九州大学 研究者情報
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浅野 種正(あさのたねまさ) データ更新日:2019.04.19



主な研究テーマ
半導体実装プロセスのその場観察技術に関する研究
キーワード:歪みセンサー,その場観察,マイクロ接合,ワイヤーボンディング,フリップチップ実装,三次元実装
2006.04.
テラヘルツ帯ビデオイメージングデバイスの開発
キーワード:テラヘルツ,イメージング,ビデオ,3DIC
2014.10~2020.03.
炭化シリコン(SiC)のデバイス・プロセス技術に関する研究
キーワード:パワーデバイス,SiC,4H-SiC,ドーピング,レーザー加工,レーザードーピング,ウエットケミカルレーザープロセス
2012.04.
三次元LSI技術に関する研究
キーワード:半導体,LSI,三次元回路,3D-LSI,マイクロバンプ,イメージセンサー,近赤外
2005.04.
半導体集積化デバイス技術に関する研究
キーワード:半導体、LSI、SOI、薄膜トランジスタ、TFT、多結晶シリコン、三次元実装、三次元回路、マイクロバンプ、イメージセンサー,テラヘルツ,レーザードーピング,炭化シリコン,SiC
1979.04~2005.03.
従事しているプロジェクト研究
JST マッチングプランナープログラム 「ワイヤボンディング時に発生する局所歪みのその場計測技術の開発」
2016.06~2017.03, 代表者:浅野種正, 九州大学.
JST CREST 「異種機能コデザインによるテラヘルツ帯ビデオイメージングデバイスの開発」
2014.10~2020.03, 代表者:浅野種正, 九州大学, 国立研究開発法人科学技術振興機構
電波と光の性質を併せ持つテラヘルツ電磁波を利用すると、煙の中の人を見るなど、これまでのカメラでは見えなかった物を見ることができ、災害救助、犯罪防止、資源探査、医療、創薬など多くの分野で新しいサービスを提供できます。本研究では電子が高速に移動できる新半導体を素材とする高性能トランジスタと極限まで雑音を低減したLSIを先進の常温実装技術で融合し、電磁波感度を従来比500倍に高め、実用的なテラヘルツビデオカメラ用撮像デバイスを創出します。.
JST A-STEP(シーズ顕在化タイプ)「高ゼータ電位Agナノ粒子を用いた電気泳動法によるシリコン貫通電極への高アスペクト比・高速電極形成技術の開発」
2015.02~2016.01, 代表者:平井俊晴, 日揮触媒化成株式会社.
JST A-STEP(ハイリスク挑戦タイプ) 「ソフトマテリアルとLSIのマイクロ接合技術の開発と装置化」
2012.10~2015.03, 代表者:野田和宏, アドウエルズ株式会社, 国立研究開発法人科学技術振興機構.
経済産業省戦略的基盤技術高度化推進事業「角形チップ用フォトレジスト塗布・現像装置の開発」
2012.10~2015.03, 代表者:扇子義久, リソテックジャパン株式会社.
経済産業省戦略的基盤技術高度化推進事業「3D-LSI用超音波アシスト先鋭マイクロバンプ接合装置の開発」
2011.10~2014.03, 代表者:野田和宏, アドウェルズ株式会社.
知的クラスター創成事業「異種機能集積システムLSIを牽引するマイクロ接合技術の研究開発」
2007.07~2012.03, 代表者:浅野種正, 九州大学
付加価値の高いシステムLSIの構成技術としてシステム・イン・パッケージ(SiP)の利用が急速に拡大している。しかし、これまでのSiPは高密度集積による小型化を価値の拠り所にしてきた。すなわち、SiPが本来備えるソリューション提供型のシステムLSI技術としての価値の一部しか実現できていない。本研究開発は、あらゆる機能の集積化が可能な「ユビキタスSiP技術」を創り上げため、あらゆるチップ・部品を接続可能な超高密度マイクロ接合技術を開発することを目的とする。この開発は人に安全、安心を提供するセンサーネットワーク等を利用した次世代IT社会において中堅中小企業でもシステムLSI事業に参加できる事業環境を地域に創る原動力となる。.
知的クラスター創成事業「カーエレクトロニクス用高機能Siデバイス創成の為の基盤技術開発」
2007.07~2012.03, 代表者:中島 寛, 九州大学
本研究開発では、アナログICの構成デバイスであるバイポーラトランジスタ(BJT)に、ストレスソース(SiGe、SiN)を形成し、Si層に縦方向への引っ張りひずみを印加して電子の走行速度を向上させる材料技術とそのデバイス化技術を確立し、デバイスの高機能化を図ることを目標とする。.
地域新生コンソーシアム(ものづくり革新枠)「九州地域産業クラスター・電子部材高度加工技術の確立」
2005.04~2008.03, 代表者:浅野種正(PL), 九州大学, 経済産業省(日本)
3年間のプロジェクトである。地域に集積した企業群の技術やノウハウを基に、小型・超小型の電子部品・材料の機能・品質を決定づける微細な鍍金、高信頼電極接合、研磨、搬送等の精密加工技術を高度化し、センシング部材等の電子部材のものづくり技術を革新し、九州及び日本の自動車、情報家電等の産業競争力を向上させるとともに新産業創成に資することを目的とする。.
知的クラスター創成事業「北九州ヒューマンテクノクラスター」(担当テーマ名:ハイパーネットワーキングSiP技術)
2004.04~2007.03, 文部科学省(日本)
「ハイパーネットワーキングSiP技術」
本事業のサブテーマ「新構造LSI」の一つである上記テーマの代表を務めている。異種機能をもつチップを集積化する場合に必要となる柔軟なプロトコル変換機能、電力制御機能とそれらを実現するための高速信号伝送回路とマイクロ電極技術を開発する。.
研究業績
主要著書
主要原著論文
主要総説, 論評, 解説, 書評, 報告書等
主要学会発表等
学会活動
所属学会名
IEEE
エレクトロニクス実装学会
応用物理学会
電子情報通信学会
学協会役員等への就任
2017.01~2018.12, IEEE, Fukuoka Section Chair.
2014.05~2016.05, エレクトロニクス実装学会, 理事.
2010.04~2012.03, 応用物理学会, 九州支部長.
2008.04~2009.03, 応用物理学会, 機関誌編集副委員長.
2008.03~2010.03, 応用物理学会, 理事.
2007.04~2008.03, 応用物理学会, 代議員.
2006.05~2008.05, 電子情報通信学会, シリコン材料・デバイス研究専門委員会 委員長.
学会大会・会議・シンポジウム等における役割
2008.01~2008.01, 2008 Int. TFT Conference , 座長(Chairmanship).
2006.01, 2nd International TFT Conference, 座長(Chairmanship).
2005.11, 2005 Int. Microprocess and Nanotechnology Conf., 座長(Chairmanship).
2005.10, 4th Int. Conf. Nanoimprint and Nanoprint Technology, 座長(Chairmanship).
2005.07, 2005 Int. Workshop on Active-Matrix Liquid-Crystal Displays, 座長(Chairmanship).
2005.06, 2005 Asia-Pacific Workshop on Fundamnetals and Applications of Advanced Semiconductor Devices, 座長(Chairmanship).
2005.05, 4th Int. Conf. Silicon Epitaxy and Heterostructures, 座長(Chairmanship).
2016.04.01~2017.03.31, 電子情報通信学会総合大会, 実行委員.
2016.01.01~2016.12.31, 2016マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議, 組織委員.
2016.01.01~2016.12.31, 2016国際固体素子・材料コンファレンス, 組織委員.
2015.09.27~2015.09.30, 2015国際固体素子・材料コンファレンス, 組織委員.
2015.05.11~2015.05.13, 11th International Conference on Nanotechnology, プログラム委員.
2014.11.04~2014.11.07, 2014マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議, 組織副委員長.
2014.09.10~2014.09.13, 2014国際固体素子・材料コンファレンス, 組織委員.
2013.09.24~2013.09.27, 2013年国際固体素子・材料コンファレンス(SSDM2013), 組織委員長.
2006.09, 国際固体素子材料コンファレンス, 組織委員.
2006.10, 国際マイクロプロセス・ナノテクノロジー会議, 実行副委員長.
2006.07, 国際アクティブマトリクス・フラットパネル・ディスプレイワークショップ, 組織副委員長.
2006.12, 国際ディプレイ・ワークショップ, 論文委員.
2006.01, 国際薄膜トランジスタ会議, 組織委員長.
2006.07, 半導体の基礎と応用に関するアジア太平洋会議, 副議長.
2007.11~2009.02, マイクロプロセスナノテクノロジー国際会議, 実行委員長.
2006.11~2008.02.10, マイクロプロセスナノテクノロジー国際会議, 実行委員長.
2008.02~2009.03, 薄膜トランジスタ国際会議, 組織委員長.
2007.10~2008.08, 先端半導体デバイスの基礎と応用に関するアジア太平洋会議, 組織委員長.
2009.01.30~2010.01.30, 国際薄膜トランジスタ会議, 組織委員長.
2008.12.01~2009.11.27, マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議, 組織副委員長.
2010.12.06~2010.12.08, 国際電子デバイス会議, プログラム委員.
2010.11.09~2010.11.12, マイクロプロセス・ナノテクノロジー国際会議, 組織委員長.
2011.09.27~2011.09.30, 国際固体素子・材料コンファレンス, 組織委員.
2011.12.04~2011.12.07, 国際電子デバイス会議, プログラム委員.
2012.01~2012.01.31, 国際薄膜トランジスタ会議, 組織委員長.
学会誌・雑誌・著書の編集への参加状況
2008.01, Applied Physics Express, 国際, 編集委員.
2005.04, Japanese Journal of Applied Physics, 国際, 編集委員.
2003.04, Micro Electronics Engineering, 国際, 編集委員.
2005.07~2007.06, Japanese Journal of Applied Physics, 国際, 特集号編集委員長.
2006.05~2008.05, 電子情報通信学会英文論文誌C, 国際, 英文アドバイザリー.
2003.04~2005.03, 電子情報通信学会英文論文誌C, 国際, 特集号編集委員.
2004.04~2008.03, 電子情報通信学会和文論文誌C, 国内, 特集号編集委員.
学術論文等の審査
年度 外国語雑誌査読論文数 日本語雑誌査読論文数 国際会議録査読論文数 国内会議録査読論文数 合計
2016年度 30  50  80 
2014年度 50  50  105 
2011年度 50  100  150 
2010年度 50  100  152 
2009年度 50  30  82 
2007年度 20  50  70 
2006年度 20  40  60 
2005年度 20  60    80 
その他の研究活動
海外渡航状況, 海外での教育研究歴
サンタクララ大学, UnitedStatesofAmerica, 1988.05~1989.03.
サリー大学, UnitedKingdom, 1977.10~1978.09.
受賞
APEX/JJAP編集貢献賞, 応用物理学会, 2014.04.
フェロー表彰, 応用物理学会, 2012.09.
Outstanding Paper Award, Microprocess and Nanotechnology Conference, 2007.11.
研究奨励賞, エレクトロニクス実装学会, 2006.11.
JJAP編集貢献賞, 応用物理学会, 2005.04.
Best Paper Award (2002 Int'l. Symp. Semiconductor Manufacturing), 米国電気電子協会、応用物理学会、SEMI, 2002.10.
Outstanding Paper Award (2000 Int'l Mocroprocess and Nanotechnology Conf.), 応用物理学会、米国電気電子協会, 2001.11.
Best Paper Award (2000 マイクロエレクトロニクスシンポジウム), エレクトロニクス実装学会, 2001.11.
Young Reseacher's Award (Int'l Conf. Solid State Devices and Materials), 応用物理学会, 2000.09.
技術開発論文賞, 日本高温学会, 1999.02.
Bomische Physical Society 会員, Bomische Physical Society, 1987.05.

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