研究者詳細 - 山下尚人

2025/06/11 更新

写真a

ヤマシタ　ナオト

山下尚人

YAMASHITA NAOTO

所属

システム情報科学研究院 I&Eビジョナリー特別部門准教授
マス・フォア・イノベーション連係学府（併任）
システム情報科学府電気電子工学専攻（併任）
工学部電気情報工学科（併任）

ホームページ

https://cmp.ed.kyushu-u.ac.jp

外部リンク

学位

博士(工学)

経歴

九州大学大学院システム情報科学研究院准教授

2025年1月 - 現在

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国名：日本国

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Chalmers University of Technology Guest Researcher

2024年4月 - 2024年7月

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国名：スウェーデン王国

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九州大学大学院システム情報科学研究院助教

2021年8月 - 現在

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株式会社デンソー

株式会社デンソー

研究テーマ・研究キーワード

研究テーマ：スピントロニクス; 半導体デバイス; 結晶成長

研究キーワード：スピントロニクス; 半導体デバイス; 結晶成長

研究期間： 2025年
研究テーマ：半導体スピントロニクス

研究キーワード：スピントロニクス; 半導体デバイス; 結晶成長

研究期間： 2021年8月 - 2023年3月

受賞

応用物理学会第5回英語講演奨励賞

2016年9月応用物理学会スピントロニクス分科会

論文

Effect of nanoscale inhomogeneity on blocking temperature of ZnO:Co films fabricated by using nitrogen-mediated crystallization 査読

Agusutrisno, MN; Okumura, T; Kamataki, K; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

MRS ADVANCES 2024年7月（ ISSN:2731-5894 eISSN:2059-8521 ）

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担当区分：最終著者掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：MRS Advances

Diluted magnetic semiconductors (DMS) have attracted interest for the potential applications of spintronic devices. The origin of the temperature dependence of their ferromagnetism has been debated and has not been concluded yet. A potential conclusion is that nanoscale inhomogeneity largely affects the temperature dependence of the magnetization in DMS even if the structure and compositions are not largely different. We examined this hypothesis by implementing nitrogen-mediated crystallization consisting of sputtering deposition of amorphous film and solid-phase crystallization by thermal annealing. A series of samples with different inhomogeneities were prepared by changing the annealing time. No significant changes in the composition and the structure were observed after annealing for various times, while significant enhancements were observed in the coercivity, blocking temperature, and grain size. These results provide clear understanding in the temperature dependence of the ferromagnetism in DMS and direct evidence of the potential conclusion on the long-lasting debate. Graphical abstract: (Figure presented.)

DOI： 10.1557/s43580-024-00907-z

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その他リンク： https://link.springer.com/article/10.1557/s43580-024-00907-z/fulltext.html
On-axis sputtering fabrication of Tm3Fe5O12 film with perpendicular magnetic anisotropy 査読国際誌

Agusutrisno, MN; Marrows, CH; Kamataki, K; Okumura, T; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

THIN SOLID FILMS 788 ( 15 ) 140176 - 140176 2024年1月（ ISSN:0040-6090 eISSN:1879-2731 ）

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Thin Solid Films

Thulium iron garnet, Tm3Fe5O12 with perpendicular magnetic anisotropy is fabricated using an on-axis sputtering technique followed by annealing, whereas previous reports have used unusual off-axis geometries. Stoichiometric Tm3Fe5O12 is obtained after the modification of the deposition conditions involving the position of the substrate relative to the cathode, which affects both the chemical and structural properties. The effective perpendicular magnetic anisotropy of 8.6 kJ/m3 is well in line with the results of previous studies using pulse laser deposition and off-axis sputtering. A maze domain pattern is observed, and the domain-wall energy is evaluated as 0.69 mJ/m2.

DOI： 10.1016/j.tsf.2023.140176

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Role of insoluble atoms in the formation of a three-dimensional buffer layer in inverted Stranski–Krastanov mode 査読国際誌

N. Yamashita, R. Mitsuishi, Y. Nakamura, K. Takeda, M. Hori, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani

J. Mater. Res 2023年1月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43578-022-00886-7
Realization of efficient tuning of the Fermi level in iron-based ferrimagnetic alloys 査読

Yamashita, N; Shigematsu, E; Honda, S; Ohshima, R; Shiraishi, M; Ando, Y

PHYSICAL REVIEW MATERIALS 6 ( 10 ) 104405 2022年10月（ ISSN:2475-9953 eISSN:2475-9953 ）

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Physical Review Materials

The Stoner criterion allows only three single elements possessing room-temperature (RT) ferromagnetism: cobalt (Co), nickel (Ni), and iron (Fe). Although these three elements have played central roles in magnetism-based materials, their large work function (4.5∼5.2eV) is becoming a non-negligible obstacle for realization of spin devices using nonmetallic materials with finite energy gaps, because injection of electron spins into these nonmetallic materials is strongly hampered due to the large Schottky barrier height. Hence, a novel ferromagnetic or ferrimagnetic material simultaneously possessing RT ferromagnetism or ferrimagnetism and high Fermi energy is strongly required. Here, we show that an Fe-based alloy, iron-gadolinium (FeGd), allows circumvention of the obstacle. Surprisingly, only 20% of Gd incorporation in Fe dramatically modulates the Fermi energy from -4.8 to -3.0 eV, which is the largest modulation in all metallic alloys reported thus far. The coexistence of ferrimagnetism and nonzero spin polarization at RT of FeGd supports its abundant potential for future applications in low-carrier-density materials such as monolayer, organic, and nondegenerate inorganic semiconductors.

DOI： 10.1103/physrevmaterials.6.104405

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その他リンク： http://harvest.aps.org/v2/journals/articles/10.1103/PhysRevMaterials.6.104405/fulltext
Growth of Single-Crystalline ZnO Films on 18%-Lattice-Mismatched Sapphire Substrates Using Buffer Layers with Three-Dimensional Islands 査読

Yuta Nakamura, Naoto Yamashita, Kunihiro Kamataki, Takamasa Okumura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

Crystal Growth & Design 22 ( 6 ) 3770 - 3777 2022年6月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1021/acs.cgd.2c00145
Epitaxial Growth of Zn1-xMgxO Films on Sapphire Substrates via Inverted Stranski-Krastanov Mode Using Magnetron Sputtering 査読国際誌

D. Takahashi, N. Yamashita, D. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS Adv. 2022年2月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43580-022-00234-1
Thermally Generated Spin Signals in a Nondegenerate Silicon Spin Valve 査読

Naoto Yamashita, Yuichiro Ando, Hayato Koike, Shinji Miwa, Yoshishige Suzuki, Masashi Shiraishi

Physical Review Applied 9 ( 5 ) 054002 2018年5月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1103/physrevapplied.9.054002
Effects of carbon nanoparticle insertion on stress reduction in hydrogenated amorphous carbon films using plasma chemical vapor deposition

Ono S., Hwang S.H., Okumura T., Yamashita N., Kamataki K., Kiyama H., Itagaki N., Koga K., Shiratani M.

Diamond and Related Materials 150 2024年12月（ ISSN:09259635 ）

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出版者・発行元：Diamond and Related Materials

Stress reduction in hydrogenated amorphous carbon (a-C:H) films is of considerable interest for improving their performance as protective films. Herein, we reduced the compressive stress of the films by inserting carbon nanoparticles (CNPs) between two a-C:H layers to form an a-C:H/CNP/a-C:H sandwich structure using a system of plasma chemical vapor deposition (CVD). We measured the deposition features of the CNPs via transmission electron microscopy (TEM) and assessed the dependence of the stress on the thickness of the second a-C:H layer as a parameter of surface coverage, C<inf>p</inf>. We represented the stress reduction as a function of C<inf>p</inf>; mean size of large CNPs, and thickness of the first and second a-C:H layers. In addition, the surface and film morphologies were investigated using atomic force microscopy (AFM) and cross-sectional scanning electron microscopy (SEM). Compared with films without CNPs, those containing CNPs with 8.9 % C<inf>p</inf> showed 36 % lower stress when the thickness of the second a-C:H layer was similar to that of the first (154 nm). The deposited CNPs exhibited two size groups, with mean sizes of the small and large CNPs of 5 and 16 nm, respectively. Stress reduction was strongly correlated with the distance between large CNPs. The insertion of CNPs between a-C:H films affects the surface morphology of the second layer, and the stress decreases when the growth stage of the film starts transitioning from three-dimensional (3D) to two-dimensional (2D).

DOI： 10.1016/j.diamond.2024.111654

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Large-scale fabrication of thulium iron garnet film with perpendicular magnetic anisotropy using RF magnetron sputtering 査読

Agusutrisno, MN; Obinata, S; Okumura, T; Kamataki, K; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS 63 ( 7 ) 07SP06 - 07SP06 2024年7月（ ISSN:0021-4922 eISSN:1347-4065 ）

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担当区分：最終著者掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Japanese Journal of Applied Physics, Part 1: Regular Papers and Short Notes and Review Papers

Large-scale fabrication of thulium iron garnet (TmIG) films on gadolinium gallium garnet (GGG) substrates, with a total area of 25 cm2, has been demonstrated by rotating substrate holders during on-axis sputtering. By optimizing the growth parameters based on the pressure and flow rate of the oxygen ratio, a Tm/Fe ratio of 0.65 was obtained, which is close to the stoichiometry of TmIG. The increase in post-annealing temperature has induced the growth of the TmIG structure by the strain of the lattice constant mechanism. At the highest post-annealing temperature, the crystal structure of TmIG (444) and the perpendicular magnetic anisotropy (PMA) were obtained. This result demonstrates the potential method for large-scale fabrication of TmIG film with PMA.

DOI： 10.35848/1347-4065/ad5aff

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その他リンク： https://iopscience.iop.org/article/10.35848/1347-4065/ad5aff/pdf
Sputtering deposition of dense and low-resistive amorphous In<sub>2</sub>O<sub>3</sub>: Sn films under ZONE-T conditions of Thornton's structural diagram

Wada, Y; Magdy, W; Takeda, K; Mido, Y; Yamashita, N; Okumura, T; Kamataki, K; Koga, K; Hori, M; Shiratani, M; Itagaki, N

APPLIED PHYSICS LETTERS 124 ( 24 ) 2024年6月（ ISSN:0003-6951 eISSN:1077-3118 ）

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出版者・発行元：Applied Physics Letters

We have fabricated smooth-surfaced amorphous In2O3:Sn (a-ITO) films at a high temperature of 550 °C, far above the typical crystallization threshold of 150 °C for ITO films. This achievement has been made possible by intentionally introducing N2 into the sputtering atmosphere, which maintains a low N atom incorporation of only a few atomic percent within the films. Positioned within ZONE-T of the Thornton diagram (higher-temperature region characterized by high film density), our method allows the preparation of films with superior film density about 6.96 g/cm3, substantially exceeding the density of 6.58 g/cm3 for conventional a-ITO films fabricated under ZONE-1 (low-temperature region) and approaching the bulk crystal density of In2O3 at 7.12 g/cm3. The films also feature a high carrier density of 5 × 1020 cm−3 and a remarkably low resistivity of 3.5 × 10−4 Ω cm, comparable to those of polycrystalline films. The analysis via vacuum-ultraviolet absorption spectroscopy on N and O atom densities in the plasma suggests that amorphization is primarily caused not by N atoms incorporated in the films but by those temporally adsorbed on the film surface, inhibiting crystal nucleation before eventually desorbing. Our findings will pave the way not only for broader applications of a-ITO films but also for the design of other amorphous materials at temperatures beyond their crystallization points.

DOI： 10.1063/5.0211090

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Sputter deposition of ZnO-AlN pseudo-binary amorphous alloys with tunable band gaps in the deep ultraviolet region

Urakawa, S; Magdy, W; Wada, Y; Narishige, R; Kaneshima, K; Yamashita, N; Okumura, T; Kamataki, K; Koga, K; Shiratani, M; Itagaki, N

MATERIALS RESEARCH EXPRESS 11 ( 6 ) 2024年6月（ eISSN:2053-1591 ）

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出版者・発行元：Materials Research Express

ZnO-AlN pseudo-binary amorphous alloys (a-ZAON hereinafter) with tunable band gaps in the deep ultraviolet (DUV) region have been synthesized using magnetron sputtering. The miscibility gap between ZnO and AlN has been overcome using room-temperature sputtering deposition, leveraging the rapid quenching abilities of sputtered particles to fabricate metastable but single-phase alloys. X-ray diffraction patterns and optical transmittance spectra revealed that the synthesized films with chemical composition ratios of [Zn]/([Zn] + [Al]) = 0.24-0.79 likely manifested as single-phase of a-ZAON films. Despite their amorphous structures, these films presented direct band gaps of 3.4-5.8 eV and thus high optical absorption coefficients (105 cm−1). Notably, the observed values adhered to Vegard’s law for crystalline ZnO-AlN systems, implying that the a-ZAON films were solid solution alloys with atomic-level mixing. Furthermore, atomic force microscopy analyses revealed smooth film surfaces with root-mean-square roughness of 0.8-0.9 nm. Overall, the wide-ranging band gap tunability, high absorption coefficients, amorphous structures, surface smoothness, and low synthesis temperatures of a-ZAON films position them as promising materials for use in DUV optoelectronic devices and power devices fabricated using large-scale glass and flexible substrates.

DOI： 10.1088/2053-1591/ad4f57

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Evaluation of Interaction Between Substrate and Nanoparticles Deposited by Plasma Chemical Vapor Deposition 査読国際誌

K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2023年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Prediction by a hybrid machine learning model for highmobility amorphous In2O3: Sn films fabricated by RF plasma sputtering deposition using a nitrogen-mediated amorphization method 査読国際誌

K. Kamataki, H. Ohtomo, N. Itagaki, C. F. Lesly, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

J. Appl. Phys. 134 2023年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/5.0160228
Health assessment of rice cultivated and harvested from plasma-irradiated seeds 査読国際誌

T. Okumura, H. Tanaka, T. Nakao, T. Anan, R. Arita, M. Shiraki, K. Shiraki, T. Miyabe, D. Yamashita, K. Matsuo, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani, S. Hosoda, A. Tanaka, Y. Ishibashi, K. Koga

Sci. Rep. 13 2023年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1038/s41598-023-43897-y
Low-temperature fabrication of silicon nitride thin films from a SiH4+N2 gas mixture by controlling SiNx nanoparticle growth in multi-hollow remote plasma chemical vapor deposition 査読国際誌

K. Kamataki, Y. Sasaki, I. Nagao, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Mater Sci Semicond Process 164 2023年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1016/j.mssp.2023.107613
Control of inhomogeneity and magnetic properties of ZnO:Co films grown by magnetron sputtering using nitrogen 査読国際誌

Agusutrisno, MN; Narishige, R; Kamataki, K; Okumura, T; Itagaki, N; Koga, K; Shiratani, M; Yamashita, N

MATERIALS SCIENCE IN SEMICONDUCTOR PROCESSING 162 2023年8月（ ISSN:1369-8001 eISSN:1873-4081 ）

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）出版者・発行元：Materials Science in Semiconductor Processing

We experimentally report the control of structural inhomogeneity and magnetic properties of Co-doped ZnO films using nitrogen mediated-crystallization. The ZnO:CoN were grown on a silicon substrate at room temperature by RF-magnetron sputtering using nitrogen and followed by a post-annealing treatment for 3 hours at 400 °C, 600 °C, 800 °C and 1000 °C in the air. This method induces changes in inhomogeneity properties comprised by microstructure and stoichiometry of each film, which are confirmed by X-ray diffraction, thermal desorption, and X-ray fluorescence measurements. The difference in inhomogeneity has led to the transformation in the magnetic properties. Films annealed at 400 °C, which showed the highest inhomogeneity, exhibited superparamagnetic-ferromagnetic properties. In contrast, all the other films exhibited diamagnetic properties. Increasing the post-annealing temperature above 400 °C reduces inhomogeneities indicated by improved grain size, decreased impurities, and lattice parameters and stoichiometry of ZnO:CoN films approached those of pure ZnO. Our present results will contribute to control the inhomogeneity of ZnO:Co films to improve magnetic properties at room temperature.

DOI： 10.1016/j.mssp.2023.107503

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One-dimensional particle-in-cell/Monte Carlo collision simulation for investigation of amplitude modulation effects in RF capacitive discharges

Iori Nagao, Kunihiro Kamataki, Akihiro Yamamoto, Michihiro Otaka, Yuma Yamamoto, Daisuke Yamashita, Naoto Yamashita, Takamasa Okumura, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

MRS Advances 7 ( 31 ) 911 - 917 2022年12月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43580-022-00417-w
Raman spectral analysis of the as-deposited a-C:H films prepared by CH4+ Ar plasma CVD

Shinjiro Ono, Sung Hwa Hwang, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Naoto Yamashita, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Jun-Seok Oh, Susumu Takabayashi, Tatsuyuki Nakatani

MRS ADVANCES 7 ( 30 ) 718 - 722 2022年11月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

Applicability of precise Raman spectral analysis of a-C:H films deposited using a plasma chemical vapor deposition (CVD) method has been discussed based on the sensitivity to initial conditions in peak separation. The spectral analysis offers to deconvolute the spectra into five peaks, while the as-deposited films prepared by plasma CVD is difficult to the five-peak separation. We found the peak position and the peak height ratio of the D-band to the G(+)-band can be employed to discuss the structure of the as-deposited films. We examined the structural difference between the films deposited at the powered electrode and that at grounded electrode. We found graphene nanoribbon-like structures may be formed in the films deposited on the grounded substrate. This result suggests that the substrate position is an important factor to form the graphene nanoribbon-like structure.

DOI： 10.1557/s43580-022-00310-6
Effects of substrate surface polarity on heteroepitaxial growth of pseudobinary ZnO–InN alloy films on ZnO substrates 招待査読

Ryota Narishige, Naoto Yamashita, Kunihiro Kamataki, Takamasa Okumura, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Hisato Yabuta, Naho Itagaki

Journal of Materials Research 38 ( 7 ) 1803 - 1812 2022年11月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43578-022-00827-4
Role of short-lived nitrogen species generated at low-pressure RF plasma on the germination and seedling growth 査読国際誌

K. Koga, P. Attri, T. Okumura, T. Anan, T. Nakao, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Plasma irradiation-introduced RONS amount into plant seeds and their response analysis 査読国際誌

T. Okumura, T. Anan, P. Attri, Y. Tsukada, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Ishibashi

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）
Process analysis of cracking aC: H/CNP/aC: H sandwich films under stress using nanoindentation 査読国際誌

S. Ono, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Sputter epitaxy of Mg-doped ZnO films on sapphire substrates using inverted Stranski-Krastanov mode 査読国際誌

M. Shiratani, D. Takahashi, N. Yamashita, N. Itagaki

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Effect of plasma irradiation on germination of lettuce seeds with fluctuating dormancy 査読国際誌

T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Pressure dependence on spatio-temporal distribution of excitation rates of Ar 2p1 and Ne 2p1 in Ar and Ar/Ne capacitively coupled plasmas 査読国際誌

M. Otaka, T. Arima, J. Lai, K. Ikeda, K. Kamataki, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Control of magnetic transition of ZnO: Co grown by RF-sputter using post-annealing 査読国際誌

A. M. Nurut, N. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani

ICIEE 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）

DOI： 10.1109/ICIEE55596.2022.10010108
Effects of amplitude modulation discharge on behavior of oxygen ions in Ar/O2 capacitively coupled plasma studied by particle-in-cell/Monte Carlo collision model 査読国際誌

I. Nagao, A. Yamamoto, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Measurements of strength and fluctuation of 2D electric fields in plasmas using a fine particle trapped with laser tweezers 査読国際誌

K. Kamataki, T. Sato, K. Tomita, P. Yimin, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Bull. Am. Phys. Soc. 2022年10月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（国際会議プロシーディングス）
Effects of amplitude modulated capacitively coupled discharge Ar plasma on kinetic energy and angular distribution function of ions impinging on electrodes:particle-in-cell/Monte Carlo collision model simulation 査読国際誌

K. Abe, K. Kamataki, A. Yamamoto, I. Nagao, M. Otaka, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K . Koga, M. Shiratani

Jpn. J. Appl. Phys. 61 ( 10 ) 2022年9月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.35848/1347-4065/ac7626
Effects of amplitude modulated discharge on growth of nanoparticles in TEOS/O2/Ar capacitively coupled plasma 査読国際誌

K. Kamataki, D. Nagamatsu, T. Yang, K. Abe, A. Yamamoto, I. Nagao, T. Arima, M. Otaka, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

AIP Adv 12 ( 8 ) 2022年8月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/5.0097691
Raman spectral analysis of the as-deposited aC: H films prepared by CH4+ Ar plasma CVD 査読国際誌

S. Ono, S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, J. S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

MRS Adv. 7 2022年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43580-022-00310-6
Spatio-temporal measurements Ar 2p1 excitation rates and optical emission spectroscopy by capacitively coupled Ar and Ne mixed gas plasma

Michihiro Otaka, Toshiaki Arima, Jiansyun Lai, Kizuki Ikeda, Kunihiro Kamataki, Naoto Yamashita, Takamasa Okumura, Naho Itagaki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani

MRS Advances 7 ( 31 ) 918 - 922 2022年7月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43580-022-00306-2
Detection of NO3− introduced in plasma-irradiated dry lettuce seeds using liquid chromatography-electrospray ionization quantum mass spectrometry (LC-ESI QMS) 査読国際誌

T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, Y. Tsukada, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Ishibashi, K. Kuchitsu, K. Koga

Sci. Rep. 12 2022年7月

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記述言語：英語掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1038/s41598-022-16641-1
Epitaxial growth of Zn1−xMgxO films on sapphire substrates via inverted Stranski-Krastanov mode using magnetron sputtering 査読

Daichi Takahashi, Naoto Yamashita, Daisuke Yamashita, Takamasa Okumura, Kunihiro Kamataki, Kazunori Koga, Masaharu Shiratani, Naho Itagaki

MRS Advances 2022年2月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1557/s43580-022-00234-1
Synthetic Rashba spin–orbit system using a silicon metal-oxide semiconductor

Soobeom Lee, Hayato Koike, Minori Goto, Shinji Miwa, Yoshishige Suzuki, Naoto Yamashita, Ryo Ohshima, Ei Shigematsu, Yuichiro Ando, Masashi Shiraishi

Nature Materials 20 ( 9 ) 1228 - 1232 2021年6月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1038/s41563-021-01026-y
Investigation of the thermal tolerance of silicon-based lateral spin valves

N. Yamashita, S. Lee, R. Ohshima, E. Shigematsu, H. Koike, Y. Suzuki, S. Miwa, M. Goto, Y. Ando, M. Shiraishi

Scientific Reports 11 ( 1 ) 10583 2021年5月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

<title>Abstract</title>Improvement in the thermal tolerance of Si-based spin devices is realized by employing thermally stable nonmagnetic (NM) electrodes. For Au/Ta/Al electrodes, intermixing between Al atoms and Au atoms occurs at approximately 300 °C, resulting in the formation of a Au/Si interface. The Au–Si liquid phase is formed and diffuses mainly along an in-plane direction between the Si and AlN capping layers, eventually breaking the MgO layer of the ferromagnetic (FM) metal/MgO electrodes, which is located 7 µm away from the NM electrodes. By changing the layer structure of the NM electrode from Au/Ta/Al to Au/Ta, the thermal tolerance is clearly enhanced. Clear spin transport signals are obtained even after annealing at 400 °C. To investigate the effects of Mg insertion in FM electrodes on thermal tolerance, we also compare the thermal tolerance among Fe/Co/MgO, Fe/Co/Mg/MgO and Fe/Co/MgO/Mg contacts. Although a highly efficient spin injection has been reported by insertion of a thin Mg layer below or above the MgO layer, these thermal tolerances decrease obviously.

DOI： 10.1038/s41598-021-90114-9
Enhancement of spin signals by thermal annealing in silicon-based lateral spin valves

N. Yamashita, S. Lee, R. Ohshima, E. Shigematsu, H. Koike, Y. Suzuki, S. Miwa, M. Goto, Y. Ando, M. Shiraishi

AIP Advances 10 ( 9 ) 095021 - 095021 2020年9月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/5.0022160
Investigation of spin scattering mechanism in silicon channels of Fe/MgO/Si lateral spin valves 査読

Soobeom Lee, Naoto Yamashita, Yuichiro Ando, Shinji Miwa, Yoshishige Suzuki, Hayato Koike, Masashi Shiraishi

Applied Physics Letters 110 ( 19 ) 192401 - 192401 2017年5月

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記述言語：その他掲載種別：研究論文（学術雑誌）

DOI： 10.1063/1.4982966

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講演・口頭発表等

Semiconductor spintronics － device application and the design 招待

Naoto Yamashita

Group Seminar 2022年11月 Condensed Matter Physics Group, University of Leeds

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記述言語：英語会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等

開催地：University of Leeds 国名：グレートブリテン・北アイルランド連合王国(英国)
低電流制御可能な磁性ガーネットの大面積成膜招待

山下尚人

日本磁気学会第251回研究会機能性磁気デバイスのための磁性薄膜の成膜技術 2024年11月

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開催年月日： 2024年11月

会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等

researchmap
Non-off Axis Sputtering Deposition of Ferrimagnetic Insulator Film with Perpendicular Magnetic Anisotropy

山下尚人, A. Agustrisno, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治, C. Marrows

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
Microscopic analysis of single crystalline Zn1-xMgxO thin films on sapphire grown via inverted Stranski-Krastanov mode 国際会議

N. Yamashita, D. Takahashi, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Mechanism of homogeneous nucleation of ZnO in N2 and Ar plasma 国際会議

N. Yamashita, R. Mitsuishi, Y. Nakamura, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
サファイア基板上の単結晶ZnO薄膜作製におけるバッファー層評価指標

山下尚人, 中村優太, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
Increase of Blocking Temperature in Co-doped ZnO by Using NitrogenMediated Crystallization 国際会議

N. Yamashita, A. Agusutrisno, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

ICMFS-2022 2022年7月

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開催年月日： 2022年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：OIST 国名：日本国
Physics of Metal/Si interfaces for the Development of Spin MOSFETs Semiconductor Material Physics 招待

Naoto Yamashita

2024年5月 Chalmers University of Technology

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開催地：Chalmers University of Technology 国名：スウェーデン王国

SENTAN-Q研修の一環として実施

researchmap
Electrical characterization of Pt/Tm3Fe5O12 films grown by on-axis sputtering

Naoto Yamashita, Kohei Yamashita, Sora Obinata, Yuichiro Kurokawa, Naho Itagaki

International Conference on Magnetism 2024 2024年7月

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開催年月日： 2024年6月 - 2024年7月

会議種別：ポスター発表

researchmap
Large-Scale Fabrication of Tm3 Fe5 O12 Film with Perpendicular Magnetic Anisotropy Using Magnetron Sputtering 国際会議

A. M. Nurut, S. Obinata, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani, N. Yamashita

ISPlasma 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
CxHy+ArプラズマCVDを用いた水素化アモルファスカーボン膜の堆積特性に対するガス圧力の効果

小野晋次郎, 恵利眞人, 奥村賢直, 山下尚人, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
プラズマスパッタによる高移動度アモルファスITO成膜におけるハイブリッド機械学習モデル

鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 古閑一憲, 白谷正治

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
大気圧プラズマを用いた窒素固定における電極温度の効果

中尾匠, 奥村賢直, パンカジアタリ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治, 古閑一憲

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
プラズマ照射によるシロイヌナズナ種皮の物質透過性変化

奥村賢直, 古閑一憲, アタリパンカジ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治, 南原英司

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
イネ種皮のプラズマ起因化学種透過性の二次元分布解析

史合平, 奥村賢直, P. Attri, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
Stability of insulative perovskite YBiO3 film grown on BaBiO3 buffer layer

N. Yamashita, P. Shepley, N. Fox2, J. Burton, J. Freeman, S. Sasaki

第71回応用物理学会春季学術講演会 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京都市大学国名：日本国
Physics of Metal/Si Interfaces for the Development of Spin MOSFETs 招待

Naoto Yamashita

2024年3月 Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：公開講演，セミナー，チュートリアル，講習，講義等

開催地：Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology 国名：大韓民国
Molecular structure analysis of DBD plasma irradiated DMPO by LC-MS 国際会議

T. Okumura, H. Shi, P.Attri, D. Yamasita, K. Kamataki, N.Yamasita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratan

ISPlasma 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Sputtering deposition of low resistive 30-nm-thick ZnO:Al films on seed layers grown via solid phase crystallization of fractionally crystallized ZnON films 国際会議

Y. Wada, S. Zhiyuan, H. Yabuta, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

ISPlasma 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Nitrogen Fixation to Leaf Mold Using Air Plasma and Evaluation of Phenotype Response of Sugarcane to Nitrogen-Fixed Fertilizer 国際会議

T.Nakao, T. Okumura, P. Attri, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani, K. Koga

ISPlasma 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Deposition of carbon nanoparticles fabricated by multi-hollow discharge plasma CVD on DC biased substrates 国際会議

K. Koga, S. Ono, M. Eri, S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M.Shiratani

ISPlasma 2024年3月

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開催年月日： 2024年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
プラズマスパッタによる高品質アモルファスITO薄膜形成のためのハイブリッド機械学習モデル招待

鎌滝晋礼，板垣奈穂，山下大輔, 奥村賢直，山下尚人, 古閑一憲, 白谷正治

SPP-41 2024年1月

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開催年月日： 2024年1月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東京工業大学国名：日本国
Predictions for High Quality Amorphous ITO(In2O3:Sn) Film Formation via Hybrid Machine Learning Model 招待国際会議

K. Kamataki, N. Itagaki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

ICTS 2024年1月

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開催年月日： 2024年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：パラダイスホテル釜山国名：大韓民国
Enhancement of The Coercivity and Blocking Temperature of Co doped ZnO films by RF sputtering Using Nitrogen 国際会議

M. N. Agusutrisno, K. Kamataki, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, N. Yamashita

MRM2023/IUMRS-ICA2023 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：国立京都国際会館国名：日本国
Effects of Carbon Nanoparticle Interposed between Two Hydrogenated Amorphous Carbon Films on Surface Morphology of a-C:H Film

S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

第39回九州･山口プラズマ研究会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：国立京都国際会館国名：日本国
Fabrication of ZnO Based Transparent Conducting Oxide as an Alternative to In2O3:Sn by Sputtering Combined with Solid Phase Crystallization 国際会議

N. Itagaki, Z. Shen, Y. Wada, H. Yabuta, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

MRM2023/IUMRS-ICA2023 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：国立京都国際会館国名：日本国
Hybrid machine learning model prediction for high mobility amorphous ITO films fabricated by RF plasma sputtering 国際会議

K. Kamataki, N. Itagaki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

MRM2023/IUMRS-ICA2023 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：国立京都国際会館国名：日本国
Evaluation of Elastic Parameters of a-C:H Film with Carbon Nanoparticles Using Nanoindentation Method 国際会議

K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

MRM2023/IUMRS-ICA2023 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：国立京都国際会館国名：日本国
PECVD を用いた a-C:H 成膜における添加希ガス種における成膜機構の違い

池田築, 大高真寛，大友洋，脇田大地，頼建勲，鎌滝晋礼, 山下大輔，奥村賢直，山下尚人，板垣奈穂，古閑一憲, 白谷正治, 進藤崇央，松土龍夫

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第27回支部大会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：山口KDDI維新ホール国名：日本国
クメンを用いた二周波容量結合プラズマ CVD 法による a-C:H 膜の製膜特性

恵利眞人, 小野晋次郎, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第27回支部大会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：山口KDDI維新ホール国名：日本国
TEOS-PECVD における発光分光計測を用いたSiO2 薄膜膜質推定についての研究

佐藤優志, 山本祐馬, F. W. Sukuma, 長尾伊織, 鎌滝晋礼, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第27回支部大会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：山口KDDI維新ホール国名：日本国
放電電圧変調波形が高周波容量結合プラズマに与える影響：PIC-MCC シミュレーション

長尾伊織，山本祐馬，佐藤優志，鎌滝晋礼，山下尚人, 奥村賢直，木山治樹，板垣奈穂，古閑一憲，白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第27回支部大会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：山口KDDI維新ホール国名：日本国
逆 Stranski-Krastanov モードを利用した異なるオフ角を有するサファイア基板上への(ZnO)x(InN)1-x 膜の成長

中野祐太郎，成重椋太，山下尚人，鎌滝晋礼，奥村賢直，古閑一憲，白谷正治，木山治樹，板垣奈穂

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第27回支部大会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：山口KDDI維新ホール国名：日本国
逆 Stranski-Krastanov モードによるサファイア基板上への(ZnO)x(InN)1-x 膜のエピタキシャル成長:バッファー層のモフォロジーの影響

畑昌太朗，中野祐太郎，成重椋太，山下尚人，鎌滝晋礼，奥村賢直，古閑一憲，白谷正治，木山治樹，板垣奈穂

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第27回支部大会 2023年12月

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開催年月日： 2023年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：山口KDDI維新ホール国名：日本国
空気プラズマを用いた窒素固定に対する放電電力密度の効果

中尾匠, 奥村賢直, パンカジアタリ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治, 古閑一憲

第40回プラズマ・核融合学会年会 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アイーナ・いわて県民情報交流センター国名：日本国
Sputtering deposition of single crystalline ZnO films on sapphire substrates via inverted Stranski-Krastanov mode: effects of thickness of 3D island buffer layer

H. Otsuyama, R. Mitsuishi, T. Yunoue, K. Yataka, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

2023年(令和5年度)応用物理学会九州支部学術講演会 / The 8th Asian Applied Physics Conference 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学伊都キャンパス国名：日本国
任意電圧波形放電による容量結合プラズマにおける重畳周波数の効果：PIC-MCCモデル

頼建勳, 鎌滝晋礼, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

2023年(令和5年度)応用物理学会九州支部学術講演会 / The 8th Asian Applied Physics Conference 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学伊都キャンパス国名：日本国
TEOS-PECVD によるSiO2成膜におけるプラズマ発光強度と膜質の関係

山本祐馬, 佐藤優志, 長尾伊織, 鎌滝晋礼, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

2023年(令和5年度)応用物理学会九州支部学術講演会 / The 8th Asian Applied Physics Conference 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学伊都キャンパス国名：日本国
Quantitative Analysis of Electric Field Intensity Generated by Scalable Dielectric Barrier Discharge Electrodes for Irradiating to Plant Seeds 国際会議

K. Koga, T. Okumura, T. Nakao, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, P. Attri, M. Shiratani

DPS2023 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ウインク愛知国名：日本国
Comparative study of deposition characteristics of different precursors for plasma CVD 国際会議

S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kunihiro, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

DPS2023 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ウインク愛知国名：日本国
大量処理のためのプラズマ照射による土壌への窒素固定化の最適化

中尾匠,奥村賢,アタリパンカジ,山下大輔,鎌滝晋礼,山下尚人,板垣奈穂,白谷正治,古閑一憲

第33回日本MRS年次大会 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
質量分析を用いたプラズマ照射イネ種子における分子修飾解析

史合平,奥村賢直,パンカジアトリ,山下大輔,鎌滝晋礼,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治

第33回日本MRS年次大会 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
スケーラブル誘電体バリア放電プラズマを照射したDMPOの質量分析

乙部響,史合平,奥村賢直,阿南輝樹,アタリパンカジ,山下大輔,鎌滝晋礼,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治

第33回日本MRS年次大会 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
液体クロマトグラフィー質量分析法を用いたプラズマ被照射物からの亜硝酸塩および硝酸塩の同時検出法の開発

日高直哉,奥村賢直,アタリパンカジ,鎌滝晋礼,山下尚人,板垣奈穂,古閑一憲,白谷正治

第33回日本MRS年次大会 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Predictions for High Mobility Amorphous ITO(In2O3:Sn) Films via Hybrid Machine Learning Model 国際会議

K. Kamataki, N. Itagaki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Koga, M. Shiratani

AAPPS-DPP2023 2023年11月

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開催年月日： 2023年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ポートメッセ名古屋国名：日本国
Controlling the synthesis, transport, and surface coverage of carbon nanoparticles using plasma CVD 国際会議

S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, H. Kiyama, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

Global Plasma Forum in Aomori 2023年10月

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開催年月日： 2023年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ねぶたの家ワ・ラッセ国名：日本国
Highly sensitive electric field vector measurements using an optically trapped fine particle 国際会議

M. Shiratani, T. Sato, K. Kamataki, S. W. Fitriani，K. Tomita, P. Yiming, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga

Global Plasma Forum in Aomori 2023年10月

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開催年月日： 2023年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ねぶたの家ワ・ラッセ国名：大韓民国
Evaluation of carbon nanoparticle adhesion on substrate surface deposited by plasma CVD 国際会議

K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

Global Plasma Forum in Aomori 2023年10月

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開催年月日： 2023年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ねぶたの家ワ・ラッセ国名：日本国
Evaluation of Interaction Between Substrate and Nanoparticles Deposited by Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

K. Koga, S. Ono, M. Eri, T. Okumura, K. Kamataki, N.Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

GEC 2023年10月

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開催年月日： 2023年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Michigan League
ZnON膜からの固相結晶化ZnO膜の形成と透明導電膜シード層としての効果：ZnON膜の結晶化度の影響

和田義晴, 沈志遠, 薮田久人, 山下尚人, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
Fabrication process of patterned perpendicular magnetized multilayered film on plastic sheet for flexible magnetic memory

Y. Kurokawa, N. Yamashita, S. Oishi, H. Yuasa

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
光ピンセットによる捕捉微粒子を用いたArプラズマ中の電場強度分布及び電場揺動計測(4)

鎌滝晋礼, 佐藤斗真, 井口恒聖, 富田健太郎, P. Yiming, 山下大輔, 山下尚人, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
サンドウィッチ構造 a-C:H 膜の剥離と強度に対する膜界面に堆積したナノ粒子の効果

小野晋次郎, 恵利眞人, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 木山治樹, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
質量分析を用いたプラズマ照射DMPOの分子修飾解析

史合平, 奥村賢直, P. Attri, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
プラズマ照射による窒素固定肥料へのサトウキビの表現型応答解析

中尾匠, 奥村賢直, パンカジアタリ, 古閑一憲, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
逆Stranski-Krastanovモードによる格子不整合基板上への原子平坦 (ZnO)x(InN)1-x 膜の成長

中野祐太郎, 成重椋太, 山下尚人, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 古閑一憲, 白谷正治, 木山治樹, 薮田久人, 板垣奈穂

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
ZnOおよびScAlMgO4ステップ基板上への(ZnO)x(InN)1-x膜の室温エピタキシャル成長

成重椋太, 中野祐太朗, 山下尚人, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 木山治樹, 古閑一憲, 白谷正治, 薮田久人, 板垣奈穂

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
サファイア基板上への原子ステップを有するZn1-xMgxO薄膜の形成：3次元島バッファー層の形成温度の影響

矢高功太郎, 湯上貴文, 山下尚人, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
逆Stranski-Krastanovモードを用いたサファイア基板上へのZnO単結晶膜成長：MgOバッファー層の効果

湯上貴文, 矢高功太郎, 山下尚人, 山下大輔,　奥村賢直, 鎌滝晋礼, 木山治樹, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第84回応用物理学会秋季学術講演会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：熊本城ホール他国名：日本国
大気圧空気プラズマによる硝酸態窒素固定量に対する放電電力密度依存性

中尾匠, 奥村賢直, A. Pankaj, 古閑一憲, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治

2023年度(第76回)電気・情報関係学会九州支部連合大会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：崇城大学国名：日本国
質量分析を用いたプラズマ照射イネ種子における変動分子の組織別解析

史合平, 奥村賢直, A. Pankaj, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

2023年度(第76回)電気・情報関係学会九州支部連合大会 2023年9月

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開催年月日： 2023年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：崇城大学国名：日本国
Physics of Metal/Si Interfaces for the Development of Spin MOSFETs 招待

Naoto Yamashita

Spin+X Scientific Talk 2023年8月 Spin Phenomena Interdisciplinary Center

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開催年月日： 2023年8月

記述言語：英語

開催地：Johannes Gutenberg Universität Mainz 国名：ドイツ連邦共和国
Investigation of particle charge and interparticle interaction in a plasma 国際会議

K. Kamataki, T. Sato, K. Tomita, P. Yiming, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Control of ion trajectory in high aspect ratio trenches by using amplitude modulated rf discharges 国際会議

I. Nagao, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, H. Kiyama, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Effects of lower discharge frequency on ion energy distribution function in dual frequency plasma studied by particle-in-cell/Monte Carlo method 国際会議

J. Lai, T. Arima, M. Otaka, K. Ikeda, I. Nagao, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Optical tweezers technique for electric field strength and fluctuation measurements in plasma using a fine particle 国際会議

T. Sato, K. Kamataki, K. Tomita, P. Yiming, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Sputter deposition of low resistive 30-nm-thick ZnO:Al films using ZnO seed layers grown via solid-phase crystallization 国際会議

Y. Wada, Z. Shen, H. Yabuta, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Pseudomorphic growth of (ZnO)x(InN)1-x films on ZnO substrates by magnetron sputtering using Ar/N2/O2 discharges 国際会議

R. Narishige, Y. Nakano, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, H. Yabuta, N. Itagaki

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Sputter epitaxy of Zn1-xMgxO films on lattice-mismatched sapphire substrates utilizing ZnO(N)/MgO buffer layers fabricated by Ar/N2 and Ar/O2 discharges 国際会議

T. Yunoue, K. Yataka, N. Yamashita, D. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, H. Kiyama, K. Koga, M. Shiratani, H. Yabuta, N. Itagaki

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Effects of Ne mixing on plasma enhanced chemical vapor deposition of a-C:H films using CH4/Ar/Ne capacitively coupled discharges 国際会議

K. Ikeda, M. Otaka, H. Otomo, T. Arima, J. Lai, K. Kamataki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, H. Kiyama, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Shindo, S. Tanaka, T. Matsudo

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Relation between Spatial Distribution of Optical Emission Intensity and SiO2 Film Property in TEOS-PECVD 国際会議

Y. Yamamoto, I. Nagao, A. Yamamoto, K. Kamataki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Effects of tailored voltage waveform discharges on deposition of hydrogenated amorphous carbon films by CH4/Ar capacitively coupled plasma 国際会議

M. Otaka, H. Otomo, K. Ikeda, J. Lai, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, T. Shindo, S. Tanaka, T. Matsudo

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Deposition characteristics of cumene plasma CVD for high-speed deposition of high-density a-C:H films 国際会議

S. Ono, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Coverage control of carbon nanoparticles on substrate using capacitively coupled plasma chemical vapor deposition 国際会議

K. Koga, S. Ono, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Sputter epitaxy of atomically flat (ZnO)x(InN)1-x films on sapphire substrates using ZnO(N) buffer layers fabricated by Ar/N2 discharges 国際会議

Y. Nakano, R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, H. Kiyama, H. Yabuta, N. Itagaki

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
Measurement of electric field, UV photons, and long-lifetime reactive species generated by atmospheric pressure air plasma for plasma bio applications 国際会議

T. Okumura, S. Tsuboyama, Y. Tagawa, T. Nakao, T. Anan, H. Tanaka, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, P. Attri, K. Koga, M. Shiratani, K. Kuchitsu

ICPIG2023 2023年7月

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開催年月日： 2023年7月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Hotel Zuiderduin, Egmonf aan Zee 国名：オランダ王国
プラズマ中帯電微粒子の相互作用に関する研究

井口恒聖, 佐藤斗真, 鎌滝晋礼, 富田健太郎, P. Yiming, 山下尚人, 山下大輔, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

2023年度日本表面真空学会　九州支部学術講演会 2023年6月

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開催年月日： 2023年6月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アルカス佐世保国名：日本国
ナノ粒子を用いた膜界面の形状ゆらぎによる膜応力低減

小野晋次郎, 恵利眞人, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 木山治樹, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

2023年度日本表面真空学会　九州支部学術講演会 2023年6月

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開催年月日： 2023年6月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：アルカス佐世保国名：日本国
Prediction of Plasma CVD Process Data of a-Si:H Films via Machine Learning 国際会議

K. Kamataki, F. L. Chawarambwa, D. Yamashita, N. Yamashita, T.Okumura, N. Itagaki, K.Koga, M. Shiratani

ISPC25 2023年5月

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開催年月日： 2023年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：みやこめっせ国名：日本国
光ピンセットによる捕捉微粒子を用いたArプラズマ中の電場強度分布及び電場揺動計測(3)

鎌滝晋礼, 佐藤斗真, 富田健太郎, P. Yiming, 山下大輔, 山下尚人, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
プラズマ照射によるレタス種子表面および内部の分子変動

阿南輝樹, 奥村賢直, アトリパンカジ, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
Non-off Axis Sputtering Deposition of Ferrimagnetic Insulator Film with Perpendicular Magnetic Anisotropy

山下尚人, A. Agustrisno, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治, C. Marrows

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
プラズマCVD法で堆積した2層a-C:Hの機械的強度に対するカーボンナノ粒子挿入の効果

田渕竜也, 小野晋次郎, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
光ピンセットによる捕捉微粒子を用いたArプラズマ中の電場強度分布及び電場揺動計測(3)

鎌滝晋礼, 佐藤斗真, 富田健太郎, P. Yiming, 山下大輔, 山下尚人, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
プラズマ照射によるレタス種子表面および内部の分子変動

阿南輝樹, 奥村賢直, アトリパンカジ, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
プラズマCVD法で堆積した2層a-C:Hの機械的強度に対するカーボンナノ粒子挿入の効果

田渕竜也, 小野晋次郎, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第70回応用物理学会春季学術講演会 2023年3月

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開催年月日： 2023年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：上智大学国名：日本国
Structural Characteristics of Carbon Sphere Composite Deposited by Ar+CH4 Plasma Chemical Vapor Deposition Method 国際会議

K. Koga, S. H. Hwang, S. Ono, D. Yoshikawa, T. 0kumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M.Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Developing Prediction of Key Process Parameters and Sputtering Conditions for Amorphous and high Mobility ITO/In2O3 Films via Machine Learning 国際会議

K. Kamataki, Y. Mido, I. Nagao, D. Yamashita, T. Okumura, N.Yamashita, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
A Study of Solid-phase Crystallization of Amorphous ZnON Films 国際会議

Z. Shen, Y. Mido, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani1, H. Yabuta, N. Itagaki

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Effects of lower discharge frequency on plasma parameters in capacitively coupled plasmas studied by particle-in-cell/Monte Carlo collision method 国際会議

T. Arima, M. Otaka, I. Nagao, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Effects of RF powers on the crystal quality and surface morphology of single crystalline ZnO films deposited by magnetron sputtering 国際会議

R. Mitsuishi, N. Yamashita, D. Takahashi, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Effects of thermal treatment of ZnO substrates on epitaxial growth of (ZnO)x(InN)1-x films fabricated by magnetron sputtering 国際会議

R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Effects of Gas Pressure on Deposition Characteristics of Hydrogenated Amorphous Carbon Films Produced by Ar + CH4 Capacitively Coupled Plasma 国際会議

S. Ono, S. H. Hwang, D. Yoshikawa, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Masaharu

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Effects of Amplitude Modulation Discharge on Ion Energy and Angular Distributions studied by PIC-MCC method 国際会議

I. Nagao, A. Yamamoto, K. Kamataki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Fluctuation of plasma and amount of nanoparticles in TEOS amplitude modulated rf discharge 国際会議

A. Yamamoto, I. Nagao, K. Kamataki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Time resolved optical emission spectroscopy in Ar and Ar/Ne capacitively coupled radio frequency plasma. 国際会議

M. Otaka, D. Nagamatsu, T. Arima, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Sputtering deposition of single crystalline Zn1-xMgxO films on sapphire substrate via inverted Staranski-Krastanov mode: effects of substrate 国際会議

K.Yataka, N. Yamashita, D. Takahashi, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Measurement of fluctuation of electric field in Ar plasmas using a fine particle trapped with laser tweezers 国際会議

T. Sato, S. Okunaga, K. Kamataki, K. Tomita, P. Yiming, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

7th International Conference on Advances in Functional Materials(AFM-2022) 2023年1月

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開催年月日： 2023年1月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
プラズマ照射を用いて窒素リッチ化した肥料で栽培したサトウキビの生育評価

中尾匠，小野晋二郎，山本小龍，内野泰祐，奥村賢直，P. Attri，古閑一憲, 山下大輔，鎌滝晋礼，山下尚人，板垣奈穂，白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第26回支部大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学筑紫キャンパス国名：日本国
サファイア基板上への Zn1-xMgxO 膜のスパッタエピタキシー：ZnON/MgO バッファー層の効果

湯上貴文, 矢高功太郎, 三石遼, 山下尚人, 山下大輔, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 木山治樹, 古閑一憲，白谷正治, 薮田久人, 板垣奈穂

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第26回支部大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学筑紫キャンパス国名：日本国
固相結晶成長した ZnO シード層上への ZnO:Al 膜のスパッタリング成膜

和田義晴, 沈志遠, 薮田久人, 山下尚人, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 木山治樹, 古閑一憲，白谷正治, 板垣奈穂

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第26回支部大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学筑紫キャンパス国名：日本国
ナノインデンテーションを用いた a-C:H/CNP/a-C:H サンドイッチ構造膜の機械的強度評価

田渕竜也, 小野晋次郎, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲，白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第26回支部大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学筑紫キャンパス国名：日本国
Ar/Ne/CH4 プラズマ CVD による a-C:H 成膜への Ne 混合効果

池田築，大高真寛，大友洋，有馬聡明，頼建勲，鎌滝晋礼, 山下大輔，奥村賢直，山下尚人，板垣奈穂，古閑一憲，白谷正治, 進藤崇央，田中諭志，松土龍夫

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第26回支部大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学筑紫キャンパス国名：日本国
水への CO₂プラズマ照射による選択的 CO 生成

内野泰佑, アタリパンカジ, 奥村賢直, 古閑一憲，山下大輔, 鎌滝普礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第26回支部大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学筑紫キャンパス国名：日本国
Electric fields measurement using an optically trapped charged particle in Ar plasma (Invited) 招待国際会議

K. Kamataki, T. Sato, k. Tomita, P. Yimin, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Discharge frequency dependence on spatio-temporal distribution of excitation rates of Ar 2p1 and Ne 2p1 in Ar and Ar/Ne capacitively coupled plasmas 国際会議

K. Ikeda, M. Otaka, T. Arima, J. Lai, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Measurement of the charge on single fine particles in plasma 国際会議

K. Kamataki, T. Sato, K. Tomita, Y. Pan, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Investigation of dual frequency method in capacitively coupled plasmas using particle-in-cell/Monte Carlo method 国際会議

J. Lai, T. Arima, M. Otaka, I. Nagao, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, N. Itagaki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Effects of Amplitude Modulated Discharge on SiO2 film qualities in TEOS Plasma CVD 国際会議

Y. Yamamoto, A. Yamamoto, I. Nagao, M. Otaka, D. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Formation of Graphene Nanoribbon-like Structure in Carbon Nanoparticles Fabricated by Ar+CH4 Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

S. Ono, S. H. Hwang, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, J. S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Influence of Seed Dormancy on Plasma Irradiation Effects on their Germination 国際会議

K. Koga, T. Okumura, P. Attri, T. Anan, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani, Y. Ishibashi, S. Tsuboyama, K. Kuchitsu, K. Ishikawa, M. Hori

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Study on biomolecules extracted from plasma-irradiated plant seeds using quadrupole mass spectrometer 国際会議

T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Plasma Irradiation-induced Molecular Modification of Quercetin as Plant Antioxidant 国際会議

T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, D. Yamashita, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Ishibashi

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
Improvement of Germination Characteristics of Sorghum bicolor Seeds Irradiated by Surface Discharge Plasma 国際会議

S. Yamamoto, T. Nakao, T. Anan, T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Yanagawa, S. Shimada

第32回日本MRS年次大会 2022年12月

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開催年月日： 2022年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：横浜市産業貿易センタービル国名：日本国
二周波重畳容量結合並行平板放電の PIC-MCC シミュレーション:駆動周波数の効果

有馬聡明, 頼建勲, 大高真寛, 池田築, 長尾伊織, 鎌滝晋礼, 山下大輔, 山下尚人, 板垣奈穂, 奥村賢直, 古閑一憲, 白谷正治

2022年(令和４年度)応用物理学会九州支部学術講演会 / The 7th Asian Applied Physics Conference 2022年11月

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開催年月日： 2022年11月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：大分大学国名：日本国
Sputter epitaxy of (ZnO)x(InN)1-x films on sapphire substrates using ZnON buffer layers

Y. Nakano, R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, H. Kiyama, H. Yabuta, N. Itagaki

2022年(令和４年度)応用物理学会九州支部学術講演会 / The 7th Asian Applied Physics Conference 2022年11月

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開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：大分大学国名：日本国
Sputtering deposition of ZnO:Al Transparent Conducting Films on Seed Layers Crystallized via Thermal Annealing of Amorphous ZnON Films

Z. Shen, H. Yabuta, Y. Wada, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, H. Kiyama, N. Itagaki

2022年(令和４年度)応用物理学会九州支部学術講演会 / The 7th Asian Applied Physics Conference 2022年11月

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開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：大分大学国名：日本国
One-dimensional particle-in-cell / Monte Carlo collision model simulation of the effects of amplitude modulation discharge on ion/electron energy distribution functions 国際会議

I. Nagao, A. Yamamoto, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

DPS2022 2022年11月

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開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：大阪国際会議場国名：日本国
Effects of plasma activ ated lact ate solution administration to seeds of Arabidopsis thaliana on germination characteristics 国際会議

T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Ishibashi, S. Tsuboyama, K. Hashimoto, K. Kuchitsu, H. Hashizume, K. Ishikawa, M. Hori

DPS2022 2022年11月

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開催年月日： 2022年11月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：大阪国際会議場国名：日本国
Study of electric field measurements in Ar plasmas using an optically trapped fine particle 国際会議

T.Sato, K. Kamataki, K. Tomita, P. Yiming, D. Yamashita, N.Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

AAPPS-DPP 2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
The role of post-annealing treatment on ZnO:Co structure and magnetic transition grown by sputtering deposition 国際会議

A. M. Nurut, N. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani

ICIEE 2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：Indonesia,Yogyakarta・オンライン国名：インドネシア共和国
Role of short-lived nitrogen species generated at low-pressure RF plasma on the germination and seedling growth 国際会議

K. Koga, P. Attri, T. Okumura, T. Anan, T. Nakao, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Plasma irradiation-introduced RONS amount into plant seeds and their response analysis 国際会議

T. Okumura, T. Anan, P. Attri, Y. Tsukada, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, Y. Ishibashi

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Process analysis of cracking aC: H/CNP/aC: H sandwich films under stress using nanoindentation 国際会議

S. Ono, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Sputter epitaxy of Mg-doped ZnO films on sapphire substrates using inverted Stranski-Krastanov mode 国際会議

M. Shiratani, D. Takahashi, N. Yamashita, N. Itagaki

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Effect of plasma irradiation on germination of lettuce seeds with fluctuating dormancy 国際会議

T. Anan, T. Nakao, T. Okumura, P. Attri, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Pressure dependence on spatio-temporal distribution of excitation rates of Ar 2p1 and Ne 2p1 in Ar and Ar/Ne capacitively coupled plasmas 国際会議

M. Otaka, T. Arima, J. Lai, K. Ikeda, K. Kamataki, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Effects of amplitude modulation discharge on behavior of oxygen ions in Ar/O2 capacitively coupled plasma studied by particle-in-cell/Monte Carlo collision model 国際会議

I. Nagao, A. Yamamoto, Y. Yamamoto, K. Kamataki, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
Measurements of strength and fluctuation of 2D electric fields in plasmas using a fine particle trapped with laser tweezers(Invited) 招待国際会議

K. Kamataki, T. Sato, K. Tomita, P. Yimin, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

ICRP-11/GCE2022 2022年10月

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開催年月日： 2022年10月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：仙台国際センター国名：日本国
振幅変調放電法を用いたTEOSプラズマCVDへの効果

山本晃大, 長尾伊織, 山本祐馬, 大高真寛, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
Role of plasma treatment on radish seeds affects germination, morphology, and biochemical responses

P. Attri, T. Okumura, K. Koga, K. Kamataki, N. Yamashita, Y. Tsukada, N. Itagaki, M. Shiratani

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
固相結晶化シード層上へのZnO:Al透明導電膜のスパッタリング成膜：固相結晶化温度の影響

沈志遠, 薮田久人, 山下尚人, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
スパッタエピタキシー法による(ZnO)x(InN)1-x単結晶薄膜の室温成膜

成重椋太, 山下尚人, 鎌滝晋礼, 奥村賢直, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
格子不整合サファイア基板上への単結晶ZnO膜のスパッタリング成膜: ZnONバッファー層の効果

三石遼, 矢高功太郎, 山下尚人, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
異なるMg組成を有する単結晶Zn1-xMgxO膜成長におけるZnONバッファー層の効果

矢高功太郎, 高橋大智, 山下尚人, 山下大輔, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
大気圧空気プラズマを用いた肥料への窒素固定と圃場試験

中尾匠, 奥村賢直, パンカジアトリ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
休眠状態を考慮したレタス種子発芽へのプラズマ照射効果

奥村賢直, 阿南輝樹, アタリパンカジ, 山下大輔, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治, 石橋勇志

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
光ピンセットによる捕捉微粒子を用いたArプラズマ中の電場強度分布及び電場揺動計測(2)

鎌滝晋礼, 佐藤斗真, 富田健太郎, P. Yiming, 山下大輔, 山下尚人, 奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第83回応用物理学会秋季学術講演会 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：東北大学国名：日本国
Impact of amplitude modulated discharge on suppression of nanoparticle growth in TEOS/O2/Ar capacitively coupled plasma 国際会議

K. Kamataki, A. Yamamoto, I. Nagao, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

IVC-22 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：札幌コンベンションセンター国名：日本国
Effects of surface polarity of ZnO substrates on epitaxial growth of (ZnO)x(InN)1-x films fabricated at room temperature 国際会議

R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Eff ects of Modifi cation of Film Interface by Nanoparticles on Mechanical Properties of Films 国際会議

S. Ono, S. H. Hwang, T. Okumura, K. Koga, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Eff ects of Amplitude Modulated RF Discharge on Properties of SiO2 Films Deposited by TEOS/O2/Ar Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議

K. Kamataki, A. Yamamoto, I. Nagao, Y. Yamamoto, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Fabrication of Low-Resistive Amorphous In2O3 :Sn Films at 600°C by Magnetron Sputtering Using Nitrogen 国際会議

N. Itagaki, Y. Mido, Z. Shen, N. Yamashita, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Control of Crystal Structure and Magnetic Properties of ZnO: Co Films Grown by Magnetron Sputtering Using Nitrogen 国際会議

A. M. Nurut, R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

9th International Symposium on Control of Semiconductor Interfaces 2022年9月

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開催年月日： 2022年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：名古屋大学国名：日本国
Heteroepitaxial growth of single crystalline ZnO film by magnetron sputtering via inverted Stranski-Krastanov mode and key factors of the buffer layer 招待

Naoto Yamashita, Naho Itagaki

APPC15 2022年8月

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開催年月日： 2022年8月

会議種別：口頭発表（招待・特別）

researchmap
Thermoplastic Polymer Electrolytes for DSSCs Performance Under V-Shape Low-Concentrated Light 国際会議

T. E. Putri, F. L. Chawarambwa, A. Pankaj, K. Kamataki, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Magnetic properties of Co-doped ZnO films fabricated by sputtering using mediated crystallization. 国際会議

A. M. Nurut, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, N. Itagaki, M. Shiratani

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Ion energy and angular distribution functions in amplitude modulated capacitively coupled Ar discharge plasma obtained using particle-in-cell Monte Carlo collision model simulation 国際会議

I. Nagao, A. Yamamoto, K. Kamataki, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Time resolved optical emission spectroscopy in Ar/Ne capacitively coupled radio frequency plasma 国際会議

M. Otaka, D. Nagamatsu1, T. Arima, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
Spatio-temporal structures of plasma density in lower driving rf frequency plasmas studied by particle-in-cell/Monte Carlo collision method 国際会議

T. Arima, M.Otaka, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

IUMRS-ICYRAM 2022 2022年8月

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開催年月日： 2022年8月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：九州大学医学部百年講堂国名：日本国
TEOSプラズマSiO2成膜に及ぼす振幅変調放電の効果

山本晃大、長尾伊織、山本祐馬、大高真寛、山下大輔、鎌滝晋礼、奥村賢直、山下尚人、板垣奈穂、古閑一憲、白谷正治

2022年度日本表面真空学会　九州支部学術講演会 2022年6月

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開催年月日： 2022年6月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：佐賀大学国名：日本国
大気圧空気プラズマで生成した硝酸態窒素の水表面への輸送評価

中尾匠、奥村賢直、P. Attri、古閑一憲、山下大輔、鎌滝晋礼、山下尚人、板垣奈穂、白谷正治

2022年度日本表面真空学会　九州支部学術講演会 2022年6月

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開催年月日： 2022年6月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：佐賀大学国名：日本国
逆Stranski-Krastanovモードによる単結晶ZnO薄膜のスパッタリング成膜:窒素流量の影響

三石遼, 山下尚人, 矢高功太郎, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

2022年度日本表面真空学会　九州支部学術講演会 2022年6月

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開催年月日： 2022年6月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：佐賀大学国名：日本国
Key parameters for single crystalline ZnO film growth by magnetron sputtering via inverted Stranski-Krastanov mode 国際会議

N. Yamashita, Y. Nakamura, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン
Development of Measurement of Two-Dimensional Distribution of Strength of Electrical Field with High Spatial Resolution Using Optical Trapped Particle in Plasma 国際会議

K. Kamataki, S. Okunaga,T. Sato,K. Tomita, P. Yimin, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン
Epitaxial Growth of Atomically Flat Single-crystalline (ZnO) (InN) Films on O-polar ZnO Substrates by Magnetron Sputtering 国際会議

R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N.Itagaki

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン
Structural Control of Hydrogenated Amorphous Carbon Films by Substrate Position and Gas Pressure in Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

S. Ono, S. H. Hwang, D. Yoshikawa, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani, J. S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
Epitaxial Growth of Single-Crystalline ZnO Films on Sapphire Substrates via Inverted Stranski-Krastanov Mode by Low-Power Magnetron Sputtering 国際会議

R. Mitsuishi, N. Yamashita, D.Takahashi, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
Stress Relaxation of Hydrogenated Amorphous Carbon Films by Incorporating Carbon Nanoparticles Using Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

K. Koga, S. H. Hwang, S. Ono, D. Yoshikawa, T. Okumura, N. Yamashita, K. Kamataki, N. Itagaki, M. Shiratani, J-S. Oh, S. Takabayashi, T. Nakatani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
Time Resolved Optical Emission Spectroscopy in Ar and Ar/Ne Capacitively Coupled Radio Frequency Plasma 国際会議

M. Otaka, D. Nagamatsu, T. Arima, K. Kamataki, D. Yamashita, N. yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
Effects of rf Frequency on Plasma Density in Capacitively Coupled Plasmas at Low Pressure Studied by Particle-in-Cell/Monte Carlo Collision Method 国際会議

T. Arima , T. Yang, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
Quantitative Evaluation through LC-QqQ MS/MS for RONS Induced into Dry Seeds by Non-Thermal Plasma Irradiation 国際会議

T. Okumura , K. Koga , P. Attri , K. Kamataki , N. Yamashita , N. Itagaki, M. Shiratani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
Amplitude Modulation Frequency Dependence of Ion Energy Distribution in Capacitively Coupled Discharge Plasma Studied by Particle-in-Cell/Monte Carlo Collision Method 国際会議

I. Nagao, A. Yamamoto, K. Kamataki, D. Yamashita, N. Yamashita, T. Okumura, N. Itagaki, K. Koga, M. Shiratani

MRS spring meeting 2022 2022年5月

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開催年月日： 2022年5月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：ホノルル
プラズマ CVD 法を用いた a-C:H 薄膜製膜特性に対するガス圧力・基板位置の効果

小野晋次郎, 吉川大智, 黄成和, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治, 呉準席, 鷹林将, 中谷達行

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：青山学院大学・ｵﾝﾗｲﾝ国名：日本国
光ピンセットによる捕捉微粒子を用いたArプラズマ中の電場強度分布及び電場揺動計測

鎌滝晋礼, 奥永冴京, 佐藤斗真, 富田健太郎, P. Yiming, 山下大輔, 山下尚人,奥村賢直, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：青山学院大学・ｵﾝﾗｲﾝ国名：日本国
調湿レタス種子のラジカル量に与えるプラズマ照射の効果

奥村賢直，阿南輝樹，パンカジアタリ, 古閑一憲, 鎌滝晋礼，山下尚人, 板垣奈穂, 白谷正治, 石橋勇

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：青山学院大学・ｵﾝﾗｲﾝ国名：日本国
CNP 層を挿入した a-C:H 膜の応力低減に対する CNP 被覆率の効果

吉川大智, 小野晋次郎, 黄成和, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治, 鷹林将，呉準席, 中谷達行

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：青山学院大学・ｵﾝﾗｲﾝ国名：日本国
植物へのプラズマ照射効果解明に向けたゼニゴケ実験系の確立

古閑一憲, 坪山祥子，田川雄大, 中尾匠，田中颯，阿南輝樹，奥村賢直，P. Attri，鎌滝晋礼，山下尚人，板垣奈穂，白谷正治，朽津和幸

第69回応用物理学会春季学術講演会 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：青山学院大学・ｵﾝﾗｲﾝ国名：日本国
プラズマCVDを用いて堆積した薄膜のナノ構造化による機械的特性制御

古閑一憲，黄成和，小野晋次郎，吉川大智, 奥村賢直，鎌滝晋礼，山下尚人，板垣奈穂，白谷正治

日本物理学会第77回年次大会（2022年） 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
Deposition of Carbon Nanoparticles of 5 nm in Size on Positively Biased Substrates using Multi-Hollow Discharge Plasma CVD Method 国際会議

K. Koga, S. H. Hwang, S. Ono, D. Yoshikawa, T. Okumura, K. Kamataki, N. Yamashita, N. Itagaki, M. Shiratani

ISPlasma2022/IC-PLANTS2022 2022年3月

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開催年月日： 2022年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
プラズマ照射による酸化還元反応に対する種子内水分量の効果

阿南輝樹, 田中颯，奥村賢直, アタリパンカジ, 中尾匠, 鎌滝晋礼，山下尚人, 板垣奈穂，古閑ー憲, 白谷正治

SPP-39/SPSM34 2022年1月

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開催年月日： 2022年1月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
Ohmic contact on n-type Si using an Iron-based Alloy 国際会議

N. Yamashita, E. Shigematsu, S. Honda, R. Ohshima, M. Shiraishi, Y. Ando

2022 Joint MMM-Intermag Conference 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月 - 2022年3月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンデマンド
Solid-phase Crystallization of Sputter-deposited ZnON Films and Their Impacts as Seed Layers for ZnO:Al Transparent Conducting Oxides

Z. Shen, N. Yamashita, Y. Mido, T. Okumura, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, H. Yabuta, N. Itagaki

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第24回支部大会 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
PIC-MCCM を用いた平行平板容量結合プラズマに対する放電周波数依存性に関する研究

陶陽, 阿部滉平, 鎌滝晋礼, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第24回支部大会 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
平行平板容量結合高周波放電プラズマの AM 変調周波数依存性に関する PICMCC シミュレーション

長尾伊織, 阿部滉平, 山本晃大, 鎌滝晋礼, 山下大輔, 奥村賢直, 山下尚人, 板垣奈穂, 古閑一憲, 白谷正治

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第24回支部大会 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
逆 Stranski-Krastanov モードを利用した単結晶 ZnMgO 薄膜のスパッタリング成膜

矢髙功太郎, 山下尚人, 髙橋大智, 山下大輔, 奥村賢直, 鎌滝晋礼, 古閑一憲, 白谷正治, 板垣奈穂

プラズマ・核融合学会九州・沖縄・山口支部第24回支部大会 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：日本語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
Epitaxial Growth of Atomically Flat Single-crystalline (ZnO) (InN) Films on O-polar ZnO Substrates by Magnetron Sputtering 国際会議

R. Narishige, N. Yamashita, K. Kamataki, T. Okumura, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

MRS fall meeting 2021 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン
Sputtering deposition of single crystalline ZnO films on sapphire substrates via inverted Stranski-Krastanov mode: effects of RF power 国際会議

R. Mitsuishi, D. Takahashi, D. Yamashita, T. Okumura, N. Yamashita, K. Kamataki, K. Koga, M. Shiratani, N. Itagaki

The 6th Asian Applied Physics Conference (Asian-APC) 2021年12月

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開催年月日： 2021年12月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国
Large Modulation of the Fermi Energy in an Iron-Based Alloy

N. Yamashita, E. Shigematsu, S. Honda, R. Ohshima, M. Shiraishi, Y. Ando

第82回応用物理学会秋季学術講演会 2021年9月

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開催年月日： 2021年9月

記述言語：英語会議種別：口頭発表（一般）

開催地：オンライン国名：日本国

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所属学協会

日本磁気学会

2024年8月 - 現在
応用物理学会

共同研究・競争的資金等の研究課題

スパッタエピタキシーによる酸化物スピンオービトロニクスの開拓

2024年 - 2026年

日本板硝子材料工学助成会

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担当区分：研究代表者資金種別：受託研究
スピン流を用いた磁壁カイラリティの電気的検出, 強靭化ハードウェア

2023年10月 - 2026年3月

受託研究

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担当区分：研究代表者資金種別：その他産学連携による資金
Implementation and Characterization of Oxide Topological Insulator

2023年4月 - 2024年3月

共同研究

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担当区分：研究代表者資金種別：その他産学連携による資金
スピン流を用いた磁壁カイラリティの電気的検出

2023年 - 2026年

戦略的創造研究推進事業 (文部科学省)

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担当区分：研究代表者資金種別：受託研究
酸化物半導体および磁性体の薄膜作製の研究

2023年

数理・データサイエンスに関する教育・研究支援プログラム

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担当区分：研究代表者資金種別：学内資金・基金等
量子ビット応用に向けた酸化物半導体における暗励起子スピン流の研究

研究課題/領域番号：22K14292 2022年 - 2023年

日本学術振興会科学研究費助成事業若手研究

山下尚人

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担当区分：研究代表者資金種別：科研費

量子ビット応用が期待される暗励起子の生成と検出を研究する。暗励起子は固体中で電子と正孔が結びついた励起子のうち、光学遷移が禁制され消滅確率の低い長寿命な励起子である。電気的にも光学的にも直接検出不可能のため、発光デバイスおよび光電変換デバイスの研究ではほとんど触れられることのない日陰の存在だったが、その長寿命性から量子ビット応用が期待されている。研究代表者は、スピン角運動量を用いることにより暗励起子を検出可能である考えており、その基盤技術を研究する。

CiNii Research
シリコンスピントランジスタの高性能化に関する研究

研究課題/領域番号：20J22776 2020年4月 - 2023年3月

科学研究費助成事業特別研究員奨励費

山下尚人

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資金種別：科研費

半導体集積回路の発熱問題、消費電力問題を解決するスピントランジスタの実現に向け、エネルギー効率の良いスピン流生成方法を開発する。半導体シリコンを用いたスピントランジスタは室温動作実証されたが、エネルギー効率が低い点が課題となっている。半導体で生じるの熱を活用する等、新たな指針に基づいたのスピン流生成方法について調査し、低消費電力スピントランジスタの実現に向けて材料開発と作製方法の検討を行う。

CiNii Research

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担当授業科目

電気情報工学実験Ⅰ（A・B）

2023年4月 - 2023年9月前期
電気情報工学実験Ⅰ（EC・EE）

2023年4月 - 2023年9月前期
プログラミング演習(P)

2022年6月 - 2022年8月夏学期
電気情報工学実験Ⅰ（A,B）

2022年4月 - 2022年9月前期

FD参加状況

2023年3月役割：参加名称：【シス情FD】独・蘭・台湾での産学連携を垣間見る-Industy 4.0・量子コンピューティング・先端半導体-

主催組織：部局
2022年10月役割：講演名称：【シス情FD】若手教員による研究紹介⑥

主催組織：部局
2022年5月役割：参加名称：【シス情FD】若手教員による研究紹介④「量子コンピュータ・システム・アーキテクチャの研究～道具になることを目指して～」

主催組織：部局
2022年4月役割：参加名称：令和４年度第１回全学ＦＤ（新任教員の研修）The 1st All-University FD (training for new faculty members) in FY2022

主催組織：全学
2022年4月役割：参加名称：【シス情FD】第4期中期目標・中期計画等について

主催組織：部局
2021年9月役割：参加名称：博士後期課程の充足率向上に向けて

主催組織：部局

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海外渡航歴

2024年3月

滞在国名1：台湾滞在機関名1：National Chung Cheng University
2024年3月

滞在国名1：大韓民国滞在機関名1：Daegu Gyeongbuk Institute of Science and Technology
2023年8月 - 2023年9月

滞在国名1：グレートブリテン・北アイルランド連合王国(英国) 滞在機関名1：University of Leeds
2023年8月

滞在国名1：ドイツ連邦共和国滞在機関名1：Johannes Gutenberg-Universität Mainz
2022年10月 - 2023年1月

滞在国名1：グレートブリテン・北アイルランド連合王国(英国) 滞在機関名1：University of Leeds