2024/07/28 更新

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写真a

ツツイ クンゲン
堤井 君元
TSUTSUI KUNGEN
所属
総合理工学研究院 エネルギー科学部門 准教授
工学部 融合基礎工学科(併任)
総合理工学府 総合理工学専攻(併任)
職名
准教授
連絡先
メールアドレス
プロフィール
活動概要 1998年4月から2001年2月まで、名古屋大学にてVBL研究員として研究活動に従事した。2001年3月より、九州大学大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門の教員として、教育・研究活動に従事している。これまでの主な研究テーマは、 ・パワーエレクトロニクス(パワーデバイス)用半導体膜および誘電体膜の作製と電気・電子物性評価 ・電子エミッター用材料の作製と電子物性評価 ・超硬質膜の作製と機械特性および生体親和特性評価 ・ダイヤモンド、ナノカーボン、窒化ホウ素、SiC膜の気相合成 ・反応性ドライエッチングによる薄膜微細加工 ・質量分析法、プローブ法、分光法による反応性プラズマの診断 ・金属間化合物の製造、構造評価 である。 教育面では、2001-2004年(前期)に、大学院向けに「電気プロセス工学基礎」と「量子プロセス理工学基礎2」を担当した。2002-2004年(後期)には、工学部電気情報工学科「数学演習(二年生、後期)」を担当した。2005年(前期)からは、大学院向けに「プラズマ量子工学特論」と「基礎電磁気学」を担当した。2007年度からは、名称変更により「プラズマ量子工学特論」に代わり「光エレクトロニクス特論」を担当した。2007-2008および2010年度は、工学部機械航空工学科「一般電気工学第一(二年生、後期)」を担当した。 2011年度は、工学部機械航空工学科「電気工学基礎(二年生、後期)」を担当した。2011-2012年度は、芸術工学部環境設計学科および画像設計学科「力学基礎・同演習(一年生、前期)」を担当した。2012-2013年度は、工学部物質科学科「電気工学基礎(一年生、後期)」を担当した。2014年度は、理学部数学科「基幹物理学IB演習(一年生、後期)」を担当した。2015-2017年度は、理学部数学科「基幹物理学IB(一年生、後期)」を担当した。2015-2021年度は、工学部物質科学科「電気工学基礎(二年生、前期)」を担当した。2020年度は、理学部数学科「基幹物理学IB演習(一年生、後期)」を担当した。2021年度は、理系ディシプリン科目「電磁気学基礎演習(一年生、秋学期)」および「熱力学基礎演習(一年生、冬学期)」を担当した。2021年度からは、大学院向けに「電子デバイス基礎」を担当している。2023年度からは、工学部融合基礎工学科「機械電気科学実験I(三年生、春学期)」および「電気エネルギー工学(三年生、夏学期)」を担当している。2024年度からは、工学部融合基礎工学科「半導体・デバイス工学B(四年生、夏学期)」を担当している。 研究キーワード パワーエレクトロニクス, パワー半導体デバイス, 電子・電気材料, 超硬材料, 生体・医療材料, ナノ構造材料, プラズマ工学, プラズマCVD, ダイヤモンド, ナノカーボン, 立方晶窒化ホウ素, 超硬合金, 半導体, 誘電体, 質量分析法, 静電プローブ法, 電子エミッター, 超硬工具, インプラント, モールド

学位

  • 博士(工学)

経歴

  • 名古屋大学ベンチャービジネスラボラトリー、1998-2001年

研究テーマ・研究キーワード

  • 研究テーマ:スーパーハードコーティング, バイオコーティング

    研究キーワード:超硬材料、バイオ材料、インプラント、生体親和性、窒化物、DLC、超硬合金、遷移金属、ハイス、超硬工具、モールド、トライボロジー

    研究期間: 2007年4月

  • 研究テーマ:ナノ構造炭素材料の作製、物性評価、電子エミッターへの応用

    研究キーワード:ナノカーボン、ナノダイヤモンド、アモルファスカーボン、真空マイクロエレクトロニクス、電子源、イオンエンジン、トンネル効果、電子親和力、複合膜、超薄膜

    研究期間: 2005年4月

  • 研究テーマ:ワイドギャップ半導体の作製、物性評価、パワーエレクトロニクスへの応用

    研究キーワード:ダイヤモンド、窒化ホウ素、炭化ケイ素、結晶成長、エピタキシー、高温デバイス、パワーデバイス、ドーピング、半導体プロセス

    研究期間: 1998年4月

  • 研究テーマ:プラズマプロセシング

    研究キーワード:プラズマCVD、スパッタリング、質量分析、静電プローブ法、分光法

    研究期間: 1998年4月

受賞

  • 研究活動表彰

    2013年11月   九州大学  

  • 研究活動表彰

    2012年11月   九州大学  

  • 研究活動表彰

    2011年11月   九州大学  

  • 優秀論文発表賞(A賞)

    2008年1月   電気学会   電気学会が主催する研究会やシンポジウムにおける優れた研究発表が対象

  • 石井学術奨励賞(優秀賞)

    1998年1月   総合研究奨励会   東京大学大学院の博士修了者のうち、優れた博士論文の提出者が対象

  • 優秀論文発表賞(A賞)

    1994年1月   電気学会   電気学会が主催する研究会やシンポジウムにおける優れた研究発表が対象

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論文

  • Enhanced Field Emission from Ultrananocrystalline Diamond-Decorated Carbon Nanowalls Prepared by a Self-Assembly Seeding Technique 査読 国際誌

    #L. Huang, #S. Harajiri, S. Wang, X. Wu, @K. Teii

    ACS Appl. Mater. Interfaces   2022年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Biocompatible Cubic Boron Nitride: A Noncytotoxic Ultrahard Material 査読 国際誌

    #J. H. C. Yang, @K. Teii, C.-C. Chang, @S. Matsumoto, M. Rafailovich

    Adv. Funct. Mater.   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Field Emission Characteristics of Metal Nanoparticle-Coated Carbon Nanowalls 査読 国際誌

    #Y. Kaneko, #K. Terada, @K. Teii

    Nanotechnology   2020年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Electrical Transport and Capacitance Characteristics of Metal-Insulator-Metal Structures using Hexagonal and Cubic Boron Nitride Films as Dielectrics 査読 国際誌

    @K. Teii, #S. Kawamoto, #S. Fukui, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2018年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Thermal Stability of Boron Nitride/Silicon p-n Heterojunction Diodes 査読 国際誌

    K. Teii, Y. Mizusako, T. Hori, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2015年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Rectification Properties of n-Type Nanocrystalline Diamond Heterojunctions to p-Type Silicon Carbide at High Temperatures 査読 国際誌

    M. Goto, R. Amano, N. Shimoda, Y. Kato, K. Teii

    Appl. Phys. Lett.   2014年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Direct Deposition of Cubic Boron Nitride Films on Tungsten Carbide-Cobalt 査読 国際誌

    K. Teii, S. Matsumoto

    ACS Appl. Mater. Interfaces   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Synthesis and Electrical Characterization of n-Type Carbon Nanowalls 査読 国際誌

    K. Teii, S. Shimada, M. Nakashima, A. T. H. Chuang

    J. Appl. Phys.   2009年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Origin of Low Threshold Field Emission from Nitrogen-Incorporated Nanocrystalline Diamond Films 査読 国際誌

    T. Ikeda and K. Teii

    Appl. Phys. Lett.   2009年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of the Sp2 Carbon Phase on n-Type Conduction in Nanodiamond Films 査読 国際誌

    T. Ikeda, K. Teii, C. Casiraghi, J. Robertson, A. C. Ferrari

    J. Appl. Phys.   2008年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Electron Field Emission from Nanostructured Cubic Boron Nitride Islands 査読 国際誌

    K. Teii, S. Matsumoto, J. Robertson

    Appl. Phys. Lett.   2008年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Synthesis of Cubic Boron Nitride Films with Mean Ion Energies of a Few eV 査読 国際誌

    K. Teii, R. Yamao, T. Yamamura, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2007年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Temperature Dependence of Electrical Characteristics of Metal-Carbon Nanowall Contacts 査読 国際誌

    #Z. Sun, #L. Huang, @Y. Kato, @K. Teii

    Mater. Chem. Phys.   2023年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Measurement of Oxygen Concentration in Atmospheric Air Using Ultrasound Time of Flight with Humidity Compensation 査読 国際誌

    #H. Fukuoka, #M. Taskin @K. Teii, @Y. Kato

    Rev. Sci. Instrum.   2023年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of Precursor Gas on Growth Temperature and Electrical Conduction of Carbon Nanowalls in Microwave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    #L. Huang, #H. Ikematsu, @Y. Kato, @K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2023年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Electrical Characteristics of Metal Contacts to Carbon Nanowalls 査読 国際誌

    #Z. Sun, #M. Cho, #L. Huang, #R. Hijiya, @Y. Kato, @K. Teii

    ECS J. Solid State Sci. Technol.   2022年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Control of Electrostatic Self-Assembly Seeding of Diamond Nanoparticles on Carbon Nanowalls 査読 国際誌

    #L. Huang, X. Wu, #R. Hijiya, @K. Teii

    Nanotechnology   2022年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Low Temperature Annealing of Nanocrystalline Si Paste for pn Junction Formation 査読 国際誌

    #Y. Kuboki, #H. Zhu, #M. Sakamoto, @H. Matsumoto, @K. Teii, @Y. Kato

    Mater. Sci. Semicond. Process.   2021年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Ozone Behavior on Catalytic Probes and Its Application Studied in Gas Flow Downstream of Dielectric Barrier Discharge Ozonizers 査読 国際誌

    T.-L. Sung, C.-M. Liu, S. Ono, S. Teii, @K. Teii , K. Ebihara

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Electrical Insulation Characteristics of Metal-Insulator-Metal Structures Using Boron Nitride Dielectric Films Deposited with Low-Energy Ion Impact 査読 国際誌

    #Y. Kamimura, #M. Torigoe, @K. Teii, S. Matsumoto

    Mater. Sci. Semicond. Process.   2021年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Rapid Thermal Annealing of Si Paste Film and pn-Junction Formation 査読 国際誌

    #H. Zhu, #M. Sakamoto, #T. Pan, @T. Fujisaki, @H. Matsumoto, @K. Teii, @Y. Kato

    Nanotechnology   2020年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of the Boron-to-Nitrogen Ratio on Leakage Current Characteristics of Boron Nitride Films Prepared by Surface-Wave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 査読 国際誌

    #Y. Kamimura, #T. Matsuura, @K. Teii, S. Matsumoto

    Thin Solid Films   2020年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Enhanced Field Emission from Metal-Coated Carbon Nanowalls 査読 国際誌

    #Y. Kaneko, #K. Terada, @K. Teii

    Jpn. J. Appl. Phys.   2019年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Lowering of the Substrate Bias Voltage for Deposition of Cubic Boron Nitride in Microwave Plasma 査読 国際誌

    #T. Nakakuma, @K. Teii, S. Matsumoto

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2019年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of Low-Energy Ion Impact on the Structure of Hexagonal Boron Nitride Films Studied in Surface-Wave Plasma 査読 国際誌

    #M. Torigoe, #Y. Kamimura, @K. Teii, S. Matsumoto

    Surf. Interface Anal.   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Formation of Nanocrystalline Diamond Cones by Reactive Ion Etching in Microwave Plasma for Enhancing Field Emission 査読 国際誌

    #K. Ota, @Y. Kato, @K. Teii

    Jpn. J. Appl. Phys.   2019年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Field Emission Characteristics of Metal-Coated Nanocrystalline Diamond Films 査読 国際誌

    #K. Ota, #Y. Kaneko, #K. Terada, @Y. Kato, @K. Teii

    ECS J. Solid State Sci. Technol.   2018年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Leakage Current Characteristics of Thick Cubic Boron Nitride Films Deposited on Titanium 査読 国際誌

    #S. Kawamoto, #T. Nakakuma, @K. Teii, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2017年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Electrical Contacts to Nanocrystalline Diamond Films Studied at High Temperatures 査読 国際誌

    N. Shimoda, Y. Kato, K. Teii

    J. Appl. Phys.   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Low-Energy Ion-Assisted Deposition of Boron Nitride Films in Surface-Wave Plasma 査読 国際誌

    M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2016年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Superhydrophilic Cubic Boron Nitride Films 査読 国際誌

    K. Teii, S. Kawakami, S. Matsumoto

    RSC Adv.   2016年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of the Hexagonal Phase Interlayer on Rectification Properties of Boron Nitride Heterojunctions to Silicon 査読 国際誌

    K. Teii, H. Ito, N. Katayama, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Numerical Study on Heat Flow during Catalytic Dissociation of Ozone in a Dielectric Barrier Discharge Ozonizer 査読 国際誌

    R.-C. Hsiao, T.-L. Sung, C.-M. Liu, S. Teii, S. Ono, K. Teii, K. Ebihara

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Impact of Low-Energy Ions on Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride 査読 国際誌

    K. Teii, S. Matsumoto

    Thin Solid Films   2015年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Plasma Deposition of Diamond at Low Pressures: A Review 査読 国際誌

    K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2014年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Hydrophilic Stability of Plastic Surfaces Treated in Low- and Atmospheric-Pressure Radio-Frequency Plasmas 査読 国際誌

    R.-C. Hsiao, T.-L. Sung, C.-M. Liu, S. Teii, T.-C. Chan, S. Ono, K. Teii, C.-C. Yang, S.-C. Zeng

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2014年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Direct Measurement of Metal Surface Temperature during Catalytic Dissociation of Ozone for Sensor Application 査読 国際誌

    T.-L. Sung, R.-C. Hsiao, C.-M. Liu, S. Teii, H.-P. Jhou, K. Teii, S. Ono, K. Ebihara, F. Mitsugi

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2014年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Self-Compensated Standing Wave Probe for Characterization of Radio-Frequency Plasmas 査読 国際誌

    T.-L. Sung, S. Matsumura, K. Teii, S. Teii

    Rev. Sci. Instrum.   2014年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Enhanced Wettability of Cubic Boron Nitride Films by Plasma Treatment 査読 国際誌

    J. H.C. Yang, S. Kawakami, K. Teii, S. Matsumoto

    Mater. Sci. Forum   2014年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Surface-Enhanced Ozone Dissociation in Gas Flow Downstream of a Dielectric Barrier Discharge Ozonizer Studied by Using Catalytic Probes 査読 国際誌

    R.-C. Hsiao, T.-L. Sung, C.-M. Liu, H.-T. Tseng, S. Teii, K. Teii, S. Ono, K. Ebihara

    Vacuum   2014年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Rectification Properties of Nanocrystalline Diamond/Silicon p-n Heterojunction Diodes 査読 国際誌

    K. Teii, T. Ikeda

    J. Appl. Phys.   2013年9月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Origin of Rectification in Boron Nitride Heterojunctions to Silicon 査読 国際誌

    K. Teii, T. Hori, Y. Mizusako, S. Matsumoto

    ACS Appl. Mater. Interfaces   2013年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of Pulse Power Characteristics and Gas Flow Rate on Ozone Production in a Cylindrical Dielectric Barrier Discharge Ozonizer 査読 国際誌

    T.-L. Sung, S. Teii, C.-M. Liu, R.-C. Hsiao, P.-C. Chen, Y.-H. Wu, C.-K. Yang, K. Teii, S. Ono, K. Ebihara

    Vacuum   2013年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Surface Catalytic Effect of Electrode Materials on Ozone Dissociation in a Cylindrical Dielectric Barrier Discharge Ozonizer 査読 国際誌

    T.-L. Sung, S. Teii, C.-M. Liu, R.-C. Hsiao, P.-C. Chen, Y.-H. Wu, C.-K. Yang, S. Ono, K. Ebihara, K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2012年10月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Mechanisim of Enhanced Wettability of Nanocrystalline Diamond Films by Plasma Treatment 査読 国際誌

    J. H.C. Yang and K. Teii

    Thin Solid Films   2012年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Wettability of Amorphous Diamond-Like Carbons Deposited on Si and PMMA in Pulse-Modulated Plasmas 査読 国際誌

    T.-L. Sung, J. H.-C. Yang, K. Teii, S. Teii, C.-M. Liu, W.-Y. Tseng, L.-D. Lin, S. Ono

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2012年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Low Threshold Field Emission from Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films 査読 国際誌

    C. Y. Cheng, M. Nakashima, K. Teii

    Diamond Relat. Mater.   2012年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Control of the Growth Regimes of Nanodiamond and Nanographite in Microwave Plasmas 査読 国際誌

    C. Y. Cheng and K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2012年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Low Threshold Field Emission from High-Quality Cubic Boron Nitride Films 査読 国際誌

    K. Teii, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Fabrication of 4H-SiC/Nanocrystalline Diamond pn Junctions 査読 国際誌

    R. Amano, M. Goto, Y. Kato, K. Teii

    Mater. Sci. Forum   2012年5月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Wettability of Plasma-Treated Nanocrystalline Diamond Films 査読 国際誌

    J. H.C. Yang and K. Teii

    Diamond Relat. Mater.   2012年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Formation of Epitaxial 3C-SiC Layers by Microwave Plasma-Assisted Carbonization 査読 国際誌

    Y. Kato, M. Goto, R. Sato, K. Yamada, A. Koga, K. Teii, C. Srey, S. Tanaka

    Surf. Coat. Technol.   2011年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Deposition of Amorphous Hydrogenated Carbon Films on Si and PMMA by Pulsed Direct-Current Plasma CVD 査読 国際誌

    T.-L. Sung, Y.-A. Chao, C.-M. Liu, K. Teii, S. Teii, C.-Y. Hsu

    Thin Solid Films   2011年8月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Fabrication of n-Type Nanocrystalline Diamond/3C-SiC/p-Si(001) Junctions 査読 国際誌

    M. Goto, A. Koga, K. Yamada, Y. Kato, K. Teii

    Mater. Sci. Forum   2011年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Growth and Electrical Properties of 3C-SiC/Nanocrystalline Diamond Layered Films 査読 国際誌

    A. Koga, K. Teii, M. Goto, K. Yamada, Y. Kato

    Jpn. J. Appl. Phys.   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Enhanced Deposition of Cubic Boron Nitride Films on Roughened Silicon and Tungsten Carbide-Cobalt Surfaces 査読 国際誌

    K. Teii, T. Hori, S. Matsumoto

    Thin Solid Films   2011年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Feasibility Study on Cubic Boron Nitride Coated Glass Press Molds 査読 国際誌

    K. Teii and S. Matsumoto

    Diamond Relat. Mater.   2010年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Low Threshold Field Emission from Nitrogen-Incorporated Carbon Nanowalls 査読 国際誌

    S. Shimada, K. Teii, M. Nakashima

    Diamond Relat. Mater.   2010年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Synthesis and Field Emission Properties of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films 査読 国際誌

    K. Teii and M. Nakashima

    Appl. Phys. Lett.   2010年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of Cubic Phase Evolution on Field Emission Properties of Boron Nitride Island Films 査読 国際誌

    K. Teii, R. Yamao, S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2009年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Role of Hydrogen in Ultrananocrystalline Diamond Deposition from Argon-Rich Microwave Plasmas 査読 国際誌

    C.-M. Liu, K. Teii, T.-L. Sung, K. Ting, S. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci.   2009年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Origin of Reverse Leakage Current in n-Type Nanocrystalline Diamond/p-Type Silicon Heterojunction Diodes 査読 国際誌

    T. Ikeda and K. Teii

    Appl. Phys. Lett.   2009年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Conductive and Resistive Nanocrystalline Diamond Films Studied by Raman Spectroscopy 査読 国際誌

    K. Teii and T. Ikeda

    Diamond Relat. Mater.   2007年4月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of Enhanced C2 Growth Chemistry on Nanodiamond Film Deposition 査読 国際誌

    K. Teii, T. Ikeda

    Appl. Phys. Lett.   2007年3月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Formation of Microcrystalline Diamond using a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma Assisted by Thermal Decomposition of di-t-Alkyl Peroxide 査読 国際誌

    H. Ito, K. Teii, M. Ito. M. Hori

    Diamond Relat. Mater.   2007年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Local Retarding Field for Ions towards a Positively Biased Substrate in Plasma and its Application to Soft Ion-Bombardment Processing 査読 国際誌

    K. Teii and S. Matsumoto

    J. Appl. Phys.   2007年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Polymerization in Nanocrystalline Diamond Films by Oxygen Incorporation 査読 国際誌

    K. Teii and T. Ikeda

    Plasma Process. Polym.   2006年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • In Vacuo Substrate Pretreatments for Enhancing Nanodiamond Formation in Electron Cyclotron Resonance Plasma 査読 国際誌

    K. Teii, Y. Kouzuma, K. Uchino

    J. Vac. Sci. Technol.   2006年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Comparative Study on Nanocrystalline Diamond Growth from Acetylene and Methane 査読 国際誌

    T. Ikeda and K. Teii

    Diamond Relat. Mater.   2006年4月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Effect of Hydrogen Plasma Exposure on the Amount of trans-Polyacetylene in Nanocrystalline Diamond Films 査読 国際誌

    K. Teii, T. Ikeda, A. Fukutomi, K. Uchino

    J. Vac. Sci. Technol.   2006年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Time Dependence of Nucleation Density and Crystallinity of Diamond in Low-Pressure, Ion-Enhanced Deposition 査読 国際誌

    Y. Kouzuma, K. Teii, S. Mizobe, K. Uchino, K. Muraoka

    Diamond Relat. Mater.   13 ( 4-8 )   656 - 660   2004年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.diamond.2003.10.071

  • Prediction of a Threshold Density of Atomic Hydrogen for Nanocrystalline Diamond Growth at Low Pressures 査読 国際誌

    K. Teii

    Chem. Phys. Lett.   389 ( 4-6 )   251 - 254   2004年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/j.cplett.2004.03.096

  • Diagnostic and Analytical Study on a Low-Pressure Limit of Diamond Chemical Vapor Deposition in Inductively Coupled CO-CH4-H2 Plasmas 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, T. Goto

    J. Appl. Phys.   95 ( 8 )   4463 - 4470   2004年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.1686900

  • Diamond Nucleation Density as a Function of Ion-Bombardment Energy in Electron Cyclotron Resonance Plasma 査読 国際誌

    Y. Kouzuma, K. Teii, K. Uchino, K. Muraoka

    Phys. Rev. B   68 ( 6 )   064104   2003年8月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1103/PhysRevB.68.064104

  • Argon Dilution Effects on Diamond Deposition in Electron Cyclotron Resonance Plasma: A Double Probe Study 査読 国際誌

    K. Teii, H. Yoshioka, S. Ono, S. Teii

    Thin Solid Films   437 ( 1-2 )   63 - 67   2003年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1016/S0040-6090(03)00669-2

  • Time- and Space-Resolved Electric Potentials in a Parallel-Plate Radio-Frequency Plasma 査読 国際誌

    K. Teii, M. Mizumura, S. Matsumura, S. Teii

    J. Appl. Phys.   2003年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.1568158

  • Ion-to-CH3 Flux Ratio in Diamond Chemical-Vapor Deposition 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, T. Goto

    J. Appl. Phys.   92 ( 7 )   4103 - 4108   2002年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.1506384

  • Diamond Nucleation Enhancement on Si by Controlling Ion-Bombardment Eneragy in Electron Cyclotron Resonance Plasma 査読 国際誌

    Y. Kouzuma, K. Teii, K. Uchino, K. Muraoka

    Jpn. J. Appl. Phys.   41 ( 9 )   5749 - 5750   2002年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1143/JJAP.41.5749

  • Soft Ion Impact for Surface Activation during Diamond Chemical-Vapor Deposition on Diamond and Silicon 査読 国際誌

    K. Teii

    Phys. Rev. B   64 ( 12 )   125327   2001年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Dual-Electrode Biasing for Controlling Ion-to-Adatom Flux Ratio during Ion-Assisted Deposition of Diamond 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, T. Goto

    J. Appl. Phys.   89 ( 9 )   4714 - 4718   2001年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

    DOI: 10.1063/1.1359159

  • Negative Bias Dependence of Sulfur and Fluorine Incorporation in Diamond Films Etched by an SF6 Plasma 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, T. Goto

    J. Electrochem. Soc.   2001年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Codeposition on Diamond Film Surface during Reactive Ion Etching in SF6 and O2 Plasmas 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, T. Goto

    J. Vac. Sci. Technol.   2000年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Loss Kinetics of Carbon Atoms in Low-Pressure High-Density Plasmas 査読 国際誌

    H. Ito, K. Teii, H. Funakoshi, M. Hori, T. Goto, M. Ito, T. Takeo

    J. Appl. Phys.   2000年10月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Precursors of Fluorocarbon Film Growth Studied by Mass Spectrometry 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, T. Goto, N. Ishii

    J. Appl. Phys.   2000年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Kinetics and Role of C, O, and OH in Low-Pressure Nanocrystalline Diamond Growth 査読 国際誌

    K. Teii, H. Ito, M. Hori, T. Takeo, T. Goto

    J. Appl. Phys.   2000年5月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Study on Polymeric Neutral Species in High-Density Fluorocarbon Plasmas 査読 国際誌

    K. Teii, M. Hori, M. Ito, T. Goto, N. Ishii

    J. Vac. Sci. Technol.   2000年1月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Diamond Deposition and Behavior of Atomic Carbon Species in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma 査読 国際誌

    H. Ito, K. Teii, M. Ishikawa, M. Ito, M. Hori, T. Takeo, T. Kato, T, Goto

    Jpn. J. Appl. Phys.   1999年7月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Independent Control of Ion Energy and Flux in Plasma-Enhanced Diamond Growth 査読 国際誌

    K. Teii

    Appl. Phys. Lett.   1999年6月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Lower Pressure Limit of Diamond Growth in Inductively Coupled Plasma 査読 国際誌

    K. Teii and T. Yoshida

    J. Appl. Phys.   1999年2月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Diagnostics of the Diamond-Depositing Inductively Coupled Plasma by Electrostatic Probes and Optical Emission Spectroscopy 査読 国際誌

    K. Teii

    J. Vac. Sci. Technol.   1999年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Structure Changes in a-C:H Films in Inductive CH4/Ar Plasma Deposition 査読 国際誌

    K. Teii and T. Yoshida

    Thin Solid Films   1998年11月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • ダイヤモンド合成用低圧誘導結合プラズマのプローブ測定 査読

    堤井 君元、吉田 豊信

    電気学会論文誌   1998年7月

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    記述言語:日本語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

  • Positive Bias Effects on the Growth of Diamond at Pressures below 100 mTorr 査読 国際誌

    K. Teii and T. Yoshida

    Thin Solid Films   1998年3月

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    記述言語:英語   掲載種別:研究論文(学術雑誌)  

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書籍等出版物

  • 工業材料「超硬質高結晶性立方晶窒化ホウ素膜」

    松本精一郎, 堤井君元( 担当: 共著)

    日刊工業新聞社  2009年1月 

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    担当ページ:Vol. 57, No. 1, 42-43頁(2009)   記述言語:日本語   著書種別:一般書・啓蒙書

講演・口頭発表等

  • Plasma Deposition of Boron Nitride Films and Nanodiamond-Nanowall Hybrids for Electronic and Optoelectronic Applications 招待 国際会議

    @K. Teii

    Diamond Jubilee Lecture on Materials for Optoelectronic Devices  2023年11月 

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    開催年月日: 2023年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:インド  

    Plasma Deposition of Boron Nitride Films and Nanodiamond-Nanowall Hybrids for Electronic and Optoelectronic Applications, K. Teii, Diamond Jubilee Lecture on Materials for Optoelectronic Devices, Bhubanesvar (online), 2023.

  • プラズマCVD法による高品位cBN膜の成膜技術と応用展開(招待講演) 招待

    @堤井君元

    表面技術協会関西支部令和4年度第2回表面物性研究会  2022年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大阪   国名:日本国  

  • プラズマCVDでつくる高品質立方晶窒化ホウ素とその応用(招待講演) 招待

    @堤井君元

    第75回CVD研究会  2021年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films for Hard Coatings and Electronic Devices (INVITED) 国際会議

    K. Teii, S. Matsumoto

    10th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films for Hard Coatings and Electronic Devices (INVITED), K. Teii, S. Matsumoto, 10th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2017.

  • プラズマ技術がつくる新しい立方晶窒化ホウ素―超硬コーティングと半導体への応用―(依頼講演) 招待

    堤井 君元

    名古屋産業振興公社プラズマ技術産業応用センター第54回プラズマが拓くものづくり研究会(プラズマ技術講演会)「革新的プラズマコーティング技術とその産業応用」  2015年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋   国名:日本国  

  • Plasma Deposition and Electrical Applications of High-Quality Cubic Boron Nitride Films (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii, S. Matsumoto

    8th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2013年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Plasma Deposition and Electrical Applications of High-Quality Cubic Boron Nitride Films (INVITED), K. Teii, S. Matsumoto, 8th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2013.

  • Electron Field Emission from Semiconducting Carbon Nanowalls and Boron Nitride Films (INVITED) 国際会議

    K. Teii, J. H.C. Yang, S. Matsumoto

    8th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC 2013)  2013年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Electron Field Emission from Semiconducting Carbon Nanowalls and Boron Nitride Films (INVITED), K. Teii, J. H.C. Yang, S. Matsumoto, 8th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC 2013), USA, 2013.

  • Plasma Deposition and Applications of Cubic Boron Nitride Films (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii, J. H.C. Yang, S. Matsumoto

    IUMRS-International Conference on Electronic Materials 2012  2012年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年9月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Plasma Deposition and Applications of Cubic Boron Nitride Films (INVITED), K. Teii, J. H.C. Yang, S. Matsumoto, IUMRS-International Conference on Electronic Materials 2012, Japan, 2012.

  • 立方晶窒化ホウ素膜のプラズマCVD合成と電気電子応用(依頼講演) 招待

    堤井 君元

    第80回表面科学研究会「窒化ホウ素:電子デバイス材料としての課題と展望」  2014年1月 

     詳細を見る

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:横浜   国名:日本国  

  • Plasma Enhanced Deposition of Cubic Boron Nitride Films under Ultralow-Energy Ion Impact: Structural Evolution and Electrical Properties (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii and S. Matsumoto

    35th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films  2008年5月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Plasma Enhanced Deposition of Cubic Boron Nitride Films under Ultralow-Energy Ion Impact: Structural Evolution and Electrical Properties (INVITED), K. Teii and S. Matsumoto, 35th International Conference on Metallurgical Coatings and Thin Films, USA, 2008.

  • Synthesis and Electrical Properties of Cubic Boron Nitride Films by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition under Low-Energy Ion Bombardment (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii and S. Matsumoto

    6th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2009年12月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Synthesis and electrical properties of cubic boron nitride films by plasma-enhanced chemical vapor deposition under low-energy ion bombardment (INVITED), K. Teii and S. Matsumoto, 6th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2009.

  • 立方晶窒化ホウ素膜のプラズマCVD合成と応用 (依頼講演) 招待

    堤井 君元

    日本真空協会スパッタリングおよびプラズマプロセス技術部会第122回定例研究会「ハードマテリアルに関する最近の動向」  2011年3月 

     詳細を見る

    会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    開催地:東京   国名:日本国  

  • マイクロ波プラズマCVDによるナノウォール構造体の生成条件と電気特性に関する研究

    #Sun Zewen, #大寳正太, #Nahar Arijun, @加藤喜峰, @堤井君元

    電気学会誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会  2024年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2024年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大分、オンライン   国名:日本国  

  • ダイヤモンドナノ粒子で修飾したナノウォール構造体の電界放出特性と電界分布シミュレーション

    #原尻駿吾, #Huang Lei, #Nahar Arijun, @堤井君元

    第70回応用物理学会春季学術講演会  2023年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • 炭素ナノウォール構造体の電界放出特性と電界分布シミュレーション

    #原尻駿吾, #Huang Lei, @堤井君元

    第70回応用物理学会春季学術講演会  2023年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2023年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • ナノウォール構造体からの電界放出における電界シミュレーション

    #原尻駿吾, #Huang Lei, @堤井君元

    令和4年度電気・情報関係学会北海道支部連合大会  2022年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • 電界シミュレーションを用いたナノウォール構造体の電界放出特性に関する研究

    #原尻駿吾, #Huang Lei, @堤井君元

    2022年度(第75回)電気・情報関係学会九州支部連合大会  2022年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2022年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • Control of Self-Assembly Seeding of Diamond Nanoparticles on Nanowall Structures for Enhancing Field Emission 国際会議

    #L. Huang, #S. Harajiri, #R. Hijiya, @K. Teii

    International Thin Film Conference (TACT) 2021  2021年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Control of Self-Assembly Seeding of Diamond Nanoparticles on Nanowall Structures for Enhancing Field Emission, L. Huang, S. Harajiri, R. Hijiya, K. Teii, International Thin Film Conference (TACT) 2021, Taiwan (online), 2021.

  • Wetting Behavior of Plasma-Treated Ultrahard Boron Nitride Films 国際会議

    J. H. C. Yang, @K. Teii, S. Matsumoto

    International Thin Film Conference (TACT) 2021  2021年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Wetting Behavior of Plasma-Treated Ultrahard Boron Nitride Films, J. H. C. Yang, K. Teii, S. Matsumoto, International Thin Film Conference (TACT) 2021, Taiwan (online), 2021.

  • Lowering of the Substrate Bias Voltage for Formation of Cubic Boron Nitride Films in Microwave Plasma 国際会議

    #H. Ikematsu, #T. Nakakuma, @K. Teii, S. Matsumoto

    International Thin Film Conference (TACT) 2021  2021年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Lowering of the Substrate Bias Voltage for Formation of Cubic Boron Nitride Films in Microwave Plasma, H. Ikematsu, T. Nakakuma, K. Teii, S. Matsumoto, International Thin Film Conference (TACT) 2021, Taiwan (online), 2021.

  • Electrical Characterization of Metal Contacts to Nitrogen-Incorporated Nanowall Structures 国際会議

    #Z. Sun, #M. Cho, #R. Hijiya, #L. Huang, @K. Teii

    International Thin Film Conference (TACT) 2021  2021年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Electrical Characterization of Metal Contacts to Nitrogen-Incorporated Nanowall Structures, Z. Sun, M. Cho, R. Hijiya, L. Huang, K. Teii, International Thin Film Conference (TACT) 2021, Taiwan (online), 2021.

  • Plasma Deposition of High-Quality Cubic Boron Nitride Films for Applications to Ultrahard Coatings and Electronic Devices (INVITED) 招待 国際会議

    @K. Teii, J. H. C. Yang, S. Matsumoto

    7th International Symposium on Advanced Ceramics and Technology for Sustainable Energy Applications toward a Low Carbon Society  2021年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Plasma Deposition of High-Quality Cubic Boron Nitride Films for Applications to Ultrahard Coatings and Electronic Devices (INVITED), K. Teii, J. H. C. Yang, S. Matsumoto, 7th International Symposium on Advanced Ceramics and Technology for Sustainable Energy Applications toward a Low Carbon Society, Taiwan (online), 2021.

  • 低エネルギーイオン衝撃下でのプラズマCVDを用いたエレクトロニクス材料の合成と機能物性評価(招待講演) 招待

    @堤井君元

    電気学会プラズマ材料表面処理技術の動向調査専門委員会第4回研究会  2021年5月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年5月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • 均一なナノダイヤモンド膜形成のための基板への堆積前処理

    #泥谷亮太, #黄磊, @堤井君元

    日本セラミックス協会2021年年会  2021年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • ナノダイヤモンド膜の微細加工と電界放出特性の評価

    #泥谷亮太, #太田洸輝, @堤井君元

    日本セラミックス協会2021年年会  2021年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • 表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と絶縁性評価

    #泥谷亮太, #伊藤隆太, #山本世翔, #神村勇馬, @堤井君元, 松本精一郎

    電気学会誘電・絶縁材料/放電・プラズマ・パルスパワー/高電圧合同研究会  2021年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2021年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:オンライン   国名:日本国  

  • Field Emission Characteristics of Nanocrystalline Diamond Cones Prepared by Reactive Ion Etching in Microwave Plasma 国際会議

    #R. Hijiya, #K. Ota, @K. Teii

    11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2019年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Field Emission Characteristics of Nanocrystalline Diamond Cones Prepared by Reactive Ion Etching in Microwave Plasma, R. Hijiya, K. Ota, K. Teii, 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Kanazawa, 2019.

  • Structure and Electrical Properties of Boron Nitride Films Deposited by Surface Wave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議

    #T. Matsuura, #Y. Kamimura, #M. Torigoe, @K. Teii, S. Matsumoto

    11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2019年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Structure and Electrical Properties of Boron Nitride Films Deposited by Surface Wave Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition, T. Matsuura, Y. Kamimura, M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto, 11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Kanazawa, 2019.

  • Field Emission Characteristics of Nanostructured Boron Nitride Films Deposited by Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

    #R. Ito, #R. Hijiya, #S. Yamamoto @K. Teii, S. Matsumoto

    21st Cross Straits Symposium on Energy and Environmental Science and Technology  2019年11月 

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    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

    Field Emission Characteristics of Nanostructured Boron Nitride Films Deposited by Plasma Chemical Vapor Deposition, R. Ito, R. Hijiya, S. Yamamoto K. Teii, S. Matsumoto, 21st Cross Straits Symposium on Energy and Environmental Science and Technology, Shanghai, 2019.

  • Field Emission Characteristics of Metal Nanoparticle-Coated Carbon Nanostructures 国際会議

    Y. Kaneko, K. Terada, @Y. Kato, @K. Teii

    International Thin Film Conference (TACT) 2019  2019年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Field Emission Characteristics of Metal Nanoparticle-Coated Carbon Nanostructures, Y. Kaneko, K. Terada, Y. Kato, K. Teii, International Thin Film Conference (TACT) 2019, Taiwan, 2019.

  • Rapid Thermal Annealing on Si Film and pn-Junction Formation by Si Paste 国際会議

    #H. Zhu, @Y. Kato, @K. Teii

    International Thin Film Conference (TACT) 2019  2019年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Rapid Thermal Annealing on Si Film and pn-Junction Formation by Si Paste, H. Zhu, Y. Kato, K. Teii, International Thin Film Conference (TACT) 2019, Taiwan, 2019.

  • Impact of Low-Energy Ions on Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films for Electronic Applications 国際会議

    @K. Teii, S. Matsumoto

    International Thin Film Conference (TACT) 2019  2019年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Impact of Low-Energy Ions on Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films for Electronic Applications, K. Teii, S. Matsumoto, International Thin Film Conference (TACT) 2019, Taiwan, 2019.

  • Effect of Low-Energy Ion impact on Structure and Electrical Properties of Boron Nitride Thin Films Studied in Surface-Wave Plasma 国際会議

    #M. Torigoe, #Y. Kamimura, @K. Teii, S. Matsumoto

    International Thin Film Conference (TACT) 2019  2019年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2019年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Effect of Low-Energy Ion impact on Structure and Electrical Properties of Boron Nitride Thin Films Studied in Surface-Wave Plasma, M. Torigoe, Y. Kamimura, K. Teii, S. Matsumoto, International Thin Film Conference (TACT) 2019, Taiwan, 2019.

  • Effect of Low-Energy Ion Impact on the Structure of Boron Nitride Films Studied in Surface-Wave Plasma 国際会議

    #Y. Kamimura, #T. Matsuura, #M. Torigoe, @K. Teii, S. Matsumoto

    40th International Symposium on Dry Process  2018年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Effect of Low-Energy Ion Impact on the Structure of Boron Nitride Films Studied in Surface-Wave Plasma, Y. Kamimura, T. Matsuura, M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto, 40th International Symposium on Dry Process, Japan, 2018.

  • 表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と構造および電気特性評価

    神村勇馬, 松浦貴志, 鳥越雅敬, 堤井君元, 松本精一郎

    電気学会プラズマ/パルスパワー/放電合同研究会  2018年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大分大学(大分市)   国名:日本国  

  • Enhanced Wettability of Cubic Boron Nitride Films for Biomedical Applications 国際会議

    K. Teii, S. Kawakami, S. Matsumoto

    69th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry  2018年9月 

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    開催年月日: 2018年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

    Enhanced Wettability of Cubic Boron Nitride Films for Biomedical Applications, K. Teii, S. Kawakami, S. Matsumoto, 69th Annual Meeting of the International Society of Electrochemistry, Italy, 2018.

  • フッ素支援プラズマCVD法を用いた立方晶窒化ホウ素膜の島成長と電界放出特性評価

    高橋 里奈, 堤井 君元, 松本 精一郎

    平成30年電気学会全国大会  2018年3月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2018年3月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡   国名:日本国  

  • Decolorization and Kinetic Effect of Azo Dyes Aqueous Solution by Ozone 国際会議

    R.-C. Hsiao, Z.-J. Li, C.-Y. Lai, P.-K. Tang, K.-Y. Hsiao, T.-L. Sung, S. Teii, K. Teii

    10th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Decolorization and Kinetic Effect of Azo Dyes Aqueous Solution by Ozone, R.-C. Hsiao, Z.-J. Li, C.-Y. Lai, P.-K. Tang, K.-Y. Hsiao, T.-L. Sung, S. Teii, K. Teii, 10th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2017.

  • Rectification Properties of Boron Nitride Heterojunctions to Silicon 国際会議

    K. Teii, M, Ishida, R. Takahashi, S. Matsumoto

    11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Rectification Properties of Boron Nitride Heterojunctions to Silicon, K. Teii, M, Ishida, R. Takahashi, S. Matsumoto, 11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices, USA, 2017.

  • Plasma Deposition of Boron Nitride Films using Low-Energy Ion Bombardment 国際会議

    Y. Kamimura, M, Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto

    11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices  2017年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Plasma Deposition of Boron Nitride Films using Low-Energy Ion Bombardment, Y. Kamimura, M, Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto, 11th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices, USA, 2017.

  • 表面波プラズマCVDを用いた窒化ホウ素膜の合成と物性評価

    神村 勇馬, 鳥越 雅敬, 石田 学, 高橋 里奈, 堤井 君元, 松本 精一郎

    電気学会プラズマ/パルスパワー/放電合同研究会  2017年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:熊本大学(熊本市)   国名:日本国  

  • 立方晶窒化ホウ素膜のプラズマ堆積に及ぼす低エネルギーイオンの影響

    村田 一磨, 石田 学, 堤井 君元, 松本 精一郎

    第34回プラズマプロセシング研究会/第29回プラズマ材料科学シンポジウム  2017年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2017年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道大学(札幌市)   国名:日本国  

  • エチレン(C2H4)を用いたSi(100)基板表面の炭化 招待

    原崎 俊栄, 加藤 喜峰, 梶原 隆司, 田中 悟, 堤井 君元

    応用物理学会九州支部学術講演会  2016年12月 

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    開催年月日: 2016年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎   国名:日本国  

  • Rectification Properties of Boron Nitride/Silicon Heterostructure Diodes 国際会議

    K. Teii, H. Ito, N. Katayama, S. Matsumoto

    7th Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science  2016年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2016年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Rectification Properties of Boron Nitride/Silicon Heterostructure Diodes, K. Teii, H. Ito, N. Katayama, S. Matsumoto, 7th Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science, USA, 2016.

  • Role of Low-Energy Ion Impact in Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films 国際会議

    K. Murata, M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto

    7th Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science  2016年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2016年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Role of Low-Energy Ion Impact in Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films, K. Murata, M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto, 7th Pacific Rim Meeting on Electrochemical and Solid-State Science, USA, 2016.

  • Plasma Deposition of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films for High-Efficiency Field Emitters 国際会議

    Y. Kaneko, K. Terada, K. Teii

    9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials  2015年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Plasma Deposition of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films for High-Efficiency Field Emitters, Y. Kaneko, K. Terada, K. Teii, 9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials, Japan, 2015.

  • Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films for High-Power Electronic Devices 国際会議

    S. Fukui, M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto

    9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials  2015年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Plasma Deposition of Cubic Boron Nitride Films for High-Power Electronic Devices, S. Fukui, M. Torigoe, K. Teii, S. Matsumoto, 9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials, Japan, 2015.

  • Double Probe Method to Form a Simple Ozone Detector Using the Effect of Catalytic Ozone Dissociation on Metal Surface 国際会議

    R. C. Hsiao, T. L. Sung, C. M. Liu, S. Teii, H.-P. Jhou, S. Ono, K. Ebihara, K. Teii

    9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials  2015年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Double Probe Method to Form a Simple Ozone Detector Using the Effect of Catalytic Ozone Dissociation, R. C. Hsiao, T. L. Sung, C. M. Liu, S. Teii, H.-P. Jhou, S. Ono, K. Ebihara, K. Teii, 9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials, Japan, 2015.

  • プラズマ曝露処理による親水性硬質コーティングの作製

    J. Yang, 金子 祐太, 堤井 君元

    電気学会プラズマ研究会  2015年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:宮崎   国名:日本国  

  • Plasma-Enhanced Deposition of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films for Field Emitters 国際会議

    K. Teii, Y. Kaneko, K. Terada, A.T.H. Chuang

    68th Annual Gaseous Electronics Conference/9th International Conference on Reactive Plasmas/33rd Symposium on Plasma Processing  2015年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Plasma-Enhanced Deposition of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films for Field Emitters, K. Teii, Y. Kaneko, K. Terada, A.T.H. Chuang, 68th Annual Gaseous Electronics Conference/9th International Conference on Reactive Plasmas/33rd Symposium on Plasma Processing, USA, 2015.

  • Effect of Low-Energy Ions on Plasma-Enhanced Deposition of Cubic Boron Nitride 国際会議

    M. Torigoe, S. Fukui, K. Teii, S. Matsumoto

    68th Annual Gaseous Electronics Conference/9th International Conference on Reactive Plasmas/33rd Symposium on Plasma Processing  2015年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年10月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Effect of Low-Energy Ions on Plasma-Enhanced Deposition of Cubic Boron Nitride, M. Torigoe, S. Fukui, K. Teii, S. Matsumoto, 68th Annual Gaseous Electronics Conference/9th International Conference on Reactive Plasmas/33rd Symposium on Plasma Processing, USA, 2015.

  • 立方晶窒化ホウ素のプラズマCVDに及ぼす低エネルギーイオン衝撃の影響

    鳥越 雅敬, 福井 慎吾, 堤井 君元, 松本 精一郎

    電気学会プラズマ研究会  2015年6月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2015年6月 - 2015年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌   国名:日本国  

  • 立方晶窒化ホウ素を用いた電界放出カソードの開発

    坂井 寿光, 山本 直嗣, 大川 恭志, 堤井 君元, 船木 一幸, 森田 太智, 中島 秀紀

    第58回宇宙科学技術連合講演会  2014年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎   国名:日本国  

  • 触媒金属含有基板上への硬質窒化ホウ素コーティング

    堤井 君元, 松本 精一郎

    日本鉄鋼協会第168回秋季講演大会  2014年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋   国名:日本国  

  • Plasma Deposition and Applications of Nanodiamond Films (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii

    2014 International Workshop on Plasma Applications in Nanocarbon Materials and Devices  2014年2月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2014年2月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Plasma Deposition and Applications of Nanodiamond Films (INVITED), K. Teii, 2014 International Workshop on Plasma Applications in Nanocarbon Materials and Devices, Japan, 2014.

  • Electrical and Thermal Transport Properties of Nanocystal-Embedded Films Deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 招待 国際会議

    J. H.C. Yang, T. Ikeda, K. Teii

    8th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2013年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Electrical and Thermal Transport Properties of Nanocystal-Embedded Films Deposited by Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, J. H.C. Yang, T. Ikeda, K. Teii, 8th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2013.

  • ナノクリスタルダイヤモンド薄膜の各種オーミック電極

    下田 尚考, 加藤 喜峰, 堤井 君元

    SiC及び関連半導体研究第22回講演会  2013年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:埼玉   国名:日本国  

  • Enhanced Wettability of Cubic Boron Nitride Films by Plasma Treatment 国際会議

    J. H.C. Yang, S. Kawakami, K. Teii, S. Matsumoto

    8th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC 2013)  2013年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Enhanced Wettability of Cubic Boron Nitride Films by Plasma Treatment, J. H.C. Yang, S. Kawakami, K. Teii, S. Matsumoto, 8th International Conference on Processing & Manufacturing of Advanced Materials (THERMEC 2013), USA, 2013.

  • Structure and Electrical Properties of Wide-Gap Boron Nitride Films 国際会議

    K. Teii, S. Kawamoto, H. Ito, S. Matsumoto

    9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices  2013年12月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年12月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Structure and Electrical Properties of Wide-Gap Boron Nitride Films, K. Teii, S. Kawamoto, H. Ito, S. Matsumoto, 9th International Symposium on Atomic Level Characterizations for New Materials and Devices, USA, 2013.

  • Development of Next Generation Wide Band-Gap Materials for High Temperature Electronics (KEYNOTE) 国際会議

    K. Teii

    15th Cross Straits Symposium on Energy and Environmental Science and Technology  2013年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年11月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

    Development of Next Generation Wide Band-Gap Materials for High Temperature Electronics (KEYNOTE), K. Teii, 15th Cross Straits Symposium on Energy and Environmental Science and Technology, China, 2013.

  • 炭素ナノウォールのプラズマCVD合成と電界放出特性評価

    青木 智宏, 山口 亮太, 堤井 君元

    電気学会プラズマ研究会  2013年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年9月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎   国名:日本国  

  • Electron Emission Properties of Boron Nitride Layered Films on Silicon 国際会議

    K. Teii, S. Kawamoto, H. Ito, S. Matsumoto

    24th International Conference on Diamond and Carbon Materials  2013年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年9月

    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

    Electron Emission Properties of Boron Nitride Layered Films on Silicon, K. Teii, S. Kawamoto, H. Ito, and S. Matsumoto, 24th International Conference on Diamond and Carbon Materials, Italy, 2013.

  • Plasma Treatment of Nanocrystalline Diamond Films for Biocoating Applications 国際会議

    J. H.C. Yang, K. Teii

    5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials  2013年1月 

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    開催年月日: 2013年1月 - 2013年2月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Plasma Treatment of Nanocrystalline Diamond Films for Biocoating Applications, J. Yang, K. Teii, 5th International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, Nagoya, 2013.

  • Plasma Deposition and Electronic Applications of Nanostructured Wide-Gap Materials

    S. Kawamoto, N. Katayama, K. Teii, S. Matsumoto

    2013年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Mechanism of Enhanced Wettability of Nanostructured Diamond-Like Films by Plasma Treatment

    J. H.C. Yang, R. Yamaguchi, K. Teii

    2013年1月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2013年1月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

  • Field Emission Properties of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films 国際会議

    C.Y. Cheng, R. Yamaguchi, K. Teii

    7th International Conference on Surfaces, Coatings, and Nanostructured Materials  2012年9月 

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    開催年月日: 2012年9月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:チェコ共和国  

    Field Emission Properties of Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films, C.Y. Cheng, R. Yamaguchi, K. Teii, 7th International Conference on Surfaces, Coatings, and Nanostructured Materials, Czech Republic, 2012.

  • Enhanced Field Emission from Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films 国際会議

    K. Teii, C.Y. Cheng, R. Yamaguchi

    23rd International Conference on Diamond and Carbon Materials  2012年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年9月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:スペイン  

    Enhanced Field Emission from Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films, K. Teii, C.Y. Cheng, R. Yamaguchi, 23rd International Conference on Diamond and Carbon Materials, Spain, 2012.

  • Electrical Characteristics of 4H-SiC/Nanocrystalline Diamond pn Junctions 国際会議

    Y. Kato, M. Goto, R. Amano, N. Shimoda, K. Teii

    23rd International Conference on Diamond and Carbon Materials  2012年9月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2012年9月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:スペイン  

    Electrical Characteristics of 4H-SiC/Nanocrystalline Diamond pn Junctions, Y. Kato, M. Goto, R. Amano, N. Shimoda, K. Teii, 23rd International Conference on Diamond and Carbon Materials, Spain, 2012.

  • Deposition of Thick Cubic Boron Nitride Films on Si and Cemented Carbide under Low-Energy Ion Bombardment 国際会議

    J. Yang, K. Teii, S. Matsumoto

    5th International Conference on New Diamond and Nano Carbons  2011年5月 

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    開催年月日: 2011年5月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Deposition of Thick Cubic Boron Nitride Films on Si and Cemented Carbide under Low-Energy Ion Bombardment, J. Yang, K. Teii, S. Matsumoto, 5th International Conference on New Diamond and Nano Carbons, Shimane, 2011.

  • Synthesis and Electrical Properties of Cubic Boron Nitride Films by Low-Energy Ion-Assisted Deposition 国際会議

    K. Teii and S. Matsumoto

    5th International Conference on New Diamond and Nano Carbons  2011年5月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年5月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Synthesis and Electrical Properties of Cubic Boron Nitride Films by Low-Energy Ion-Assisted Deposition, K. Teii and S. Matsumoto, 5th International Conference on New Diamond and Nano Carbons, Shimane, 2011.

  • Enhanced Field Emission from Nitrogen-Incorporated Carbon Nanowalls 国際会議

    C.Y. Cheng, M. Nakashima, S. Shimada, K. Teii

    5th International Conference on New Diamond and Nano Carbons  2011年5月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2011年5月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Enhanced Field Emission from Nitrogen-Incorporated Carbon Nanowalls, C.Y. Cheng, M. Nakashima, S. Shimada, K. Teii, 5th International Conference on New Diamond and Nano Carbons, Shimane, 2011.

  • Surface Modification of Nanocrystalline Diamond Films by Plasma Exposure Treatments 国際会議

    J. Yang, M. Nakashima, C.-Y. Cheng, K. Teii

    3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials  2011年3月 

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    開催年月日: 2011年3月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Surface Modification of Nanocrystalline Diamond Films by Plasma Exposure Treatments, J. Yang, M. NAKASHIMA, C.-Y. Cheng, K. Teii, 3rd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, Nagoya, 2011.

  • ナノダイヤモンド薄膜の相制御と電気特性評価

    池田 知弘, 堤井 君元

    第19回ダイヤモンドシンポジウム  2005年11月 

     詳細を見る

    開催年月日: 2005年11月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:大阪   国名:日本国  

  • Diamond Formation Using a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma 国際会議

    H. Ito, K. Teii, M. Ito, M. Hori, T. Takeo, T. Goto

    46th American Vacuum Society International Symposium  1999年10月 

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    開催年月日: 1999年10月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Diamond Formation Using a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma, H. Ito, K. Teii, M. Ito, M. Hori, T. Takeo, T. Goto, 46th American Vacuum Society International Symposium, USA, 1999.

  • Correlation between Gas Phase and Substrate Surface on Fabrication of Low-k Films in ECR Plasma with G4F8 and Perfluorocarbon-Replacement Gases 国際会議

    M. Nakamura, K. Teii, S. Takashima, M. Hori, T. Goto, N. Ishii

    53rd Annual Gaseous Electronics Conference  1999年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 1999年10月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Correlation between Gas Phase and Substrate Surface on Fabrication of Low-k Films in ECR Plasma with G4F8 and Perfluorocarbon-Replacement Gases, M. Nakamura, K. Teii, S. Takashima, M. Hori, T. Goto, N. Ishii, 53rd Annual Gaseous Electronics Conference, USA, 1999.

  • Loss Kinetics of Carbon Atoms in Diamond Depositon Employing Low-Pressure Inductively Coupled Plasma 国際会議

    H. Ito, K. Teii, H. Funakoshi, M. Hori, T. Goto, M. Ito, T. Takeo

    53rd Annual Gaseous Electronics Conference  1999年10月 

     詳細を見る

    開催年月日: 1999年10月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Loss Kinetics of Carbon Atoms in Diamond Depositon Employing Low-Pressure Inductively Coupled Plasma, H. Ito, K. Teii, H. Funakoshi, M. Hori, T. Goto, M. Ito, T. Takeo, 53rd Annual Gaseous Electronics Conference, USA, 1999.

  • 低圧誘導結合型プラズマを用いたダイヤモンド薄膜の形成

    堤井 君元

    第3回名古屋大学VBLセミナー  1999年2月 

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    開催年月日: 1999年2月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:愛知   国名:日本国  

  • 低圧誘導結合プラズマを用いた100mTorr以下におけるダイヤモンド成長

    堤井 君元, 吉田 豊信

    電気学会プラズマ研究会  1998年6月 

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    開催年月日: 1998年6月

    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:茨城   国名:日本国  

  • Positive Bias Effects on the Growth of Diamond at Pressures below 100 mTorr

    K. Teii and T. Yoshida

    1997年6月 

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    開催年月日: 1997年6月

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Positive Bias Effects on the Growth of Diamond at Pressures below 100 mTorr, K. Teii and T. Yoshida, 10th Symposium on Plasma Science for Materials, Japan, 1997.

  • フッ素プラズマCVDを用いた高品質立方晶窒化ホウ素の合成(依頼講演) 招待

    堤井 君元

    日本フッ素化学会第10回フッ素化学セミナー  2016年9月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:佐賀   国名:日本国  

  • Inductively Coupled Plasma Deposition of Diamond at Pressures below 100 mTorr 国際会議

    K. Teii and T. Yoshida

    13th International Symposium on Plasma Chemistry  1997年8月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:中華人民共和国  

    Inductively Coupled Plasma Deposition of Diamond at Pressures below 100 mTorr, K. Teii and T. Yoshida, 13th International Symposium on Plasma Chemistry, China, 1997.

  • Behaviors of CFx (x=1-3) and Polymeric Species in Electron Cyclotron Resonance Fluorocarbon Plasmas 国際会議

    K. Teii, M. Ito, M. Hori, T. Goto, N. Ishii

    4th International Conference on Reactive Plasmas/16th Symposium on Plasma Processing  1998年10月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Behaviors of CFx(x=1-3) and Polymeric Species in Electron Cyclotron Resonance Fluorocarbon Plasmas, K. Teii, M. Ito, M. Hori, T. Goto, N. Ishii, 4th International Conference on Reactive Plasmas/16th Symposium on Plasma Processing, USA, 1998.

  • Optical Diagnostics of Low-Pressure Inductively Coupled Plasma for Nanocrystalline Diamond Growth 国際会議

    K. Teii, H. Ito, M. Ishikawa, M. Ito, M. Hori, T. Takeo, T. Kato, T. Goto

    24th International Conference on Phenomena in Ionized Gases  1999年7月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ポーランド共和国  

    Optical Diagnostics of Low-Pressure Inductively Coupled Plasma for Nanocrystalline Diamond Growth, K. Teii, H. Ito, M. Ishikawa, M. Ito, M. Hori, T. Takeo, T. Kato, T. Goto, 24th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Poland, 1999.

  • Observation of Polymeric Species Produced in High-Density Fluorocarbon Plasmas 国際会議

    K. Teii, M. Ito, M. Hori, T. Goto, N. Ishii

    24th International Conference on Phenomena in Ionized Gases  1999年7月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ポーランド共和国  

    Observation of Polymeric Species Produced in High-Density Fluorocarbon Plasmas, K. Teii, M. Ito, M. Hori, T. Goto, N. Ishii, 24th International Conference on Phenomena in Ionized Gases, Poland, 1999.

  • Diagnostics of Radicals and Formation of Microcrystalline Diamond in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma (INVITED) 招待 国際会議

    M. Hori, K. Teii, T. Goto

    9th International Symposium on Advanced Materials  2002年3月 

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    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Diagnostics of Radicals and Formation of Microcrystalline Diamond in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma (INVITED), M. Hori, K. Teii, T. Goto, 9th International Symposium on Advanced Materials, Japan, 2002.

  • Thomson Scattering Measurement of Electron Density and Temperature in a Microwave Plasma for Diamond Deposition 国際会議

    S. Narishige, S. Kitamura, K. Teii, K. Uchino, K. Muraoka

    54th Annual Gaseous Electronics Conference  2001年10月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Thomson Scattering Measurement of Electron Density and Temperature in a Microwave Plasma for Diamond Deposition, S. Narishige, S. Kitamura, K. Teii, K. Uchino, K. Muraoka, 54th Annual Gaseous Electronics Conference, USA, 2001.

  • Detection of H, CH3, and Ionic Species in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma for Diamond Chemical-Vapor Deposition 国際会議

    K. Teii, H. Funakoshi, S. Takashima, M. Hori, T. Goto

    16th European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases/5th International Conference on Reactive Plasmas  2002年7月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:フランス共和国  

    Detection of H, CH3, and Ionic Species in a Low-Pressure Inductively Coupled Plasma for Diamond Chemical-Vapor Deposition, K. Teii, H. Funakoshi, S. Takashima, M. Hori, T. Goto, 16th European Conference on Atomic & Molecular Physics of Ionized Gases/5th International Conference on Reactive Plasmas, France, 2002.

  • A Low-Pressure Limit of Diamond Chemical-Vapor Deposition Studied by Plasma Diagnostics 国際会議

    K. Teii, M. Hori, T. Goto

    3rd Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2003年12月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    A Low-Pressure Limit of Diamond Chemical-Vapor Deposition Studied by Plasma Diagnostics, K. Teii, M. Hori, T. Goto, 3rd Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2003.

  • Temporal Variation of Nucleation Density and Crystallinity of Diamond Prepared in Electron Cyclotron Resonance Plasma 国際会議

    S. Mizobe, K. Teii, Y. Kouzuma, K. Uchino, K. Muraoka

    3rd Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2003年12月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Temporal Variation of Nucleation Density and Crystallinity of Diamond Prepared in Electron Cyclotron Resonance Plasma, S. Mizobe, K. Teii, Y. Kouzuma, K. Uchino, K. Muraoka, 3rd Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2003.

  • 低圧イオン支援プラズマ堆積におけるダイヤモンド核発生初期過程の制御

    堤井 君元、高妻 豊、溝部 俊一、内野 喜一郎、村岡 克紀

    プラズマプロセシング研究会  2004年1月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道   国名:日本国  

  • マイクロ波CH4/H2プラズマCVDによる微結晶ダイヤモンドの合成

    堤井 君元、溝部 俊一、福富 篤、高妻 豊、内野 喜一郎、村岡 克紀

    応用物理学会学術講演会  2004年3月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:東京   国名:日本国  

  • Phase Composition and Electrical Properties of Nanocrystalline Diamond Films Grown by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

    T. Ikeda and K. Teii

    4th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2005年12月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Phase composition and electrical properties of nanocrystalline diamond films grown by microwave plasma chemical vapor deposition, T. Ikeda and K. Teii, 4th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2005.

  • Study on Surface Reaction Kinetics during Diamond Growth and Nucleation in Low-Pressure Plasmas 国際会議

    K. Teii, K. Uchino, M. Hori, T. Goto

    6th International Conference on Reactive Plasmas/23rd Symposium on Plasma Processing  2006年1月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Study on Surface Reaction Kinetics during Diamond Growth and Nucleation in Low-Pressure Plasmas, K. Teii, K. Uchino, M. Hori, T. Goto, 6th International Conference on Reactive Plasmas/23rd Symposium on Plasma Processing, Japan, 2006.

  • Phase Composition and Electrical Properties of Nanocrystalline Diamond Films Deposited by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition 国際会議

    T. Ikeda and K. Teii

    6th International Conference on Reactive Plasmas/23rd Symposium on Plasma Processing  2006年1月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Phase Composition and Electrical Properties of Nanocrystalline Diamond Films Deposited by Microwave Plasma Chemical Vapor Deposition, T. Ikeda and K. Teii, 6th International Conference on Reactive Plasmas/23rd Symposium on Plasma Processing, Japan, 2006.

  • Effect of Phase Purity and Composition on Electrical Properties in Nanocrystalline Diamond Films 国際会議

    T. Ikeda and K. Teii

    17th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides  2006年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ポルトガル共和国  

    Effect of Phase Purity and Composition on Electrical Properties in Nanocrystalline Diamond Films, T. Ikeda and K. Teii, 17th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides, Portugal, 2006.

  • Phase Control and Electrical Properties of Undoped and Nitrogen-Doped Nanodiamond Films Deposited from Ar-Rich Microwave Plasmas 国際会議

    T. Ikeda, K. Takeguchi, K. Teii

    18th International Symposium on Plasma Chemistry  2007年8月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Phase Control and Electrical Properties of Undoped and Nitrogen-Doped Nanodiamond Films Deposited from Ar-Rich Microwave Plasmas, T. Ikeda, K. Takeguchi, K. Teii, 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Japan, 2007.

  • Analyses of Fine Particle Formations by Pulsed Arc Electrohydraulic Discharges in Water with Fe and Ti Electrodes 国際会議

    T. Ikeda, H. O. Li, K. Teii, J. S. Chang

    18th International Symposium on Plasma Chemistry  2007年8月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Analyses of Fine Particle Formations by Pulsed Arc Electrohydraulic Discharges in Water with Fe and Ti Electrodes, T. Ikeda, H. O. Li, K. Teii, J. S. Chang, 18th International Symposium on Plasma Chemistry, Japan, 2007.

  • C2ラジカル 成長化学の促進による ナノダイヤモンド薄膜の相制御

    池田 知弘、堤井 君元

    応用物理学会学術講演会  2007年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌   国名:日本国  

  • ナノダイヤモンド薄膜のn 型伝導性に及ぼすsp2 アモルファスカーボン相の影響

    池田 知弘、堤井 君元

    応用物理学会学術講演会  2007年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌   国名:日本国  

  • 極低イオンエネルギー照射下におけるcBN薄膜のプラズマ合成

    堤井 君元、山尾 亮太、松本 精一郎

    応用物理学会学術講演会  2007年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:札幌   国名:日本国  

  • Effect of sp2 Carbon Phase on Electrical Properties of Nitrogen-Doped Nanodiamond Films 国際会議

    T. Ikeda and K. Teii

    6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  2007年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Effect of sp2 Carbon Phase on Electrical Properties of Nitrogen-Doped Nanodiamond Films, T. Ikeda and K. Teii, 6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Japan, 2007.

  • Discharge Characteristics of Titanium Electrode Eccentric Pulsed Arc Electrohydraulic Discharge Reactor 国際会議

    T. Ikeda, H. O. Li, K. Teii, J. S. Chang

    6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  2007年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Discharge Characteristics of Titanium Electrode Eccentric Pulsed Arc Electrohydraulic Discharge Reactor, T. Ikeda, H. O. Li, K. Teii, J. S. Chang6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Japan, 2007.

  • Phase and Morphology Evolution of Cubic Boron Nitride Films Grown in a High-Density Fluorine-Containing Plasma 国際会議

    K. Teii, R. Yamao, S. Matsumoto

    6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  2007年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Phase and Morphology Evolution of Cubic Boron Nitride Films Grown in a High-Density Fluorine-Containing Plasma, K. Teii, R. Yamao, S. Matsumoto, 6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering, Japan, 2007.

  • Transition from Semiconducting to Quasimetallic Behaviour in Nitrogen-Doped Nanodiamond Films 国際会議

    T. Ikeda and K. Teii

    18th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides  2007年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

    Transition from Semiconducting to Quasimetallic Behaviour in Nitrogen-Doped Nanodiamond Films, T. Ikeda and K. Teii, 18th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides, Germany, 2007.

  • Lower Threshold of Ion Energy for Growing cBN Films in a Fluorine-Containing Plasma 国際会議

    K. Teii, S. Shimada, S. Matsumoto

    5th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2007年12月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Lower Threshold of Ion Energy for Growing cBN Films in a Fluorine-Containing Plasma, K. Teii, S. Shimada, S. Matsumoto, 5th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2007.

  • 超低エネルギーイオン照射を用いたナノダイヤモンド成膜のための基板前処理

    堤井 君元, 松本 精一郎

    プラズマプロセシング研究会  2008年1月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:山口   国名:日本国  

  • ナノダイヤモンド薄膜の成長機構とn型伝導特性

    池田 知弘, 堤井 君元

    プラズマプロセシング研究会  2008年1月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:山口   国名:日本国  

  • ナノダイヤモンド/シリコンヘテロ接合ダイオードの電気特性評価

    池田 知弘, 堤井 君元

    応用物理学会学術講演会  2008年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:愛知   国名:日本国  

  • 低エネルギーイオン衝撃下における立方晶窒化ホウ素の三次元島成長

    堤井 君元、水迫 優晴、松本 精一郎

    応用物理学会学術講演会  2008年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:愛知   国名:日本国  

  • Optimization of Electron Transport Properties for Fabrication of pn Diodes using n-Type Nanodiamond Films 国際会議

    T. Ikeda and K. Teii

    19th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides  2008年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:スペイン  

    Optimization of Electron Transport Properties for Fabrication of pn Diodes using n-Type Nanodiamond Films, T. Ikeda and K. Teii, 19th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides, Spain, 2008.

  • ナノダイヤモンド膜の形成機構と電気伝導特性

    池田 知弘, 堤井 君元

    電気学会プラズマ研究会  2008年10月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:宮城   国名:日本国  

  • 異方性ナノカーボン膜のプラズマCVD法による合成と電気特性評価

    嶋田 翔三郎, 中島 誠宏, 池田 知弘, 堤井 君元

    電気学会プラズマ研究会  2008年12月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:京都   国名:日本国  

  • n型ナノダイヤモンド膜の形成と電気特性評価

    池田 知弘, 堤井 君元

    プラズマ科学シンポジウム/プラズマプロセシング研究会  2009年2月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:愛知   国名:日本国  

  • マイクロ波C2リッチプラズマを用いたナノカーボン膜の合成

    嶋田 翔三郎, 中島 誠宏, 堤井 君元

    電気学会全国大会  2009年3月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道   国名:日本国  

  • プラズマCVD法により形成したナノカーボン膜の電気特性の評価

    嶋田 翔三郎, 中島 誠宏, 池田 知弘, 堤井 君元

    電気学会全国大会  2009年3月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:北海道   国名:日本国  

  • 異方性ナノカーボン膜のプラズマCVD法による合成と電界放出特性評価

    中島 誠宏, 嶋田 翔三郎, Alfred T. H. Chuang, 堤井 君元

    電気学会プラズマ研究会  2009年6月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:佐賀   国名:日本国  

  • n型ナノダイヤモンド膜の形成とダイオードへの応用

    古閑 彰, 池田 知弘, 堤井 君元

    電気学会プラズマ・放電・パルスパワー合同研究会  2009年8月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:京都   国名:日本国  

  • Effect of Low-Energy Ion Irradiation on the Growth and Properties of Cubic Boron Nitride Films 国際会議

    K. Teii, R. Yamao, S. Matsumoto

    15th International Symposium "Radiation Effects in Insulator"  2009年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:イタリア共和国  

    Effect of low-energy ion irradiation on the growth and properties of cubic boron nitride films, K. Teii, R. Yamao, S. Matsumoto, 15th International Symposium "Radiation Effects in Insulator", Italy, 2009.

  • Origin of Low Threshold Field Emission from Nitrogen-Incorporated Nanodiamond Films 国際会議

    K. Teii, M. Nakashima, T. Ikeda

    20th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides  2009年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ギリシャ共和国  

    Origin of Low Threshold Field Emission from Nitrogen-Incorporated Nanodiamond Films, K. Teii, M. Nakashima, T. Ikeda, 20th European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides, Greece, 2009.

  • Structural Evolution of Cubic Boron Nitride Islands in a High-Density Fluorine-Containing Plasma 国際会議

    T. Hori, Y. Mizusako, R. Yamao, K. Teii, S. Matsumoto

    16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams  2009年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Structural evolution of cubic boron nitride islands in a high-density fluorine-containing plasma, T. Hori, Y. Mizusako, R. Yamao, K. Teii, S. Matsumoto, 16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams, Japan, 2009.

  • Growth and Characterization of Hard Cubic Boron Nitride Films by Plasma-Assisted Deposition using Fluorine Chemistry 国際会議

    K. Teii and S. Matsumoto

    16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams  2009年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Growth and characterization of hard cubic boron nitride films by plasma-assisted deposition using fluorine chemistry, K. Teii and S. Matsumoto, 16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams, Japan, 2009.

  • SiC and Nanocrystalline Diamond Coating on Si Substrates Fabricated by Microwave Plasma CVD 国際会議

    Y. Kato, T. Horikawa, T. Ikeda, K. Teii

    16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams  2009年9月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    SiC and nanocrystalline diamond coating on Si substrates fabricated by microwave plasma CVD, Y. Kato, T. Horikawa, T. Ikeda, K. Teii, 16th International Conference on Surface Modification of Materials by Ion Beams, Japan, 2009.

  • Growth and Characterization of Epitaxial 3C-SiC Films by Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議

    A. S. M. Miah, A. Koga, K. Teii, Y. Kato

    2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials  2010年3月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Growth and characterization of epitaxial 3C-SiC films by microwave plasma-enhanced chemical vapor deposition, A. S. M. Miah, A. Koga, K. Teii, Y. Kato, 2nd International Symposium on Advanced Plasma Science and its Applications for Nitrides and Nanomaterials, Japan, 2010.

  • ナノカーボン膜のプラズマ合成と電界放出特性

    中島 誠宏, 嶋田 翔三郎, 堤井 君元

    電気学会プラズマ研究会  2010年5月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:兵庫   国名:日本国  

  • マイクロ波プラズマCVD法による炭素ナノウォールの形成と電界放出機構

    中島 誠宏、嶋田 翔三郎、堤井 君元

    応用物理学会学術講演会  2010年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎   国名:日本国  

  • ナノダイヤモンド/炭素ナノウォール複合膜のプラズマCVD合成と電界放出特性

    中島 誠宏、堤井 君元

    応用物理学会学術講演会  2010年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎   国名:日本国  

  • プラズマ曝露による窒化ホウ素膜の表面改質

    川上 真司、堤井 君元

    応用物理学会学術講演会  2010年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:長崎   国名:日本国  

  • Synthesis and Electrical Characterization of n-Type Nanocrystalline Diamond Films by Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition 国際会議

    K. Teii and T. Ikeda

    63rd Gaseous Electronics Conference/7th International Conference on Reactive Plasmas  2010年10月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:フランス共和国  

    Synthesis and Electrical Characterization of n-Type Nanocrystalline Diamond Films by Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition, K. Teii, T. Ikeda, 63rd Gaseous Electronics Conference/7th International Conference on Reactive Plasmas, France, 2010.

  • アルミ基板上のナノダイヤモンド被膜の熱および電気伝導特性

    堤井 君元、池田 知弘

    軽金属学会講演大会  2010年11月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:新潟   国名:日本国  

  • Thermal and Electrical Conduction Properties of Nanocrystalline Diamond/Amorphous Carbon Composite Films 国際会議

    K. Teii and T. Ikeda

    Materials Research Society Fall Meeting  2010年11月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Thermal and Electrical Conduction Properties of Nanocrystalline Diamond/Amorphous Carbon Composite Films, K. Teii and T. Ikeda, Materials Research Society Fall Meeting, Boston, 2010.

  • Growth and Field Emission Properties of Boron Nitride Island Films by Low-Energy Ion-Assisted Deposition 国際会議

    K. Teii, Y. Utoda, R. Yamao, S. Matsumoto

    Materials Research Society Fall Meeting  2010年11月 

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    記述言語:英語   会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Growth and Field Emission Properties of Boron Nitride Island Films by Low-Energy Ion-Assisted Deposition, K. Teii, Y. Utoda, R. Yamao, and S. Matsumoto, Materials Research Society Fall Meeting, Boston, 2010.

  • Synthesis and Electrical Properties of Nanodiamond and Nanowall Films by Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii

    3rd International Workshop on Plasma Scientech for All Something  2011年1月 

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    会議種別:シンポジウム・ワークショップ パネル(公募)  

    国名:日本国  

    Synthesis and Electrical Properties of Nanodiamond and Nanowall Films by Microwave Plasma-Enhanced Chemical Vapor Deposition (INVITED), K. Teii, 3rd International Workshop on Plasma Scientech for All Something, Nagoya, 2011.

  • Synthesis and Thermal Transport Properties of Nanocrystalline Diamond/Amorphous Carbon Composite Films 国際会議

    K. Teii, J. H.C. Yang, T. Ikeda

    22nd European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides  2011年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:ドイツ連邦共和国  

    Synthesis and Thermal Transport Properties of Nanocrystalline Diamond/Amorphous Carbon Composite Films, K. Teii, J. H.C. Yang, T. Ikeda, 22nd European Conference on Diamond, Diamond-Like Materials, Carbon Nanotubes, and Nitrides, Germany, 2011.

  • Fabrication and Characterization of Si/ and SiC/Nanocrystalline Diamond pn Junctions 国際会議

    M. Goto, R. Amano, Y. Kato, K. Teii

    14th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials  2011年9月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Fabrication and Characterization of Si/ and SiC/Nanocrystalline Diamond pn Junctions, M. Goto, R. Amano, Y. Kato, K. Teii, 14th International Conference on Silicon Carbide and Related Materials, USA, 2011.

  • Enhanced Wettability of Nanocrystalline Diamond Films for Biocoating Applications 国際会議

    J. H.C. Yang and K. Teii

    Materials Research Society Fall Meeting  2011年11月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Enhanced Wettability of Nanocrystalline Diamond Films for Biocoating Applications, J. H.C. Yang and K. Teii, Materials Research Society Fall Meeting, Boston, 2011.

  • Control of Thermal and Electrical Conduction Properties of Nanocrystalline Diamond Films 国際会議

    K. Teii and T. Ikeda

    Materials Research Society Fall Meeting  2011年11月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Control of Thermal and Electrical Conduction Properties of Nanocrystalline Diamond Films, K. Teii and T. Ikeda, Materials Research Society Fall Meeting, Boston, 2011.

  • Field Emission from Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films Deposited on Scratched Substrates 国際会議

    C.Y. Cheng, M. Nakashima, K. Teii

    Materials Research Society Fall Meeting  2011年11月 

     詳細を見る

    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:アメリカ合衆国  

    Field Emission from Nanocrystalline Diamond/Carbon Nanowall Composite Films Deposited on Scratched Substrates, C.Y. Cheng, M. Nakashima, and K. Teii, Materials Research Society Fall Meeting, Boston, 2011.

  • 立方晶窒化ホウ素膜のプラズマ合成と電界放出特性

    堤井 君元, 中隈 俊就, 松本 精一郎

    電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会  2011年12月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:神奈川   国名:日本国  

  • Plasma Deposition of Wide-Gap Materials for High-Temperature Condition (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii

    14th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics/2nd Workshop for Nagoya University-Sungkyunkwan University Joint Institute for Plasma-Nano Materials  2012年1月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:日本国  

    Plasma Deposition of Wide-Gap Materials for High-Temperature Condition (INVITED), K. Teii, 14th International Workshop of Advanced Plasma Processing and Diagnostics/2nd Workshop for NU- SKKU Joint Institute for Plasma-Nano Materials, Fukuoka, 2012.

  • Plasma Deposition and Electrical Characterization of Wide-Gap Materials for High-Temperature Condition (INVITED) 招待 国際会議

    K. Teii

    7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2012年4月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Plasma Deposition and Electrical Characterization of Wide-Gap Materials for High-Temperature Condition (INVITED), K. Teii, 7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2012.

  • Enhanced Wettability of Nanocrystalline Diamond and Boron Nitride Films for Biocoating Applications 招待 国際会議

    J. H. C. Yang, S. Kawakami, K. Teii

    7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  2012年4月 

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    会議種別:口頭発表(一般)  

    国名:台湾  

    Enhanced Wettability of Nanocrystalline Diamond and Boron Nitride Films for Biocoating Applications, J. H. C. Yang, S. Kawakami, K. Teii, 7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology, Taiwan, 2012.

  • ナノダイヤモンド膜のプラズマCVD合成と電気電子応用(依頼講演) 招待

    加藤 喜峰, 堤井 君元

    第15回応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会新領域研究会/電気学会プラズマ研究会「ダイヤモンドおよびグラフェン関連物質のプラズマプロセシングと先進応用」  2013年11月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:名古屋   国名:日本国  

  • 新しい立方晶窒化ホウ素が拓く産業応用:超硬コーティングとパワー半導体(依頼講演) 招待

    堤井 君元

    平成27年度九州大学高等研究院・九州先端科学技術研究所研究交流会  2016年1月 

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    記述言語:日本語   会議種別:口頭発表(一般)  

    開催地:福岡   国名:日本国  

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MISC

  • ナノダイヤモンド膜のプラズマ合成と電気・電子応用

    堤井 君元

    電気学会誌 Vol. 135, No. 3, 142-144頁   2015年3月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

  • Plasma Deposition of Diamond at Low Pressures: A Review

    K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci., Vol. 42, pp. 3862-3869   2014年12月

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    記述言語:英語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

    K. Teii, "Plasma Deposition of Diamond at Low Pressures: A Review", IEEE Trans. Plasma Sci., Vol. 42, pp. 3862-3869

  • Introduction to the Special Issue on the APSPT 2013

    J.-S. Wu, C.-C. Hsu, J. P. Chu, K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci. Vol. 42, pp. 3654-3655   2014年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    Introduction to the Special Issue on the APSPT 2013

  • 中間気圧マイクロ波プラズマCVDの最新動向―ダイヤモンドからナノカーボンへの展開―

    堤井 君元

    電気学会論文誌A, Vol. 131, No. 1, 11-15頁   2011年1月

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    記述言語:日本語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

  • Study on Polymeric Neutral Species in High-Density Fluorocarbon Plasmas

    K. Teii, M. Hori, M. Ito, T. Goto, N. Ishii

    J. Vac. Sci. Technol. A, Vol. 18, pp. 1-9   2000年1月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

    K. Teii, M. Hori, M. Ito, T. Goto, N. Ishii, "Study on Polymeric Neutral Species in High-Density Fluorocarbon Plasmas", J. Vac. Sci. Technol. A, Vol. 18, pp. 1-9

  • 低エネルギーイオン照射下の プラズマ成膜技術

    堤井 君元

    プラズマ材料表面処理技術の最新動向(電気学会プラズマ材料表面処理技術の動向調査専門委員会)   2023年2月

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    記述言語:日本語   掲載種別:機関テクニカルレポート,技術報告書,プレプリント等  

  • Guest Editorial Introduction to the Special Issue on the 10th Asia-Pacific Symposium on Plasma Technology (APSPT 2017)

    C.-C. Hsu, T.-C. Wei, Y.-H. Liao, Y. Tanaka, K. Teii

    IEEE Trans. Plasma Sci. Vol. 47, pp. 1035-1036   2019年2月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    Guest Editorial Introduction to the Special Issue on the 10th Asia-Pacific Symposium on Plasma Technology (APSPT 2017)

  • Introduction to the Special Issue on The 9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-9), and The 28th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-28)

    H. Akatsuka, J.-S. Wu, K. Teii, K. Takaki

    IEEE Trans. Plasma Sci. Vol. 44, pp. 3050-3051   2016年12月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    Introduction to the Special Issue on The 9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology (APSPT-9), and The 28th Symposium on Plasma Science for Materials (SPSM-28)

  • ”酸化に強い被膜法開発”

    堤井 君元

    日刊工業新聞平成28年10月12日号   2016年10月

     詳細を見る

    記述言語:日本語  

  • 第15回プラズマ新領域研究会

    堤井君元

    応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会会報, No. 60, 43頁   2014年6月

     詳細を見る

    記述言語:日本語   掲載種別:機関テクニカルレポート,技術報告書,プレプリント等  

  • Special Issue on Basics and Applications of Plasma Technology

    J.-S. Wu, K. Teii, J. P. Chu, C.-C. Hsu

    IEEE Trans. Plasma Sci. Vol. 41, pp. 3190-3191   2013年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    Special Issue on Basics and Applications of Plasma Technology

  • Special Issue on Basics and Applications of Plasma Technology

    J.-S. Wu, K. Teii, J. P. Chu, C.-C. Hsu

    IEEE Trans. Plasma Sci. Vol. 41, pp. 2574-2575   2013年9月

     詳細を見る

    記述言語:英語  

    Special Issue on Basics and Applications of Plasma Technology

  • High Performance Field Emission from Carbon Nanowalls and Carbon Nanowall/Nanocrystalline Diamond Composites

    K. Teii

    2011年11月

     詳細を見る

    記述言語:英語   掲載種別:記事・総説・解説・論説等(学術雑誌)  

    High Performance Field Emission from Carbon Nanowalls and Carbon Nanowall/Nanocrystalline Diamond Composites

  • 硬質窒化ホウ素薄膜の平坦化とガラス成型用モールドへの応用

    堤井君元

    KITEC INFORMATION, 九州産業技術センター, No. 252, 69-74頁   2009年10月

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    記述言語:日本語   掲載種別:機関テクニカルレポート,技術報告書,プレプリント等  

  • 立方晶窒化ホウ素厚膜ウルトラハードコーティングの実用化研究

    堤井君元

    KITEC INFORMATION, 九州産業技術センター, No. 250, 23-27頁   2009年4月

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    記述言語:日本語   掲載種別:機関テクニカルレポート,技術報告書,プレプリント等  

  • 第5回APSPT開催報告

    堤井君元

    電気学会論文誌A, Vol. 128, No. 7, 502頁(2008)   2008年7月

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    記述言語:日本語   掲載種別:機関テクニカルレポート,技術報告書,プレプリント等  

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産業財産権

特許権   出願件数: 11件   登録件数: 11件
実用新案権   出願件数: 0件   登録件数: 0件
意匠権   出願件数: 0件   登録件数: 0件
商標権   出願件数: 0件   登録件数: 0件

所属学協会

  • Materials Research Society

  • 応用物理学会

  • 電気学会

委員歴

  • 電気学会放電・プラズマ・パルスパワー技術委員会   運営委員   国内

    2024年4月 - 2027年3月   

  • 電気学会プラズマ材料表面処理技術の動向調査専門委員会   運営委員   国内

    2019年1月 - 2021年12月   

  • 電気学会放電・プラズマ・パルスパワー技術委員会   運営委員   国内

    2019年1月 - 2021年3月   

  • 電気学会プラズマ・パルスパワー技術委員会   運営委員   国内

    2018年1月 - 2018年12月   

  • 電気学会プラズマ技術委員会   運営委員   国内

    2014年6月 - 2017年12月   

  • 応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会   幹事   国内

    2012年4月 - 2014年3月   

  • 電気学会基礎・材料・共通部門論文委員会(A2グループ)   運営委員   国内

    2010年4月 - 現在   

  • 電気学会プラズマ技術委員会   運営委員   国内

    2010年4月 - 2013年3月   

  • 電気学会基礎・材料・共通部門編修委員会   幹事   国内

    2009年8月 - 2011年3月   

  • 電気学会プラズマ技術委員会   幹事   国内

    2008年4月 - 2010年3月   

  • 電気学会プラズマ技術委員会   幹事補佐   国内

    2005年11月 - 2008年3月   

  • 電気学会   活動推進員   国内

    2001年4月 - 2026年3月   

  • 電気学会   九州支部連合大会プログラム委員   国内

    2001年4月 - 2024年3月   

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学術貢献活動

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2023年

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    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:6

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2022年

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    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:6

  • IEEE Transactions on Plasma Science 国際学術貢献

    2021年6月 - 2023年2月

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    種別:学会・研究会等 

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2021年

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    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:7

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2020年

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    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:7

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 金沢大学 ) 2019年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:250

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    11th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  ( Japan ) 2019年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:250

  • IEEE Transactions on Plasma Science 国際学術貢献

    2019年5月 - 2021年1月

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    種別:学会・研究会等 

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2019年

     詳細を見る

    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:7

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2018年

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    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:6

    日本語雑誌 査読論文数:2

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 中原大学 ) 2017年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:200

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    10th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  ( Taiwan ) 2017年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:200

  • IEEE Transactions on Plasma Science 国際学術貢献

    2017年12月 - 2018年12月

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    種別:学会・研究会等 

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2017年

     詳細を見る

    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:6

  • International Scientific Committee 国際学術貢献

    22nd International Conference on Advanced Oxidation Technologies for Treatment of Water, Air and Soil  ( Holiday Inn Atlanta UnitedStatesofAmerica ) 2016年11月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • Organizing Committee 国際学術貢献

    21st International Conference on Gas Discharges and Their Applications  ( Japan ) 2016年9月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:500

  • 学術論文等の審査

    役割:査読

    2016年

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    種別:査読等 

    外国語雑誌 査読論文数:8

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    9th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology/28th Symposium on Plasma Science for Materials  ( Japan ) 2015年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:300

  • Executive Committee 国際学術貢献

    8th International Conference on Reactive Plasmas/31th Symposium on Plasma Processing  ( Japan ) 2014年2月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:800

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 国立交通大学 ) 2013年12月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:300

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    8th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  ( Taiwan ) 2013年12月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • Organizing Committee 国際学術貢献

    15th Cross Straits Symposium on Energy and Environmental Science and Technology  ( China ) 2013年11月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship)

    第15回応用物理学会プラズマエレクトロニクス分科会新領域研究会/電気学会プラズマ研究会  ( 名城大学名駅サテライト ) 2013年11月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • 組織委員

    第26回プラズマ材料科学シンポジウム  ( 九州大学・百年講堂 ) 2013年9月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • Local Organizing Committee 国際学術貢献

    14th Cross Straits Symposium on Energy and Environmental Science and Technology  ( Japan ) 2013年2月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • 実行委員

    第30回応用物理学会プラズマプロセシング研究会  ( アクトシティ浜松・研修センター ) 2013年1月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:400

  • 座長(Chairmanship)

    第30回応用物理学会プラズマプロセシング研究会  ( アクトシティ浜松 ) 2013年1月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    7th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  ( Taiwan ) 2012年4月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 台北医科大学 ) 2012年4月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:200

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ・パルスパワー合同研究会  ( 東京工業大学 ) 2011年12月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • Local Organizing Committee 国際学術貢献

    13th Cross Straits Symposium on Materials, Energy, and Environmental Engineering  ( Japan ) 2011年11月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • プログラム委員

    平成22年電気学会基礎・材料・共通部門大会  ( 琉球大学 ) 2010年9月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:500

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    6th Asia-Pacific International Symposium on the Basics and Applications of Plasma Technology  ( Taiwan ) 2009年12月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 東京都市大学 ) 2009年11月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 佐賀大学 ) 2009年6月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 同志社大学 ) 2008年12月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

  • Local Organizing Committee 国際学術貢献

    10th Cross Straits Symposium on Materials, Energy, and Environmental Engineering  ( Japan ) 2008年11月

     詳細を見る

    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • Local Organizing Committee 国際学術貢献

    14th International Congress on Plasma Physics  ( Japan ) 2008年9月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:500

  • 座長(Chairmanship)

    応用物理学会学術講演会  ( 中部大学 ) 2008年9月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 名古屋工業大学 ) 2008年5月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 呼子ロッジ ) 2008年1月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • International Organizing Committee 国際学術貢献

    5th Asia-Pacific International Symposium on the Basic and Application of Plasma Technology  ( Taiwan ) 2007年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:150

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 同志社大学 ) 2007年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 高雄科技大学 ) 2007年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 浦項工科大学 ) 2007年11月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • Local Organizing Committee 国際学術貢献

    6th Asian-European International Conference on Plasma Surface Engineering  ( Japan ) 2007年9月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:300

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会プラズマ研究会  ( 武蔵工業大学 ) 2006年5月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 雲林科技大学 ) 2005年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • 座長(Chairmanship)

    電気学会九州支部講演大会  ( 福岡工業大学 ) 2005年9月

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    種別:大会・シンポジウム等 

  • Local Organizing Committee 国際学術貢献

    7th Asia-Pacific Conference on Plasma Science and Technology/17th Symposium on Plasma Science for Materials  ( Japan ) 2004年6月 - 2004年7月

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    種別:大会・シンポジウム等 

    参加者数:400

  • 座長(Chairmanship) 国際学術貢献

    ( 龍華科技大学 ) 2003年12月

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    種別:大会・シンポジウム等 

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共同研究・競争的資金等の研究課題

  • ダイヤモンドナノ粒子で修飾したナノウォール階層構造体の作製と電界放出源への応用

    2024年

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    資金種別:寄附金

  • 電荷移動ドープ窒化ホウ素半導体を用いた表面伝導素子の開発

    2023年

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    資金種別:寄附金

  • ナノカーボンハイブリッド電子源の開発 国際共著

    2022年10月 - 2024年9月

    日本学術振興会 

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    担当区分:研究代表者 

  • ナノ構造ダイヤモンドハイブリッド電子源の開発とオプトエレクトロニクス応用

    2022年 - 2024年

    日本学術振興会  二国間交流

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    担当区分:研究代表者  資金種別:共同研究

  • 高品質窒化ホウ素半導体への表面ドーピング

    2018年4月 - 2023年3月

    日本学術振興会 

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    担当区分:研究代表者 

  • 高品質窒化ホウ素半導体への表面ドーピング

    研究課題/領域番号:18H01711  2018年 - 2022年

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 遷移金属上への高品質立方晶窒化ホウ素の直接コーティング

    2018年

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    資金種別:寄附金

  • 超硬合金基材への超硬質窒化ホウ素の直接コーティング

    2017年

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    資金種別:寄附金

  • 遷移金属表面の合金化による高密着性硬質窒化ホウ素コーティングの開発

    2017年

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    資金種別:寄附金

  • 遷移金属上への硬質窒化ホウ素コーティングの直接形成

    2016年

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    資金種別:寄附金

  • 高品質窒化ホウ素半導体へのin-situドーピング

    2014年4月 - 2018年3月

    日本学術振興会 

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    担当区分:研究代表者 

  • 高品質窒化ホウ素半導体へのin-situドーピング

    研究課題/領域番号:26289241  2014年 - 2017年

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 溶融半導体中パルス放電の生成と結晶成長への応用

    研究課題/領域番号:26630368  2014年 - 2015年

    科学研究費助成事業  挑戦的萌芽研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 高品質窒化ホウ素半導体の電気伝導特性制御と高温高出力素子への応用

    研究課題/領域番号:23360288  2011年 - 2013年

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(B)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 溶融半導体中パルス放電の生成と結晶成長への応用

    研究課題/領域番号:23656467  2011年 - 2012年

    科学研究費助成事業  挑戦的萌芽研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • ナノ結晶ダイヤモンド/アモルファス炭素複合膜の熱および電気特性制御と応用

    2011年

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    資金種別:寄附金

  • ダイヤモンドナノ粒子分散膜を用いた高温対応ヒートシンクの開発

    2011年

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    資金種別:寄附金

  • 高品質立方晶窒化ホウ素が拓く高温高出力エレクトロニクス

    2010年 - 2013年

    日本学術振興会  最先端・次世代研究開発支援プログラム

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    担当区分:研究代表者  資金種別:共同研究

  • 硬質窒化ホウ素膜の表面機能制御と生体親和性評価

    2010年

    科学技術振興機構A-Step探索タイプ

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • 海外渡航費補助

    2010年

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    資金種別:寄附金

  • 国際研究集会参加助成

    2010年

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    資金種別:寄附金

  • 海外交流補助金

    2010年

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    資金種別:寄附金

  • 高品質立方晶窒化ホウ素が拓く高温高出力エレクトロニクス

    2010年

    教育研究プログラム・研究拠点形成プロジェクト(P&P)特別枠経費

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    担当区分:研究代表者  資金種別:学内資金・基金等

  • 硬質窒化物皮膜の成膜技術確立

    2009年9月 - 2012年3月

    共同研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:その他産学連携による資金

  • 硬質膜の緻密化に関する研究

    2009年7月 - 2010年3月

    共同研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:その他産学連携による資金

  • 半導体素子の宇宙環境プラズマ照射への耐性評価

    2009年 - 2010年

    宙空環境センター共同研究費

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    担当区分:研究代表者  資金種別:学内資金・基金等

  • ハイス上への超硬質窒化ホウ素コーティング

    2009年

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    資金種別:寄附金

  • 立方晶窒化ホウ素コーティングを用いた難削材用ワイドユース超硬工具の開発

    2008年 - 2012年

    新エネルギー・産業技術総合開発機構産業技術研究助成事業(若手研究グラント)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • ナノダイヤモンド/アモルファスカーボン複合膜の高温用ヒートシンクへの応用

    2008年

    科学技術振興機構シーズ発掘試験研究(A)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • 硬質窒化ホウ素薄膜の平坦化とガラス成型用モールドへの応用

    2008年

    九州産業技術センター九州地域戦略産業イノベーション創出事業研究開発委託事業

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • 立方晶窒化ホウ素コーティングを用いた高温プレス成形用金型の開発

    2008年

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    資金種別:寄附金

  • ワイドバンドギャップ立方晶窒化ホウ素薄膜の表面機能制御と電界放出性能評価

    2008年

      詳細を見る

    資金種別:寄附金

  • 窒化ホウ素超硬質薄膜の表面平坦化とガラスプレス加工用モールドへの応用

    2008年

      詳細を見る

    資金種別:寄附金

  • ナノダイヤモンド膜を被覆した高温用アルミ製ヒートシンクの作製と性能評価

    2008年

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    資金種別:寄附金

  • ダイヤモンドナノ粒子分散膜の熱・電気特性制御と応用

    2008年

      詳細を見る

    資金種別:寄附金

  • 窒化ホウ素膜の電気絶縁性の探査に関する研究

    2007年11月 - 2009年3月

    共同研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:その他産学連携による資金

  • 超低損失デバイス用n型ナノダイヤモンド薄膜の粒界伝導制御と性能評価

    2007年 - 2008年

    日本学術振興会  科学研究費助成事業  基盤研究(C)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 立方晶窒化ホウ素厚膜形成法を用いたウルトラハードコーティング技術の開発

    2007年 - 2008年

    福岡県産業・科学技術振興財団産学官事業

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • 宇宙環境プラズマ照射による高分子材料の物性変化に関する研究

    2007年 - 2008年

    宙空環境センター共同研究費

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    担当区分:研究代表者  資金種別:学内資金・基金等

  • ガラスのプレス成形金型用超硬度コーティング材の開発

    2007年

    福岡県産業・科学技術振興財団研究FS事業

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • 立方晶窒化ホウ素厚膜ウルトラハードコーティングの実用化研究

    2007年

    九州産業技術センター九州地域戦略産業イノベーション創出事業研究開発委託事業

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

  • ナノ結晶ダイヤモンド/アモルファスカーボン複合化による高温用ヒートシンクの開発

    2007年

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    資金種別:寄附金

  • ナノ結晶/アモルファス複合構造n型ダイヤモンド薄膜の高性能化とデバイス応用

    2007年

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    資金種別:寄附金

  • 超低損失デバイス開発のためのナノ結晶/アモルファス複合構造n型ダイヤモンド薄膜の高性能化とダイオード性能評価

    2007年

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    資金種別:寄附金

  • ナノカーボン/窒化ホウ素へテロ構造薄膜電子エミッターの開発

    2007年

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    資金種別:寄附金

  • 立方晶窒化ホウ素厚膜形成技術を用いた難削材加工用ツールの開発

    2007年

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    資金種別:寄附金

  • 立方晶窒化ホウ素厚膜形成技術の難削材加工用ツールへの応用

    2007年

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    資金種別:寄附金

  • ナノダイヤモンド/アモルファスカーボンハイブリッドn型半導体薄膜の相制御と電気特性評価

    2006年

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    資金種別:寄附金

  • プラズマCVDによって得られるBN膜の電気特性の改善

    2005年4月 - 2006年1月

    受託研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:その他産学連携による資金

  • プラズマCVD装置にて成膜するBN膜の電気特性改善

    2005年1月 - 2005年3月

    受託研究

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    担当区分:研究代表者  資金種別:その他産学連携による資金

  • プラズマー容器壁相互作用による中性高次分子発生機構に関する研究

    2005年 - 2006年

    科学研究費助成事業  若手研究(B)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 半導体プロセスにおける高次分子検出用電子付着質量分析法の開発

    2002年 - 2003年

    科学研究費助成事業  若手研究(B)

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    担当区分:研究代表者  資金種別:科研費

  • 高品質へテロエピタキシャルダイヤモンドの大面積堆積

    2002年

    科学技術振興事業団FS研究調査

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    担当区分:研究代表者  資金種別:受託研究

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教育活動概要

  • 2001年3月より、大学院総合理工学研究院融合創造理工学部門の教員として、教育・研究活動に従事している。主に大学院生に対する指導を行い、修士論文および博士論文作成における研究指導に尽力している。2001-2004年(前期)に、大学院向けに「電気プロセス工学基礎」と「量子プロセス理工学基礎2」を担当した。2002-2004年(後期)には、学部向けに「数学演習」を担当した。2005年(前期)は、大学院向けに「プラズマ量子工学特論」を担当し、2007-2019年度は、名称変更により「プラズマ量子工学特論」に代わり「光エレクトロニクス特論」を担当した。2005-2020年度(前期)は、大学院向けに「基礎電磁気学」を担当した。2007-2008および2010年度は、工学部機械航空工学科「一般電気工学第一(二年生、後期)」を担当した。 2011年度は、工学部機械航空工学科「電気工学基礎(二年生、後期)」を担当した。2011-2012年度は、芸術工学部環境設計学科および画像設計学科「力学基礎・同演習(一年生、前期)」を担当した。2012-2013年度は、工学部物質科学科「電気工学基礎(一年生、後期)」を担当した。2014年度は、理学部数学科「基幹物理学IB演習(一年生、後期)」を担当した。2015-2017年度は、理学部数学科「基幹物理学IB(一年生、後期)」を担当した。2015-2021年度は、工学部物質科学科「電気工学基礎(二年生、前期)」を担当した。2020年度は、理学部数学科「基幹物理学IB演習(一年生、後期)」を担当した。2020年度は、理学部数学科「基幹物理学IB演習(一年生、後期)」を担当した。2021年度は、理系ディシプリン科目「電磁気学基礎演習(一年生、秋学期)」および「熱力学基礎演習(一年生、冬学期)」を担当した。2021年度からは、大学院向けに「電子デバイス基礎」を担当している。2023年度からは、工学部融合基礎工学科「機械電気科学実験I(三年生、春学期)」および「電気エネルギー工学(三年生、夏学期)」を担当している。2024年度からは、工学部融合基礎工学科「半導体・デバイス工学B(四年生、夏学期)」を担当している。

担当授業科目

  • 半導体・デバイス工学B

    2024年6月 - 2024年8月   夏学期

  • 電気エネルギー工学

    2024年6月 - 2024年8月   夏学期

  • 機械電気科学実験I

    2024年4月 - 2024年6月   春学期

  • 電子デバイス基礎

    2024年4月 - 2024年6月   春学期

  • 電気エネルギー工学

    2023年6月 - 2023年8月   夏学期

  • 機械電気科学実験I

    2023年4月 - 2023年6月   春学期

  • 電子デバイス基礎

    2023年4月 - 2023年6月   春学期

  • 電子デバイス基礎

    2022年4月 - 2022年6月   春学期

  • 熱力学基礎演習

    2021年12月 - 2022年2月   冬学期

  • 電磁気学基礎演習

    2021年10月 - 2021年12月   秋学期

  • 電気工学基礎

    2021年4月 - 2021年9月   前期

  • 電子デバイス基礎

    2021年4月 - 2021年6月   春学期

  • 基幹物理学ⅠB演習

    2020年10月 - 2021年3月   後期

  • 電気工学基礎

    2020年4月 - 2020年9月   前期

  • 光エレクトロニクス特論

    2019年10月 - 2020年3月   後期

  • 電気工学基礎

    2019年4月 - 2019年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2018年4月 - 2018年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2018年4月 - 2018年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2018年4月 - 2018年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2018年4月 - 2018年6月   春学期

  • 基幹物理学ⅠB

    2017年10月 - 2018年3月   後期

  • 基幹物理学IB

    2017年10月 - 2018年3月   後期

  • 光エレクトロニクス特論

    2017年10月 - 2018年3月   後期

  • 基礎電磁気学

    2017年4月 - 2017年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2017年4月 - 2017年9月   前期

  • 一般電気工学第一

    2017年4月 - 2017年9月   前期

  • 電気工学大意第一

    2017年4月 - 2017年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2017年4月 - 2017年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2017年4月 - 2017年6月   春学期

  • 基幹物理学IB

    2016年10月 - 2017年3月   後期

  • 電気工学基礎

    2016年4月 - 2016年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2016年4月 - 2016年9月   前期

  • 光エレクトロニクス特論

    2015年10月 - 2016年3月   後期

  • 基幹物理学IB

    2015年10月 - 2016年3月   後期

  • 電気工学基礎

    2015年4月 - 2015年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2015年4月 - 2015年9月   前期

  • 基幹物理学IB演習

    2014年10月 - 2015年3月   後期

  • 基礎電磁気学

    2014年4月 - 2014年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2013年10月 - 2014年3月   後期

  • 基礎電磁気学

    2013年4月 - 2013年9月   前期

  • 力学基礎・同演習

    2013年4月 - 2013年9月   前期

  • 光エレクトロニクス特論

    2013年4月 - 2013年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2012年10月 - 2013年3月   後期

  • 基礎電磁気学

    2012年4月 - 2012年9月   前期

  • 力学基礎・同演習

    2012年4月 - 2012年9月   前期

  • 電気工学基礎

    2011年10月 - 2012年3月   後期

  • 光エレクトロニクス特論

    2011年4月 - 2011年9月   前期

  • 力学基礎・同演習

    2011年4月 - 2011年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2011年4月 - 2011年9月   前期

  • 一般電気工学第一

    2010年10月 - 2011年3月   後期

  • 基礎電磁気学

    2010年4月 - 2010年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2009年4月 - 2009年9月   前期

  • 光エレクトロニクス特論

    2009年4月 - 2009年9月   前期

  • 一般電気工学第一

    2008年10月 - 2009年3月   後期

  • 基礎電磁気学

    2008年4月 - 2008年9月   前期

  • 一般電気工学第一

    2007年10月 - 2008年3月   後期

  • 光エレクトロニクス特論

    2007年4月 - 2007年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2007年4月 - 2007年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2006年4月 - 2006年9月   前期

  • 基礎電磁気学

    2005年4月 - 2005年9月   前期

  • プラズマ量子工学特論

    2005年4月 - 2005年9月   前期

  • 量子プロセス理工学基礎2

    2004年4月 - 2004年9月   前期

  • 電気プロセス工学基礎

    2004年4月 - 2004年9月   前期

  • 量子プロセス理工学基礎2

    2003年4月 - 2003年9月   前期

  • 電気プロセス工学基礎

    2003年4月 - 2003年9月   前期

  • 数学演習

    2002年10月 - 2003年3月   後期

  • 量子プロセス理工学基礎2

    2002年4月 - 2002年9月   前期

  • 電気プロセス工学基礎

    2002年4月 - 2002年9月   前期

  • 量子プロセス理工学基礎2

    2001年4月 - 2001年9月   前期

  • 電気プロセス工学基礎

    2001年4月 - 2001年9月   前期

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FD参加状況

  • 2005年5月   役割:参加   名称:e-learningについて

    主催組織:全学

その他教育活動及び特記事項

  • 2024年  クラス担任  学部

  • 2023年  クラス担任  学部

  • 2023年  クラス担任  学部

  • 2023年  その他特記事項  インターンシップの受け入れ(高等専門学校専攻科1名)

     詳細を見る

    インターンシップの受け入れ(高等専門学校専攻科1名)

  • 2022年  クラス担任  学部

  • 2022年  クラス担任  学部

  • 2021年  その他特記事項  インターンシップの受け入れ(高等専門学校専攻科1名)

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    インターンシップの受け入れ(高等専門学校専攻科1名)

  • 2017年  その他特記事項  インターンシップの受け入れ(高等専門学校専攻科2名)

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    インターンシップの受け入れ(高等専門学校専攻科2名)

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社会貢献活動

  • 九州大学2017年度総理工セミナー「物質材料研究の最前線」/口頭発表

    九州大学大学院総合理工学府  九州大学筑紫地区  2018年2月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:セミナー・ワークショップ

  • FIRSTシンポジウム「科学技術が拓く2030 年」/ポスター発表

    FIRSTプログラム公開活動実行委員会(株式会社早稲田総研イニシアティブ)  ベルサール新宿グランド  2014年3月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:講演会

  • 九州大学高等研究院若手研究者交流セミナー/口頭発表

    九州大学高等研究院  九州大学筑紫地区  2013年1月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:講演会

  • 平成24年度九州大学大学院総合理工学府公開講座/講師

    九州大学大学院総合理工学府  九州大学筑紫地区  2012年8月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:講演会

  • Joint public symposium of Scientific Research on Innovative Areas “Frontier science of interactions between plasmas and nano-interfaces”, Funding Program for Next Generation World-Leading Researchers and Center of Plasma Nano-interface Engineering (CPNE), Kyushu University/招待講演

    名古屋大学, 九州大学, 韓国Sungkyunkwan University  九州大学箱崎地区  2012年1月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:講演会

  • 平成22年度九州大学大学院総合理工学府セミナー/ポスター発表

    九州大学大学院総合理工学府  九州大学筑紫地区  2010年12月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:セミナー・ワークショップ

  • 平成14年度九州大学産学連携センター第89回KASTECセミナー/講師

    九州大学産学連携センター  九州大学筑紫地区  2003年1月

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    対象: 社会人・一般, 学術団体, 企業, 市民団体, 行政機関

    種別:セミナー・ワークショップ

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メディア報道

  • 九大、地上で2番目に硬い「立方晶窒化ホウ素」を改質して生体適合性を向上

    マイナビニュース  2020年10月

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    九大、地上で2番目に硬い「立方晶窒化ホウ素」を改質して生体適合性を向上

  • ニューリーダーからの1冊

    みらいぶプラス(河合塾)  2017年2月

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    ニューリーダーからの1冊

  • 九大、酸化に強い被膜法を開発 新聞・雑誌

    日刊工業新聞  2016年10月

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    九大、酸化に強い被膜法を開発

政策形成、学術振興等への寄与活動

  • 2021年6月 - 2023年2月   IEEE

    IEEE Transactions on Plasma Science, Guest Editor

  • 2019年5月 - 2021年1月   IEEE

    IEEE Transactions on Plasma Science, Guest Editor

  • 2017年12月 - 2019年2月   IEEE

    IEEE Transactions on Plasma Science, Guest Editor

  • 2012年8月 - 2019年3月   文部科学省 科学技術政策研究所 科学技術動向研究センター

    専門調査員

外国人研究者等の受け入れ状況

  • Atomic Energy Comission

    受入れ期間: 2021年10月 - 2022年9月   (期間):1ヶ月以上

    国籍:バングラデシュ人民共和国

    専業主体:文部科学省

  • 湘潭大学

    受入れ期間: 2019年10月 - 2020年3月   (期間):1ヶ月以上

    国籍:中華人民共和国

  • National Taiwan University

    受入れ期間: 2010年10月 - 2011年3月   (期間):1ヶ月以上

    国籍:台湾

  • National Taiwan University

    受入れ期間: 2009年9月 - 2010年2月   (期間):1ヶ月以上

    国籍:台湾

    専業主体:学内資金

海外渡航歴

  • 2007年3月

    滞在国名1:台湾   滞在機関名1:龍華科技大学

  • 2006年6月 - 2007年3月

    滞在国名1:グレートブリテン・北アイルランド連合王国(英国)   滞在機関名1:ケンブリッジ大学

学内運営に関わる各種委員・役職等

  • 2024年4月 - 2025年3月   専攻 副教務委員

  • 2023年4月 - 2025年3月   学科 教務委員

  • 2022年4月 - 2025年3月   学科 工学部融合基礎工学科機電コース担任

  • 2022年4月 - 2024年3月   学科 工学部同窓会評議委員

  • 2022年4月 - 2023年9月   学科 工学部Ⅲ群(S1-19)クラス担任

  • 2021年4月 - 2025年3月   学府 放射線安全委員

  • 2020年4月 - 2022年3月   専攻 ホームページ委員

  • 2020年4月 - 2021年3月   学科 広報委員

  • 2019年4月 - 2021年3月   専攻 海外連携委員会WG委員

  • 2019年4月 - 2021年3月   全学 附属図書館電子ジャーナル等検討専門委員

  • 2018年4月 - 2020年3月   専攻 集計委員

  • 2017年4月 - 2019年3月   全学 入学者選抜研究委員

  • 2016年4月 - 2018年3月   専攻 TA担当委員

  • 2016年4月 - 2018年3月   専攻 修士中間発表/修士論文発表会委員

  • 2014年4月 - 2016年3月   専攻 オープンキャンパス専門委員

  • 2012年10月 - 2019年3月   全学 グリーンアジア国際戦略プログラム(博士課程教育リーディングプログラム)担当者

  • 2011年4月 - 2014年3月   専攻 海外連携委員会WG委員

  • 2009年4月 - 2011年3月   全学 超伝導科学研究センター運営委員

  • 2009年4月 - 2011年3月   専攻 オープンキャンパス専門委員

  • 2009年4月 - 2010年3月   専攻 集計委員

  • 2008年4月 - 2012年3月   全学 総合研究博物館運営委員

  • 2007年4月 - 2009年3月   専攻 海外連携委員会WG委員

  • 2007年4月 - 2008年3月   専攻 修士中間発表/修士論文発表会委員

  • 2004年4月 - 2006年6月   専攻 安全委員

  • 2004年4月 - 2006年3月   専攻 図書委員

  • 2004年4月 - 2006年3月   専攻 副学務委員

  • 2004年4月 - 2005年3月   専攻 海外連携委員会WG委員

  • 2003年4月 - 2004年3月   専攻 広報委員

  • 2002年4月 - 2003年3月   専攻 図書委員代理

  • 2001年4月 - 2002年3月   専攻 レクリエーション委員

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