. Itagaki

AAPPS-DPP 2022  2022年10月 

Fabrication of Low-Resistive Amorphous In2O3 :Sn Films at 600°C by Magnetron Sputtering Using Nitrogen 国際会議

2022年9月 

不純物で薄膜モフォロジーを制御する～アモルファスからエピ膜まで～ (招待講演) 招待

板垣奈穂

日本学術振興会 R025先進薄膜界面機能創成委員会　リトリート学習会 2022  2022年7月 

Development of New Oxynitride Semiconductors with Tunable Band Gaps Using Magnetron Sputtering(Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

2021年12月 

Inverted Stranski-Krastanov Growth of ZnO Based Semiconductors for Excitonic Devices(Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

2021年12月 

Sputtering Deposition with Impurities: Another Key Parameter to Control Film Structures(Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

MRS fall meeting 2021  2021年12月 

Sputter epitaxy of ZnO based oxide/oxynitride semiconductors for excitonic transistors(Invited) 招待 国際会議

5th Asia-Pacific Conference on Plasma Physics  2021年10月 

非晶質ZnON膜からの固相結晶化ZnO膜の形成とシード層としての効果(招待講演) 招待

板垣奈穂, 沈志遠, 御堂雄大, 薮田久人

第82回応用物理学会秋季学術講演会  2021年9月 

スパッタエピタキシー法を駆使したZnO系新材料の開発(招待講演) 招待

板垣奈穂

第68回応用物理学会春季学術講演会  2021年3月 

Sputter epitaxy through “inverse” SK mode for a new class of excitonic devices (Invited) 招待 国際会議

2020年10月 

A novel semiconductor ZION for excitonic devices (Invited) 招待

N. Itagaki

2020年8月 

Sputtering Deposition with Impurities: Another Key Parameter to Control Film Structures (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

2019年12月 

ZnO Based Semiconductors for Excitonic Devices (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

2019年12月 

Inverse Stranski-Krastanov growth: a method for growth of single crystalline films beyond lattice-matching condition (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

Satellite Workshop of XXXIV ICPIG & ICRP-10 "New trends of plasma processes for thin films and related materials for the deep discussion on new trends of plasma processes"  2019年7月 

Sputter Epitaxy of ZnO Based Compounds for Excitonic Devices 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Imoto, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

28th Annual Meeting of MRS-Japan 2018  2018年12月 

Sputter Epitaxy of compound semiconductors via inverse Stranski-Krastanov mode: A method of single crystalline film growth beyond lattice matchins condition 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Imoto, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

28th Annual Meeting of MRS-Japan 2018  2018年12月 

Sputter Epitaxy via Inverse Stranski-Krastanov Growth Mode: A Method of Single Crystal Growth beyond Lattice Matching Condition 国際会議

N. Itagki, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

AVS Pacific Rim Symposium on Surfaces, Coatings and Interfaces (PacSurf 2018)  2018年12月 

Sputter epitaxy of high quality (ZnO)x(InN)1-x: a new semiconducting material for excitonic devices (Invited) 招待 国際会議

N. Itagki, N. Miyahara, D. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

2nd Asia-Pacific Conference on Plasma Physics (AAPPS-DPP2018)  2018年11月 

Inverse Stranski-Krastanov Growth of Single Crystalline Films: A New Mode of Heteroepitaxy for Large Lattice Mismatched System (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, M. Shiratani

10th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials Processing, Fabrication, Properties, Applications (THERMEC 2018)  2018年7月 

格子整合条件を超えて原子平坦表面を実現する新規スパッタエピタキシー技術の開発～ZnO on sapphireを例に～（招待講演） 招待

板垣奈穂, 岩崎和也, 古閑一憲, 白谷正治

第65回応用物理学会春季学術講演会  2018年3月 

Excitonic devices for on-chip optical interconnects 国際会議

N. Itagaki

Joint workshop btw SKKU and Kyushu University Emerging materials and devices  2018年1月 

Fabrication of High-Mobility Nanocrystal-Free a-In2O3:Sn Films by Magnetron Sputtering with Impurity-Mediated Amorphization Method 招待 国際会議

N. Itagaki, H. Wang, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

27th annual meeting of MRS-J  2017年12月 

逆SKモードを利用した超高品質スパッタエピタキシー（招待講演） 招待

板垣奈穂

2017年11月 

不純物添加スパッタリング法による高移動度・ナノ結晶フリー a-In2O3:Sn薄膜の作製

板垣奈穂, 山下大輔, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治

第78回応用物理学会秋季学術講演会  2017年9月 

Fabrication of High-Mobility Amorphous In2O3:Sn Films by RF Magnetron Sputtering with Impurity-Mediated Amorphization Method (Keynote) 招待 国際会議

N. Itagaki, T. Takasaki, H. Wang, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

International Union of Materials Research Societies - The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2017)  2017年8月 

Inverse Stranski-Krastanov Growth of Single Crystalline ZnO-Based Semiconductors on Lattice Mismatched Substrates (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Iwasaki, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

International Union of Materials Research Societies - The 15th International Conference on Advanced Materials (IUMRS-ICAM 2017)  2017年8月 

Inverse Stranski-Krastanov Growth of Pit-Free Single Crystalline ZnO Films on Lattice Mismatched Substrates 国際会議

N. Itagaki, K. Iwasaki, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

29th International Conference on Defects in Semiconductors (ICDS2017)  2017年8月 

不純物添加スパッタリングによる高移動度アモルファスITOの作製（招待講演） 招待

板垣奈穂

プラズマ材料科学第 153委員会　第130回研究会　プラズマを用いた新奇プロセス・新規材料創製  2017年4月 

スパッタエピタキシー法を用いた高品質単結晶薄膜の形成（招待講演） 招待

板垣奈穂

プラズマ核融合学会第29回専門講習会「スパッタ技術の現状と展望」  2017年1月 

Sputtering growth of (ZnO)x(InN)1-x semiconductor: a ZnO-based compound with bandgap tunability over the entire visible spectrum (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, D. Ymashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

26th annual meeting of MRS-J  2016年12月 

バンドギャップチューニング可能なZnO系新半導体材料の開発（プラズマエレクトロニクス賞受賞記念講演） 招待

板垣奈穂, 松島宏一, 山下大輔, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷 正治

第77回応用物理学会秋季学術講演会  2016年9月 

Plasma surface interactions of single crystal ZnO during sputtering in Ar+O2+N2 国際会議

N. Itagaki and M. Shiratani

Workshop on Plasma surface interaction for technological applications  2016年7月 

Inverse SK mode of epitaxial film growth and its application to solar cells (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

The 3rd Korea-Japan Joint Symposium on Advanced Solar Cells  2016年2月 

可視領域でバンドギャップチューニング可能な新材料ZIONの開発（招待講演） 招待

板垣奈穂

固体化学の新しい指針を探る研究会第78回定例研究会  2015年10月 

Single Crystal Growth On Large Lattice-Mismatched Substrates By Using Buffer Layers With Fine Grains (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

The 10th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering (AEPSE2015)  2015年9月 

Sputtering growth of single-crystalline ZnO films on c-sapphire substrates by using impurity-mediated crystallization method: Effects of surface morphology of buffer layers 国際会議

N. Itagaki, T. Ide, K. Matsushima, T. Takasaki, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, Masaharu Shiratani

2015 E-MRS Spring Meeting and Exhibit  2015年5月 

High-mobility amorphous In2O3:Sn films prepared by sputter deposition with nitrogen-mediated amorphization method 国際会議

N. Itagaki, T. Takasaki, T. Nakanishi, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

7th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterial/8th International Conference on Plasma Nanotechnology and Science (ISPlasma2015/IC-PLANTS2015)  2015年3月 

可視領域でバンドギャップチューニング可能なZnO系新材料の開発（招待講演） 招待

板垣奈穂, 松島宏一, 井手智章, 山下大輔, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治

第62回応用物理学会春季学術講演会  2015年3月 

ZnO-based semiconductors with tunable band gap for 3rd generation solar sells (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

International Society for Optics and Photonics, Photonics West 2015  2015年2月 

不純物添加結晶化法による高品質ZnO薄膜の形成（招待講演） 招待

板垣奈穂

学振166委員会　第66回研究会  2015年1月 

ZnO-based semiconductors with tunable band gap for solar cell application (Invited) 招待 国際会議

Naho Itagaki

2015 Japan-Korea Joint Symposium on Advanced Solar Cells  2015年1月 

Sputtering Growth of ZnO-based semiconductors with Band Gap Tunability over the Entire Visible Spectrum (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

Pacific Rim Symposium on Surfaces, Coatings and Interfaces (PacSurf 2014)  2014年12月 

Sputtering Growth of Pseudobinary ZnO-InN Alloys with Tunable Band Gap for Application in Multi-Quantum Well Solar Cells 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

2014 MRS Fall Meeting  2014年12月 

スパッタリング成膜法による高品質酸化亜鉛薄膜の形成

板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第30回　九州・山口プラズマ研究会  2014年11月 

Synthesize of ZnO-based Semiconductor with Tunable Band Gap and Its Application in Multi-Quantum-Well Solar Cells 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, T. Ide, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, and M. Shiratani

6th World Conferenceon Photovoltaic Energy Conversion  2014年11月 

Non-Equilibrium and Extreme State -High-mobility amorphous In2O3:Sn films prepared via nitrogen-mediated amorphization- 国際会議

N. Itagaki, T. Nakanishi, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

Plasma Conference 2014  2014年11月 

Sputteing Growth of High-Quality ZnO-based Semiconductors for Optoelectronic Applications (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

American Vacuum Society 61st International Symposium and Exhibition (AVS)  2014年11月 

超高効率太陽電池への挑戦 ～量子効果を利用した新型太陽電池の実現に向けて～（招待講演） 招待

板垣奈穂

第25回精密加工プロセス研究会講演会  2014年10月 

c面サファイア基板上への単結晶ZnO膜の形成 : 格子不整合系ヘテロエピタキシーにおける成長初期過程の表面形態の影響

板垣奈穂, 井出智章, 松島宏一, 山下大輔, 徐鉉雄, 古閑一憲, 白谷正治

第75回応用物理学会秋季学術講演会  2014年9月 

Fabrication of Pseudo-binary ZnO-InN Alloys with Tunable Bandgap by Low-Temperature Magnetron Sputtering (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

15th IUMRS-International Conference in Asia  2014年8月 

Crystal Growth Control of Sputter-Deposited ZnO Films by Nitrogen-Mediated Crystallization Method 国際会議

N. Itagaki, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

15th IUMRS-International Conference in Asia  2014年8月 

Sputter-Deposition of Pseudobinary ZnO-InN Alloys with Tunable Bandgap for Photovoltaic Application (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, R. Shimizu, and T. Ide

International Conference on Microelectronics and Plasma Technology 2014 (ICMAP2014)  2014年7月 

Novel oxynitride semiconductors for photovoltaic applications (太陽電池のための新規酸窒化物材料の探索) 招待

板垣奈穂

36th Seminar of Photovoltaic Power Generation Project (第36回平成26年度太陽光発電プロジェクト講演会 )  2014年5月 

Sputtering growth of ZnO-based semiconductors using ZnON buffer layers for optoelectronic applications (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

The International Symposium on Plasma-Nano Materials and Processes  2014年4月 

不純物添加結晶化法を用いた高品質ZnO薄膜のスパッタリング成膜」 -格子不整合基板上への単結晶膜の作製から極薄透明導電膜の作製まで- (招待講演) 招待

板垣奈穂

スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会（SP部会） 第137回定例研究会  2014年3月 

Sputtering growth of single-crystalline ZnO-based semiconductors on lattice mismatched substrates (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, I. Suhariadi, D. Yamashita, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

International Society for Optics and Photonics, Photonics West 2014  2014年2月 

新規酸窒化物半導体を用いたピエゾ電界誘起量子井戸型太陽電池の創製

板垣奈穂

第2回「太陽光と光電変換機能」領域公開シンポジウム  2013年12月 

ZnInON系太陽電池材料の探索 (招待講演) 招待

板垣奈穂

第5回薄膜太陽電池セミナー  2013年11月 

不純物添加結晶化法による酸化亜鉛の高品質成長と新規２次元材料への展開

板垣奈穂

第29回九州山口プラズマ研究会  2013年11月 

Crystallinity Control of Sputtered ZnO:Al Transparent Conducting Films by Utilizing Buffer Layers Fabricated via Nitrogen Mediated Crystallization 国際会議

N. Itagaki, K. Oshikawa, I. Suhariadi, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

Solid State Devices and Materials 2013 (SSDM)  2013年9月 

Synthesis and Characterization of Oxynitride Semiconductor ZnInON with Tunable Bandgap

N. Itagaki, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G.Uchida, K. Koga, M. Shiratani

The 26th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-26)  2013年9月 

Band-Gap Engineering of ZnO Based Semiconductors Deposited by Sputtering 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

2013 JSAP-MRS Joint Symposia  2013年9月 

Novel Approach to Sputtering Growth of Single Crystalline Oxide Semiconductors for Optoelectronic Applications (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

2013年8月 

グリーン時代を切り拓く革新的エレクトロニクス材料の創製～極低消費電力トランジスタおよび次世代型太陽電池の実現に向けて～

板垣奈穂

2013年度先端サマーセミナー（第5回研究活動交流会）  2013年8月 

Novel Application of Ar/N2 Discharges to Sputtering Growth of High Quality Oxide Semiconductors (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

The XXXI edition of the International Conference on Phenomena in Ionized Gases (ICPIG)  2013年7月 

Sputter Deposition of Single Crystal ZnO Films on 18% Lattice mismatched c-Al2O3 Substrates via Nitrogen Mediated Crystallization 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, I. Suhariadi, K. Oshikawa, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, and M. Shiratani

International Symposium on Sputtering and Plasma Processes (ISSP2013)  2013年7月 

Sputter Deposition of Semiconductor-Grade ZnO Based Materials on Lattice Mismatched Substrates (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Matsushima, K. Oshikawa, and I. Suarihadi

The Collaborative Conference on Materials Research 2013  2013年6月 

スパッタリングにおけるZnNOx膜の初期成長制御とグリーンデバイスへの展開 (招待講演) 招待

板垣奈穂

第112回研究会（153委員会,154委員会,131委員会合同研究会）プラズマ材料科学に基づいた薄膜形成と新プロセスの創出  2013年6月 

高効率太陽電池の実現に向けた新規酸窒化物半導体ZnInONのバンドギャップエンジニアリング

板垣奈穂, 松島宏一, 桑原和成, 山下大輔, 徐鉉雄, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第10回　「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2013年5月 

スパッタ法によるC面サファイア基板上への原子平坦ZnO薄膜の作製

板垣奈穂, 桑原和成, 山下大輔, 徐鉉雄, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

2013年第60回応用物理学会春季学術講演会  2013年3月 

Sputter deposition of zinc-indium oxynitride semiconductors with narrow bandgap for excitonic transistors 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials (ISPlasma2013)  2013年2月 

Sputter deposition of atomically-flat ZnO films on lattice mismatched substrates via nitrogen mediated crystallization (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, I. Suhariadi, K. Oshikawa, K. Matsushima, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

The 16th International Workshop on Advanced Plasma Processing and Diagnostics  2013年1月 

Epitaxial Growth of ZnO Based Semiconductors via Impurity-Additive Mediated Crysallization 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Matsushima, T. Hirose, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

2012 MRS Fall Meeting  2012年11月 

Sputter deposition of Epitaxial Zinc-Indium Oxynitride Films for Excitonic Transistors 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, T. Hirose, K. Kuwahara, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

The 34th International Symposium on Dry Process  2012年11月 

Zinc-Indium Oxynitride Thin Films for Multiple-Quantum–Well Solar Cells 国際会議

Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology　(11th APCPST)  2012年10月 

Zinc-Indium Oxynitride Semiconductors for Piezo-Electric-Field Effect MQW Solar Cells 国際会議

N. Itagaki, K. Matsushima, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, H. Seo, K. Koga, M. Shiratani

2012年9月 

Crystallinity control of sputtered ZnO films by utilizing buffer layers fabricated via nitrogen mediated crystallization: Effects of nitrogen flow rate 国際会議

N. Itagaki, I. Suhariadi, K. Kuwahara, K. Oshikawa, D. Yamashita, H. Seo, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

13th International Conference on Plasma Surface Engineering (PSE2012)  2012年9月 

高効率量子井戸型太陽電池のための新規酸窒化物半導体薄膜の作製

板垣奈穂、松島宏一、桑原和成、押川晃一郎、I. Suhariadi、山下大輔、徐鉉雄、鎌滝晋礼、内田儀一郎、古閑一憲、白谷正治

第9回「次世代の太陽光発電システム」シンポジウム  2012年5月 

Piezo-electric-field effect MQW solar cells based on novel oxynitride semiconductors

N. Itagaki

2012年3月 

窒素添加結晶化バッファー層によるZnO:Al 薄膜の結晶性制御： 窒素供給量の影響

板垣奈穂, I. Suhariadi, 桑原和成, 山下大輔, 徐鉉雄, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第59回応用物理学関係連合講演会  2012年3月 

Novel fabrication method for ZnO films via nitrogen-mediated crystallization (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Matsushima, K. Oshikawa

SPIE (International society for optics and photonics) photonics west 2012  2012年1月 

Zinc oxide-based transparent conducting films with buffer layers fabricated via nitrogen-mediated crystallization 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, D. Yamashita, G. Uchida, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

The 21st International Photovoltaic Science and Engineering Conference (PVSEC-21)  2011年12月 

Ar/N2マグネトロンスパッタによる低抵抗ZnO:Al膜の作製 国際会議

板垣奈穂, 桑原和成, 中原賢太, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 徐鉉雄, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

2011年11月 

窒素添加結晶化法による超均一・低抵抗酸化亜鉛薄膜の作製

板垣奈穂, 桑原和成, 中原賢太, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第27回九州・山口プラズマ研究会（兼応用物理学会九州支部シンポジウム「プラズマ計測とその応用　ナノプロセスから環境まで」）  2011年11月 

Spatial distribution of resistivity of ZnO:Al thin films fabricated on solid-phase crystallized seed layers 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

European Material Research Society 2011 Fall Meeting (E-MRS)  2011年9月 

ZnO:Al薄膜の抵抗率の面内均一性に対する固相結晶化シード層の効果

板垣奈穂, 桑原和成, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第72回応用物理学会学術講演会  2011年9月 

Fabrication of high quality ZnO films via nitrogen-mediated crystallization 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

2011年7月 

Fabrication of highly conducting ZnO:Al films utilizing solid-phase crystallized seed layer 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

European Materials Research Society 2011 Spring Meeting  2011年5月 

固相結晶化シード層を用いた酸化亜鉛系透明導電膜の作製

板垣奈穂, 桑原和成, 中原賢太, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第58回応用物理学関係連合講演会  2011年3月 

Novel fabrication method for transparent conducting oxide films utilizing solid-phase crystallized seed layers (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, and K. Nakahara

2011年2月 

Solid phase crystallization of ZnO films via nitrogen-atom mediation 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara

2010 MRS Fall Meeting  2010年11月 

Novel fabrication method for oxide semiconductors via atomic-additive mediated crystallization (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

International technical conference of IEEE Region 10  2010年11月 

アモルファス相からの固相結晶化による酸化亜鉛薄膜の作製

板垣奈穂, 桑原和成, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第26回九州・山口プラズマ研究会  2010年11月 

Fabrication of a-ZnON films by Ar/N2 sputtering for solid-phase crystallization of ZnO 国際会議

N. Itagaki, K. Kuwahara, K. Nakahara, D. Yamashita, K. Kamataki, G. Uchida, K. Koga, M. Shiratani

63rd Annual Gaseous Electronics Conference and 7th International Conference on Reactive Plasmas (ICRP)  2010年10月 

窒素原子を介した固相結晶化法による酸化亜鉛薄膜の作製

板垣奈穂, 桑原和成, 中原賢太, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 内田儀一郎, 古閑一憲, 白谷正治

第71回応用物理学会学術講演会  2010年9月 

公募で勝つには-私の経験

板垣奈穂

第37回西日本放電懇談会  2010年8月 

Combinatorial sputtering of oxynitride semiconductors (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki

2010 International Workshop on Plasma Applications  2010年6月 

Amorphous Oxide Semiconductor Based TFTs: Their Current Situation and Issues (Invited) 招待 国際会議

N. Itagaki, S. Yaginuma, H. Omura, A. Goyal, A. Sato, M. Watanabe, M. Shimada, N. Kaji, K. Takahashi, M. Ofuji, T. Watanabe, H. Shimizu, K. Abe, Y. Tateishi, H. Yabuta, T. Iwasaki, R. Hayashi, T. Aiba, M. Sano and H. Kumomi

2009年12月 

In-X-O (X=B,Mg,Al,Si,Ti,Ga,Ge,Mo,Sn) をチャネル層に用いたTFTとその特性の元素X依存性

板垣奈穂, Amita Goyal, 岩崎達哉, 田透, 雲見日出也

第69回応用物理学会学術講演会  2008年9月 

Zn-In-O based thin-film transistors: Compositional dependence 国際会議

N. Itagaki, T. Iwasaki, T. Den, H. Kumomi, K. Nomura, T. Kamiya, and H. Hosono

European Material Research Society 2007 Spring Meeting  2007年6月 

In-Ga-Zn-O 系薄膜を用いた電界効果トランジスタとその組成依存性

板垣奈穂, 岩崎達哉, 田透, 雲見日出也, 野村研二, 神谷利夫, 細野秀雄

第53回応用物理学関係連合講演会  2006年3月 

マルチホロー型カソードを用いた高密度VHFプラズマの生成と診断

板垣奈穂, 新倉ちさと, 松田彰久, 近藤道雄

第65回応用物理学会学術講演会  2004年9月 

Electron-Temperature Measurement in SiH4/H2 ECR Plasma Produced by 915MHz Microwaves 国際会議

N. Itagaki, K. Sasaki and Y. Kawai

7th Asia Pacific Conf. Plasma Sci. Technol. and 17th Symp. Plasma Sci. Mater.  2004年6月 

Production of Electron-Temperature-Controllable ECR Plasma for Thin Film Deposition 国際会議

N. Itagaki, K. Muta, N. Ishii and Y. Kawai

2003年11月 

Relationship between the plasma parameter and the microwave power absorption in ECR plasma 国際会議

N. Itagaki, K. Muta, Y. Kawai, N. Ishii

American Phys. Soc. 45st Annual Meet. Division of Plasma Phys.  2003年11月